JP6375718B2 - インプリントモールド用基材、インプリントモールド及びそれらの製造方法、並びにインプリントモールド用基材の評価方法 - Google Patents
インプリントモールド用基材、インプリントモールド及びそれらの製造方法、並びにインプリントモールド用基材の評価方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6375718B2 JP6375718B2 JP2014129148A JP2014129148A JP6375718B2 JP 6375718 B2 JP6375718 B2 JP 6375718B2 JP 2014129148 A JP2014129148 A JP 2014129148A JP 2014129148 A JP2014129148 A JP 2014129148A JP 6375718 B2 JP6375718 B2 JP 6375718B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- imprint mold
- substrate
- volume
- imprint
- pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
上記数式(1)及び(2)において、W MAX は「最大たわみ量(m)」を、Rは「凹部の半径(mm)」を、pは「真空吸着によりインプリントモールド用基材に印加される圧力(Pa)」を、tは「インプリントモールド用基材の厚さ(mm)」を、vは「ポアゾン比」を、Eは「ヤング率(Pa)」を、Dは「たわみ剛性」を表す。
本発明は、第1の面及び当該第1の面に対向する第2の面を有する基部を備え、微細凹凸パターンの形成されるパターン領域が前記第1の面側に設定されており、前記第2の面側の平面視略中央に窪み部が形成されているインプリントモールド用基材の評価方法であって、前記インプリントモールド用基材の前記第2の面側における前記窪み部の周囲の領域内に存在する凹部が、基準体積以上の凹凸体積を有するか否かを評価する工程を含み、前記評価する工程は、前記基準体積を求める工程と、前記凹部の前記凹凸体積を求める工程と、前記基準体積及び前記凹凸体積を対比して前記凹部が前記基準体積以上の前記凹凸体積を有するか否かを判断する工程とを有し、前記基準体積を求める工程は、前記インプリントモールド用基材の前記第2の面側からの真空吸着によって前記凹部に対向する前記第1の面上に生じる凹みの最大深さで表される最大たわみ量を、下記数式(1)及び(2)から算出する工程と、前記最大たわみ量及び前記凹部の半径に基づき、前記パターン領域の外縁部近傍における変形量と前記凹部の半径との関係を求める工程と、前記凹部が円錐状であると仮定し、前記変形量を前記円錐の高さとして前記円錐の体積を算出し、前記円錐の体積と前記変形量との関係から、前記インプリントモールド用基材に許容される前記変形量に応じた前記円錐の体積を前記基準体積として求める工程とを有し、前記凹凸体積を求める工程は、前記インプリントモールド用基材を前記第2の面側から真空吸着する工程と、前記真空吸着された前記インプリントモールド用基材の前記第1の面の高さ分布を計測することで、前記第1の面の面形状を取得する工程と、前記第1の面の面形状を回転楕円体で近似し、前記第1の面の高さ分布と前記回転楕円体面の高さとの差分を算出する工程と、前記算出された前記差分を積分することで、前記凹凸体積を求める工程とを有することを特徴とするインプリントモールド用基材の評価方法を提供する(発明6)。
上記数式(1)及び(2)において、WMAXは「最大たわみ量(m)」を、Rは「凹部の半径(mm)」を、pは「真空吸着によりインプリントモールド用基材に印加される圧力(Pa)」を、tは「インプリントモールド用基材の厚さ(mm)」を、vは「ポアゾン比」を、Eは「ヤング率(Pa)」を、Dは「たわみ剛性」を表す。
本発明は、第1の面及びそれに対向する第2の面を有する基部における前記第2の面の平面視略中央に窪み部を形成することでインプリントモールド用基材を作製する工程と、前記作製された前記インプリントモールド用基材を評価する基材評価工程とを含み、前記基材評価工程において、上記インプリントモールド用基材の評価方法に従って前記インプリントモールド用基材を評価することで、前記第2の面側における前記窪み部の周囲の領域内に、前記基準体積以上の前記凹凸体積を有する前記凹部が存在しない前記インプリントモールド用基材を選別することを特徴とするインプリントモールド用基材の製造方法を提供する(発明7)。
本発明は、上記インプリントモールド用基材の製造方法により製造された前記インプリントモールド用基材の前記第1の面の前記パターン領域に微細凹凸パターンを形成する工程を含むことを特徴とするインプリントモールドの製造方法を提供する(発明8)。
