JP6361317B2 - 位置精度推定方法及び位置精度保証方法 - Google Patents
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Description
本実施形態に係る転写パターンの位置精度推定方法を説明するにあたり、まずは、本実施形態におけるレプリカモールドの具体的構成の一例を、以下に説明する。
続いて、上述したような構成を有するレプリカモールド1を作製する方法を説明する。
まず、第1の面2a側から突出する凸構造部3の上面3aにハードマスク層20が形成され、第2の面2b側に窪み部4が形成されているレプリカモールド用基材10を準備し、当該レプリカモールド用基材10をインプリント装置(図示せず)の基板ステージ50上に載置する(図3(a)参照)。
本実施形態に係る転写パターンの位置精度推定方法においては、図1に示すように、上述のようにして作製したレプリカモールド1を真空吸着可能な基板ステージ(例えば、インプリント装置における基板ステージ等)等に載置して、当該レプリカモールド1を真空吸着する(S101)。そして、レーザー変位計(例えば、LK−G5000,キーエンス社製)等を用いて、基板ステージ上に真空吸着されたレプリカモールド1の第1の面2aの高さ分布を計測し、当該高さ分布データから第1の面2aの面形状を取得する(S102)。
平面視正方形状の石英ガラス基板(152mm×152mm)の第1の面2aから凸構造部3(33mm×26mm)が突出するとともに、当該凸構造部3の上面3aにラインアンドスペース状の微細凹凸パターン5(短手方向寸法:40nm)が形成され、第2の面2bに窪み部4(半径:32mm)が形成されているレプリカモールド1を準備した。
平面視正方形状の石英ガラス基板(152mm×152mm)の第1の面2aから凸構造部3(33mm×26mm)が突出するとともに、当該凸構造部3の上面3aにラインアンドスペース状の微細凹凸パターン5(短手方向寸法:40nm)が形成され、第2の面2bに窪み部4(半径:32mm)が形成されているレプリカモールド1(実施例1とは別個のレプリカモールド1)を準備した。
2…基部
2a…第1の面
2b…第2の面
3…凸構造部
4…窪み部
5…微細凹凸パターン
Claims (5)
- 第1の面及び当該第1の面に対向する第2の面を有する基部を備え、前記第1の面側に微細凹凸パターンが形成され、前記第2の面側の平面視略中央に窪み部が形成されているインプリントモールドを用いたインプリント処理により前記微細凹凸パターンが転写され形成される転写パターンの位置精度を推定する方法であって、
前記インプリントモールドの前記第2の面の面形状を測定する工程と、
前記第2の面の面形状に基づいて、前記第2の面側における前記窪み部の周囲の領域内に存在する凹凸部の凹凸体積を算出する工程と、
前記凹凸部の存在に起因して生じる、前記微細凹凸パターンの周囲における前記第1の面の変形に関する情報を前記凹凸体積に基づいて取得し、前記微細凹凸パターンの周囲における前記第1の面の変形に関する情報から、前記インプリントモールドの前記微細凹凸パターンの変形に関する情報を取得する工程と、
前記インプリントモールドの前記微細凹凸パターンの位置情報及び前記微細凹凸パターンの変形に関する情報に基づき、前記インプリント処理時における前記インプリントモールドの前記微細凹凸パターンの位置情報を算出する工程と
を有し、
前記インプリント処理時における前記インプリントモールドの前記微細凹凸パターンの位置情報から、前記転写パターンの位置精度を推定することを特徴とする転写パターンの位置精度推定方法。 - 前記第2の面側から前記インプリントモールドを真空吸着したときの前記第1の面の面形状を前記第2の面の面形状と仮定して、当該第1の面の面形状を測定し、
測定された前記第1の面の面形状に基づいて、前記凹凸体積を算出することを特徴とする請求項1に記載の転写パターンの位置精度推定方法。 - 前記第2の面側から前記インプリントモールドを真空吸着したときの前記第1の面の面形状を前記第2の面の面形状と仮定して、当該第1の面の面形状を測定し、
測定された前記第1の面の面形状を回転楕円体で近似し、前記回転楕円体で近似された前記第1の面の面形状に基づいて、前記凹凸体積を算出することを特徴とする請求項1又は2に記載の転写パターンの位置精度推定方法。 - 前記第2の面側における前記窪み部の周囲の領域を複数の領域に区分し、前記微細凹凸パターンの変形に関する情報としての当該各領域における変形量及び変形方向を、前記凹凸体積に基づいて求めることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の転写パターンの位置精度推定方法。
- 第1の面及び当該第1の面に対向する第2の面を有する基部を備え、前記第1の面側に微細凹凸パターンが形成され、前記第2の面側の平面視略中央に窪み部が形成されているインプリントモールドを用いたインプリント処理により前記微細凹凸パターンが転写され形成される転写パターンの位置精度を保証する方法であって、
請求項1〜4のいずれかに記載の転写パターンの位置精度推定方法により取得した前記インプリント処理時における前記微細凹凸パターンの位置情報が、前記インプリントモールドの納品先における当該インプリントモールドの前記微細凹凸パターンに対する要求位置精度の範囲内である場合に、前記インプリント処理時における前記微細凹凸パターンの位置情報を、前記転写パターンの位置精度を保証するための保証情報として取得することを特徴とする転写パターンの位置精度保証方法。
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