JP2020184340A - 高精度センサ及び高度診断システムを有するマスフローコントローラ - Google Patents
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Abstract
Description
本願は、2019年4月30日付で出願された米国仮特許出願第62/841,110号の利益を主張し、その開示全体は引用することにより本明細書の一部をなす。
12 管チャネル
14 容積体
15 LFE
16 容積体
18 温度センサ
20 バルブ
22 バルブ
24 ハウジングユニット
26 位置センサ
28 制御ユニット
Claims (20)
- 少なくとも1つの上流位置及び少なくとも1つの下流位置と流体連通しているバルブアセンブリと、
前記少なくとも1つの上流位置及び前記少なくとも1つの下流位置と流体連通している少なくとも1つの半導体ベースの圧力センサと、
前記バルブアセンブリ及び前記少なくとも1つの圧力センサと通信可能に結合されたコントローラであって、
前記少なくとも1つの上流位置及び前記少なくとも1つの下流位置についての圧力を特定し、
実際の流体流量、前記圧力及び所定値に基づき、前記上流位置及び前記下流位置のうちの少なくとも一方と流体連通している少なくとも1つのバルブのバルブストロークに対する調整をもたらす、
コントローラと、
を備える、流体流量を制御するマスフローコントローラ。 - 前記少なくとも1つのバルブは、圧電バルブ又はソレノイドバルブのいずれかであり、
前記圧力センサは、絶対圧センサ及び差圧センサのうちの少なくとも一方である、請求項1に記載のマスフローコントローラ。 - 少なくとも1つのバルブと通信可能に結合された位置センサを更に備える、請求項1に記載のマスフローコントローラ。
- 前記位置センサは、半導体ベースの位置センサ、容量ベースの位置センサ、抵抗ベースの位置センサ、及び圧電抵抗ベースの位置センサのうちの1つである、請求項3に記載のマスフローコントローラ。
- 前記コントローラは、
少なくとも1つのバルブの位置を特定し、
前記実際の流体流量と、少なくとも前記圧力、位置及び別の所定値とに基づき、前記少なくとも1つのバルブのバルブストロークに対する調整をもたらす、請求項3に記載のマスフローコントローラ。 - 前記コントローラは、
少なくとも1つのバルブの前記位置を特定し、
停止信号と、前記実際の流体流量並びに少なくとも前記位置、前記圧力及び前記所定値及び前記別の所定値とに基づき、前記少なくとも1つのバルブの前記位置に対する調整をもたらす、請求項3に記載のマスフローコントローラ。 - 前記所定値は、先験的圧力情報に基づき、
前記別の所定値は、先験的位置情報に基づく、請求項1に記載のマスフローコントローラ。 - 位置センサと温度センサとを更に備え、該位置センサは少なくとも1つのバルブと通信可能に結合されている、請求項1に記載のマスフローコントローラ。
- 前記位置センサ及び前記温度センサのうちの少なくとも一方は、半導体ベースのセンサである、請求項8に記載のマスフローコントローラ。
- 前記コントローラは、
前記少なくとも1つのバルブの位置を特定し、
温度を特定し、
前記実際の流体流量と、少なくとも前記圧力、位置、温度及び前記所定バルブとに基づき、少なくとも1つのバルブのバルブストロークに対する調整をもたらす、請求項8に記載のマスフローコントローラ。 - 少なくとも1つの上流位置と少なくとも1つ下流位置との間の流体流量を制御することと、
少なくとも1つの半導体ベースの圧力センサを用いて、前記少なくとも1つの上流位置及び前記少なくとも1つの下流位置において圧力を検知することと、
前記少なくとも1つの上流位置及び前記少なくとも1つの下流位置における圧力を特定することと、
実際の流体流量、前記圧力及び所定値に基づき、前記上流位置及び前記少なくとも1つの下流位置のうちの少なくとも一方と流体連通している少なくとも1つのバルブのバルブストロークの調整をもたらすことにより、前記流量を調整することと、
を含む、マスフローコントローラを用いて流体流量を制御する方法。 - 前記少なくとも1つのバルブに通信可能に結合された位置センサから前記少なくとも1つのバルブの位置を検知することと、
前記少なくとも1つのバルブの位置を特定することと、
前記実際の流体流量と、少なくとも前記圧力、位置及び別の所定値とに基づき、前記上流位置及び前記少なくとも1つの下流位置のうちの少なくとも一方と流体連通している少なくとも1つのバルブのバルブストロークに対する調整をもたらすことにより、前記流量を調整することと、
を更に含む、請求項11に記載の方法。 - 前記位置センサは、半導体ベースの位置センサ、容量ベースの位置センサ、抵抗ベースの位置センサ及び容量ベースの位置センサのうちの1つである、請求項12に記載の方法。
- 前記少なくとも1つのバルブに通信可能に結合された位置センサを用いて前記少なくとも1つのバルブの位置を検知することと、
温度センサを用いてバルブアセンブリ内の温度を検知することと、
前記少なくとも1つのバルブの位置を特定することと、
温度を特定することと、
流体流量を特定することと、
実際の流体流量、前記圧力、温度及び所定値に基づき、前記上流位置及び前記少なくとも1つの下流位置のうちの少なくとも一方と流体連通している少なくとも1つのバルブのバルブストロークに対する調整をもたらすことと、
を更に含む、請求項11に記載の方法。 - 前記位置センサ及び前記温度センサのうちの少なくとも一方は、半導体ベースの位置センサである、請求項14に記載の方法。
- 前記所定値は、少なくとも一部には層流素子の特性に基づく流体流量である、請求項11に記載の方法。
- 前記所定値は、先験的圧力情報に基づき、
前記別の所定値は、先験的位置情報に基づく、請求項11に記載の方法。 - 少なくとも1つの上流位置及び少なくとも1つの下流位置と流体連通しているバルブアセンブリと、
前記バルブアセンブリの少なくとも1つのバルブに通信可能に結合された少なくとも1つの半導体ベースの位置センサと、
前記バルブアセンブリ及び前記少なくとも1つの位置センサと通信可能に結合されたコントローラであって、
少なくとも1つのバルブについての位置を特定し、
実際の流体流量と、上流位置及び下流位置のうちの少なくとも一方に関連付けられた圧力測定値と、前記位置と、所定値とに基づき、前記上流位置及び前記下流位置のうちの少なくとも一方と流体連通している少なくとも1つのバルブのバルブストロークに対する調整をもたらす、
コントローラと、
を備える、流体流量を制御するマスフローコントローラ。 - 前記所定値は、先験的位置情報に基づく、請求項18に記載のマスフローコントローラ。
- 半導体ベースの温度センサ、
を更に備え、
前記コントローラは、
少なくとも1つのバルブの位置を特定し、
温度を特定し、
前記実際の流体流量と、少なくとも前記圧力、位置、温度及び前記所定バルブとに基づき、前記少なくとも1つのバルブのバルブストロークに対する調整をもたらす、
請求項18に記載のマスフローコントローラ。
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