まず、インプリントモールド用基材1の第2の面2bに存在し得る凹部の半径Rと最大たわみ量WMAX(m)との関係を求める。具体的には、図4(A)に示すように、第2の面2bに存在し得る凹部21上(インプリントモールド用基材1の厚さ方向)の部分22を周辺固定円板と仮定して、当該凹部21の半径Rと、最大たわみ量WMAX(m)との関係を下記数式(1)及び(2)により求める。
本実施形態におけるインプリントモールド10は、図8に示すように、上述した本実施形態に係るインプリントモールド用基材1の第1の面2a側、すなわち凸構造部3の上面3a(パターン領域PA)に微細凹凸パターン11が形成されてなる。
インプリントモールド用基材1として平面視正方形状の石英ガラス基板(152mm×152mm)を準備し、上記数式(1)及び(2)により最大たわみ量WMAXを算出し、図5〜7に示すようなグラフを作成した(ヤング率E:7.26967×1010Pa,ポアゾン比v:0.18,インプリントモールド用基材1の厚さt:6.35mm,真空吸着によりインプリントモールド用基材1に印加される圧力:101300Pa)。そして、当該グラフから、基準体積Vbを算出した。その結果、基準体積Vbは、5.7×10-11(m3)であった。なお、許容変形量は、ITRSのロードマップにおけるX方向及びY方向の位置精度の要求に従い、3.4nm(3σ)とした。
実施例1と同様にして、インプリントモールド用基材1を基板ステージ50上に載置し、真空吸着した状態で、第1の面2a側の面形状を計測して最大凹部体積を算出した。その結果、最大凹部体積は、7.74×10-11(m3)であり、基準体積Vb以上であった。
2…基部
2a…第1の面
2b…第2の面
3…凸構造部
4…窪み部
10…インプリントモールド
11…微細凹凸パターン
Claims (8)
- 第1の面及び当該第1の面に対向する第2の面を有する基部を備え、
微細凹凸パターンの形成されるパターン領域が前記第1の面側に設定されており、
前記第2の面側の平面視略中央に窪み部が形成されており、
前記第2の面側における前記窪み部の周囲の領域内に、基準体積以上の凹凸体積を有し、前記パターン領域に形成される前記微細凹凸パターンの倍率に影響を与える程度の歪みを前記パターン領域に生じさせる凹部が存在せず、
前記基準体積は、下記数式(1)及び(2)から算出される前記凹部の半径と最大たわみ量との関係に基づいて求められる前記パターン領域に許容される許容変形量に応じた体積であることを特徴とするインプリントモールド用基材。
- 前記凹凸体積は、前記第2の面の面形状に基づいて算出される体積であることを特徴とする請求項1に記載のインプリントモールド用基材。
- 前記第2の面の面形状は、前記第2の面側から前記インプリントモールド用基材を真空吸着したときの前記第1の面の面形状であることを特徴とする請求項2に記載のインプリントモールド用基材。
- 前記凹凸体積は、前記第2の面側から前記インプリントモールド用基材を真空吸着したときの前記第1の面の面形状を回転楕円体で近似し、前記回転楕円体で近似された前記第1の面の面形状に基づいて算出される体積であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のインプリントモールド用基材。
- 請求項1〜4のいずれかに記載のインプリントモールド用基材の前記第1の面側の前記パターン領域に前記微細凹凸パターンが形成されてなることを特徴とするインプリントモールド。
- 第1の面及び当該第1の面に対向する第2の面を有する基部を備え、微細凹凸パターンの形成されるパターン領域が前記第1の面側に設定されており、前記第2の面側の平面視略中央に窪み部が形成されているインプリントモールド用基材の評価方法であって、
前記インプリントモールド用基材の前記第2の面側における前記窪み部の周囲の領域内に存在する凹部が、基準体積以上の凹凸体積を有するか否かを評価する工程を含み、
前記評価する工程は、前記基準体積を求める工程と、前記凹部の前記凹凸体積を求める工程と、前記基準体積及び前記凹凸体積を対比して前記凹部が前記基準体積以上の前記凹凸体積を有するか否かを判断する工程とを有し、
前記基準体積を求める工程は、
前記インプリントモールド用基材の前記第2の面側からの真空吸着によって前記凹部に対向する前記第1の面上に生じる凹みの最大深さで表される最大たわみ量を、下記数式(1)及び(2)から算出する工程と、
前記最大たわみ量及び前記凹部の半径に基づき、前記パターン領域の外縁部近傍における変形量と前記凹部の半径との関係を求める工程と、
前記凹部が円錐状であると仮定し、前記変形量を前記円錐の高さとして前記円錐の体積を算出し、前記円錐の体積と前記変形量との関係から、前記インプリントモールド用基材に許容される前記変形量に応じた前記円錐の体積を前記基準体積として求める工程と
を有し、
前記凹凸体積を求める工程は、
前記インプリントモールド用基材を前記第2の面側から真空吸着する工程と、
前記真空吸着された前記インプリントモールド用基材の前記第1の面の高さ分布を計測することで、前記第1の面の面形状を取得する工程と、
前記第1の面の面形状を回転楕円体で近似し、前記第1の面の高さ分布と前記回転楕円体面の高さとの差分を算出する工程と、
