JP2018201042A - インプリントモールド、インプリントモールド用ブランクス、並びにインプリントモールド用基板の製造方法及びインプリントモールドの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
再生対象たるインプリントモールドとして、微細凹凸パターン5を有しない以外は、図1に示す構成を有するインプリントモールド1を被験試料として準備した。
研磨スラリー:コロイダルシリカを含む研磨スラリー
研磨装置:自転公転式研磨装置
研磨パッド:スウェード系研磨パッド
研磨量:1000nm
凸部4を有しない以外は、実施例1と同様の構成を有するインプリントモールドを用意し、実施例1と同様に凸構造部3の上面3Aに研磨処理を施した。
2…基部
2A…第1の面
2B…第2の面
3…凸構造部
4…凸部
5…微細凹凸パターン
6…窪み部
かかるインプリントモールド用ブランクスにおいて、前記凸部は、前記第1の面上に複数設けられており、前記各凸部は、前記第1の面側からの平面視において、前記凸構造部を中心とした対称性を有する位置に設けられていればよく、前記凸構造部は、平面視矩形状であり、前記第1の面上における前記凸構造部の周囲の領域に、前記凸構造部と同一形状の矩形領域を複数並列配置したときに、前記凸部は、前記矩形領域のいずれかの辺上に位置していてもよい。
また、本発明は、上記インプリントモールド用ブランクスの前記凸構造部の上面に微細凹凸パターンが形成されているインプリントモールドを用い、被転写基板に転写パターンを形成することを特徴とするインプリント方法を提供する。かかるインプリント方法において、前記インプリントモールドを用い、前記被転写基板の複数の領域にステップアンドリピート方式により前記転写パターンを形成すればよく、前記凸部の寸法が、前記被転写基板のスクライブラインよりも小さい寸法であればよい。
Claims (1)
- 第1の面及び当該第1の面に対向する第2の面を有する基部と、
前記第1の面から突出する凸構造部及び凸部と、
前記凸構造部の上面に形成されている微細凹凸パターンと
を備え、
前記凸部は、前記第1の面側からの平面視において前記凸構造部の周囲に位置しており、
前記凸部の高さは、前記凸構造部の高さと実質的に同一であることを特徴とするインプリントモールド。
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