JP2017163040A - パターンの欠陥の分析を行う方法、インプリント装置、及び物品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】制御装置は、インプリント処理済みの基板におけるパターンの欠陥分布を取得し、基板へのインプリント材の配置を示すマップ情報を取得し、欠陥分布における欠陥の位置と、マップ情報から予測される、インプリント処理によってインプリント材が押し広げられる過程で生じるインプリント材隙間の位置との関係に基づいて、欠陥の種別を判定する。
【選択図】 図1
Description
前記基板における前記パターンの欠陥分布を取得する工程と、
前記基板への前記インプリント材の配置を示すマップ情報を取得する工程と、
前記欠陥分布における欠陥の位置と、前記マップ情報から予測される、前記インプリント処理によって前記インプリント材が押し広げられる過程で生じるインプリント材隙間の位置との関係に基づいて、前記欠陥の種別を判定する工程と、
を有することを特徴とする方法が提供される。
図1に本実施形態に係るインプリントシステムの構成例を示す。インプリントシステムは、インプリント装置100、制御装置200、欠陥検査装置300、基板格納容器500、搬送装置400を含む。インプリント装置100は、基板上のインプリント材に型(モールド)に形成されたパターンを接触させ、インプリント材を硬化させることで基板上にパターンを転写する装置である。欠陥検査装置300は、インプリント装置100で処理された基板に形成されたパターンの欠陥を検査する装置である。欠陥検査装置300は光学式欠陥検査装置でありうるが、電子線方式の欠陥検査装置等であってもよい。基板格納容器500は、未処理基板および処理済み基板を格納する。搬送装置400は、搬送経路600を介して、インプリント装置100と、欠陥検査装置300と、基板格納容器500との間で基板を搬送する。制御装置200は、インプリント装置100、欠陥検査装置300、搬送装置400の動作を統括的に制御するコンピュータ装置であり、後述する欠陥低減処理を行う装置としても機能する。
本発明の実施形態に係る物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板上のインプリント材に上記インプリント装置を用いてパターン形成を行う工程(インプリント処理を基板に行う工程)と、かかる工程でパターンを形成された基板(インプリント処理を行われた基板)を加工する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
本発明は、上述の実施形態の1以上の機能を実現するプログラムを、ネットワーク又は記憶媒体を介してシステム又は装置に供給し、そのシステム又は装置のコンピュータにおける1つ以上のプロセッサーがプログラムを読出し実行する処理でも実現可能である。また、1以上の機能を実現する回路(例えば、ASIC)によっても実現可能である。
Claims (14)
- 基板の上のインプリント材に型に形成されたパターンを接触させ、該インプリント材を硬化させることによって、前記基板の上に前記パターンを転写するインプリント処理が行われた基板に生じた前記パターンの欠陥の分析を行う方法であって、
前記基板における前記パターンの欠陥分布を取得する工程と、
前記基板への前記インプリント材の配置を示すマップ情報を取得する工程と、
前記欠陥分布における欠陥の位置と、前記マップ情報から予測される、前記インプリント処理によって前記インプリント材が押し広げられる過程で生じるインプリント材隙間の位置との関係に基づいて、前記欠陥の種別を判定する工程と、
を有することを特徴とする方法。 - 前記欠陥の種別を判定する工程は、前記欠陥と前記予測されたインプリント材隙間の位置との距離が閾値以内であるときに当該欠陥を前記インプリント材の未充填に起因する欠陥であると判定する工程を含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記欠陥の種別を判定する工程は、更に、前記距離が前記閾値以内でないときに当該欠陥を異物の付着に起因する欠陥であると判定する工程を含むことを特徴とする請求項2に記載の方法。
- 前記マップ情報を取得する工程に代えて、
前記欠陥分布における欠陥の繰返し周期を算出する工程と、
前記算出された繰返し周期の大きさの単位格子で前記欠陥分布を領域分割する工程と、
前記領域分割された欠陥分布を重ね合わせて前記単位格子における欠陥密度分布を算出する工程と、
を有し、
前記欠陥の種別を判定する工程は、前記算出された欠陥密度分布に基づいて、前記欠陥分布における欠陥の種別を判定する
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の方法。 - 前記欠陥の種別を判定する工程は、前記欠陥が前記欠陥密度分布における高密度領域に属する場合に当該欠陥を前記インプリント材の未充填に起因する欠陥であると判定する工程を含むことを特徴とする請求項4に記載の方法。
- 前記欠陥の種別を判定する工程は、更に、前記欠陥が前記高密度領域に属しない場合に当該欠陥を異物の付着に起因する欠陥であると判定する工程を含むことを特徴とする請求項5に記載の方法。
- コンピュータに請求項1乃至6のいずれか1項に記載の方法における各工程を実行させるためのプログラム。
- 基板の上のインプリント材に型に形成されたパターンを接触させ、該インプリント材を硬化させることによって、前記基板の上に前記パターンを転写するインプリント処理を行うインプリント装置であって、
前記基板のショット領域に前記インプリント材を配置する配置部と、
制御部と、
を有し、
前記制御部は、
前記基板における前記パターンの欠陥分布を取得し、
前記基板への前記インプリント材の配置を示すマップ情報を取得し、
前記欠陥分布における欠陥の位置と、前記マップ情報から予測される、前記インプリント処理によって前記インプリント材が押し広げられる過程で生じるインプリント材隙間の位置との関係に基づいて、前記欠陥の種別を判定する
ことを特徴とするインプリント装置。 - 前記制御部は、前記欠陥と前記予測されたインプリント材隙間の位置との距離が閾値以内であるときに当該欠陥を前記インプリント材の未充填に起因する欠陥であると判定することを特徴とする請求項8に記載のインプリント装置。
- 前記制御部は、更に、前記距離が前記閾値以内でないときに当該欠陥を異物の付着に起因する欠陥であると判定することを特徴とする請求項9に記載のインプリント装置。
- 前記制御部は、前記マップ情報を取得することに代えて、
前記欠陥分布における欠陥の繰返し周期を算出し、
前記算出された繰返し周期の大きさの単位格子で前記欠陥分布を領域分割し、
前記領域分割された欠陥分布を重ね合わせて前記単位格子における欠陥密度分布を算出し、
前記算出された欠陥密度分布に基づいて、前記欠陥分布における欠陥の種別を判定する
ことを特徴とする請求項8乃至10のいずれか1項に記載のインプリント装置。 - 前記制御部は、前記欠陥が前記欠陥密度分布における高密度領域に属する場合に当該欠陥を前記インプリント材の未充填に起因する欠陥であると判定することを特徴とする請求項11に記載のインプリント装置。
- 前記制御部は、更に、前記欠陥が前記高密度領域に属しない場合に当該欠陥を異物の付着に起因する欠陥であると判定することを特徴とする請求項12に記載のインプリント装置。
- 請求項8乃至13のいずれか1項に記載のインプリント装置を用いてパターン形成を基板に行う工程と、
前記工程で前記パターン形成を行われた前記基板を処理する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
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