前記算出された前記差分を積分することで、前記凹凸体積を求める工程と
を有することを特徴とするインプリントモールド用基材の評価方法。
- 第1の面及びそれに対向する第2の面を有する基部における前記第2の面の平面視略中央に窪み部を形成することでインプリントモールド用基材を作製する工程と、
前記作製された前記インプリントモールド用基材を評価する基材評価工程と
を含み、
前記基材評価工程において、請求項6に記載のインプリントモールド用基材の評価方法に従って前記インプリントモールド用基材を評価することで、前記第2の面側における前記窪み部の周囲の領域内に、前記基準体積以上の前記凹凸体積を有する前記凹部が存在しない前記インプリントモールド用基材を選別することを特徴とするインプリントモールド用基材の製造方法。 - 請求項7に記載のインプリントモールド用基材の製造方法により製造された前記インプリントモールド用基材の前記第1の面の前記パターン領域に微細凹凸パターンを形成する工程を含むことを特徴とするインプリントモールドの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014129148A JP6375718B2 (ja) | 2014-06-24 | 2014-06-24 | インプリントモールド用基材、インプリントモールド及びそれらの製造方法、並びにインプリントモールド用基材の評価方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014129148A JP6375718B2 (ja) | 2014-06-24 | 2014-06-24 | インプリントモールド用基材、インプリントモールド及びそれらの製造方法、並びにインプリントモールド用基材の評価方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018138451A Division JP6575646B2 (ja) | 2018-07-24 | 2018-07-24 | インプリントモールド用基材及びインプリントモールド |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016009750A JP2016009750A (ja) | 2016-01-18 |
JP6375718B2 true JP6375718B2 (ja) | 2018-08-22 |
Family
ID=55227124
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014129148A Active JP6375718B2 (ja) | 2014-06-24 | 2014-06-24 | インプリントモールド用基材、インプリントモールド及びそれらの製造方法、並びにインプリントモールド用基材の評価方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6375718B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018166227A (ja) * | 2018-07-24 | 2018-10-25 | 大日本印刷株式会社 | インプリントモールド用基材及びインプリントモールド |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6784108B2 (ja) * | 2016-09-12 | 2020-11-11 | 大日本印刷株式会社 | レプリカモールドの製造方法及びインプリント装置 |
JP6954436B2 (ja) * | 2016-09-12 | 2021-10-27 | 大日本印刷株式会社 | レプリカモールドの製造方法及びインプリント装置 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004296939A (ja) * | 2003-03-27 | 2004-10-21 | Toshiba Corp | 位置歪み補正装置、露光システム、露光方法及び位置歪み補正プログラム |
JP5469041B2 (ja) * | 2010-03-08 | 2014-04-09 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 微細構造転写方法およびその装置 |
JP5664470B2 (ja) * | 2010-06-28 | 2015-02-04 | 信越化学工業株式会社 | ナノインプリント用合成石英ガラス基板の製造方法 |
JP2013105755A (ja) * | 2011-11-10 | 2013-05-30 | Bridgestone Corp | アライメント方法及び凹凸パターン形成方法 |
JP2013110162A (ja) * | 2011-11-17 | 2013-06-06 | Canon Inc | インプリント装置及び物品の製造方法 |
-
2014
- 2014-06-24 JP JP2014129148A patent/JP6375718B2/ja active Active
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018166227A (ja) * | 2018-07-24 | 2018-10-25 | 大日本印刷株式会社 | インプリントモールド用基材及びインプリントモールド |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2016009750A (ja) | 2016-01-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6028413B2 (ja) | ナノインプリント用テンプレートの製造方法及びテンプレート | |
JP5804160B2 (ja) | インプリント方法およびインプリントモールドの製造方法 | |
JP6019685B2 (ja) | ナノインプリント方法及びナノインプリント装置 | |
JP6273860B2 (ja) | インプリントモールド及び半導体デバイスの製造方法 | |
TWI538797B (zh) | 奈米壓印方法、用於執行該奈米壓印方法的奈米壓印裝置、以及圖案化基底的製造方法 | |
JP6375718B2 (ja) | インプリントモールド用基材、インプリントモールド及びそれらの製造方法、並びにインプリントモールド用基材の評価方法 | |
JP2017163040A (ja) | パターンの欠陥の分析を行う方法、インプリント装置、及び物品の製造方法 | |
JP2014110368A (ja) | ナノインプリント方法およびそれを用いたパターン化基板の製造方法 | |
JP6361317B2 (ja) | 位置精度推定方法及び位置精度保証方法 | |
JP6954436B2 (ja) | レプリカモールドの製造方法及びインプリント装置 | |
JP6579233B2 (ja) | インプリント用モールドおよびインプリント方法 | |
JP6575646B2 (ja) | インプリントモールド用基材及びインプリントモールド | |
JP2019201224A (ja) | インプリントモールド用基材及びインプリントモールド | |
JP2017103363A (ja) | ナノインプリント用モールドの寸法補正方法及びナノインプリント用モールドの製造方法 | |
JP2015147360A (ja) | インプリントモールドとこれを用いたインプリント方法およびインプリントモールドを製造するためのマスターモールド | |
JP6988223B2 (ja) | インプリントモールド及びインプリントモールドの製造方法 | |
JP6314609B2 (ja) | インプリントレプリカモールド及びインプリントレプリカモールドの製造方法 | |
JP6972581B2 (ja) | インプリントモールド及びインプリントモールドの製造方法 | |
JP6459284B2 (ja) | インプリントモールドの検査方法及び製造方法 | |
JP6776757B2 (ja) | 多段構造体を有するテンプレートの製造方法 | |
JP6384537B2 (ja) | ナノインプリント用テンプレート | |
JP6784108B2 (ja) | レプリカモールドの製造方法及びインプリント装置 | |
JP6753197B2 (ja) | インプリントモールド | |
JP2020057783A (ja) | インプリントモールド用基板及びインプリントモールド、並びにそれらの製造方法 | |
JP2016192522A (ja) | インプリントモールドの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170425 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180209 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180220 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180419 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180502 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180614 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180626 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180709 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6375718 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |