JP2018193569A - ポリイミド及びポリイミド前駆体 - Google Patents
ポリイミド及びポリイミド前駆体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018193569A JP2018193569A JP2018170151A JP2018170151A JP2018193569A JP 2018193569 A JP2018193569 A JP 2018193569A JP 2018170151 A JP2018170151 A JP 2018170151A JP 2018170151 A JP2018170151 A JP 2018170151A JP 2018193569 A JP2018193569 A JP 2018193569A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polyimide
- derivative
- diamine
- light transmittance
- tetracarboxylic acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- JEHSYUPFRSUVSC-UHFFFAOYSA-N CCC(C)(CC)C(CC1)CCC1NC(C)=O Chemical compound CCC(C)(CC)C(CC1)CCC1NC(C)=O JEHSYUPFRSUVSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 0 CCC*(CC)NC(C)=O Chemical compound CCC*(CC)NC(C)=O 0.000 description 1
Landscapes
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Abstract
Description
前記ジアミン誘導体が、光透過率が90%以上である芳香環を有しないジアミン誘導体、または光透過率が80%以上である芳香環を有するジアミン誘導体を含有し(但し、ジアミン誘導体の透過率は、純水もしくはN、N−ジメチルアセトアミドに10質量%の濃度に溶解して得られた溶液に対する波長400nm、光路長1cmの光透過率を表す。)、
前記テトラカルボン酸誘導体が、光透過率が75%以上であるテトラカルボン酸誘導体を含有する(但し、テトラカルボン酸誘導体の透過率は、2規定水酸化ナトリウム溶液に10質量%の濃度に溶解して得られた溶液に対する波長400nm、光路長1cmの透過率を表す。)
ことを特徴とするポリイミド。
テトラカルボン酸誘導体が、光透過率が80%以上、好ましくは85%以上、より好ましくは90%以上であるテトラカルボン酸誘導体(前述のとおり、テトラカルボン酸類及びそれらの誘導体を含む。)を含有する(但し、光透過率は、2規定水酸化ナトリウム溶液に10質量%の濃度に溶解して得られた溶液に対する波長400nm、光路長1cmの透過率)ことを特徴とする。ジアミン誘導体、テトラカルボン酸誘導体の光透過率が上記の範囲の場合は、得られるポリイミドの着色が低減されるため、良好である。また、ジアミン誘導体を構成するジアミン成分(1種または2種以上)の好ましくは80%以上、より好ましくは90%以上、さらに好ましくは95%以上、最も好ましくは100%が、上記の光透過率を満たす。テトラカルボン酸誘導体を構成するテトラカルボン酸成分(1種または2種以上)の好ましくは80%以上、より好ましくは90%以上、さらに好ましくは95%以上、最も好ましくは100%が、上記の光透過率を満たす。
芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3’,3,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸二無水物、オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、m−ターフェニル−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸二無水物、4,4’−(2,2−ヘキサフルオロイソプロピレン)ジフタル酸二無水物、2,2’−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン類、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、(1,1’:3’,1”−ターフェニル)−3,3”,4,4”−テトラカルボン酸二無水物、4,4’−(ジメチルシラジイル)ジフタル酸二無水物、4,4’−(1,4−フェニレンビス(オキシ))ジフタル酸二無水物など、
脂環式テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ビシクロ[2.2.2]オクト−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.2]オクタン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、5−(ジオキソテトラヒドロフリル−3−メチル)−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物、4−(2,5−ジオキソテトラヒドロフラン−3−イル)−テトラリン−1,2−ジカルボン酸無水物、テトラヒドロフラン−2,3,4,5−テトラカルボン酸二無水物、ビシクロ−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸二無水物、3c−カルボキシメチルシクロペンタン−1r,2c,4c−トリカルボン酸1,4,2,3−二無水物、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。特にポリイミドの機械特性や耐熱性が優れるため、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3’,3,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸二無水物、4,4’−(2,2−ヘキサフルオロイソプロピレン)ジフタル酸二無水物、4,4’−(ジメチルシラジイル)ジフタル酸二無水物が好適である。3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3’,3,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物は、ポリイミドの熱線膨張係数が低いため特に好ましい。
(1)溶剤と、テトラカルボン酸誘導体粉末を、少なくとも一部のテトラカルボン酸誘導体粉末が溶解していない不均一な状態で混合し、次いで混合液から未溶解のテトラカルボン酸誘導体粉末を分離回収する精製方法、
(2)酸無水物を含む溶液で再結晶する精製方法、
(3)加熱減圧下で昇華する精製方法
また、これらの方法を複数繰り返すことや、組み合わせて精製することもできる。
例えば、芳香環を有しないジアミンとしては、ジアミノブタン、ジアミノペンタン、ジアミノヘキサン、ジアミノヘプタン、ジアミノオクタン、ジアミノノナン、ジアミノデカン、ジアミノウンデカン、ジアミノドデカンなどの直鎖状および分枝状の脂肪族ジアミン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、1,3−ジアミノシクロヘキサン、1,2−ジアミノシクロヘキサン、3−メチル−1,4−ジアミノシクロヘキサン、3−メチル−、3−アミノメチル−、5,5−ジメチルシクロヘキシルアミン、1,3−ビスアミノメチルシクロヘキサン、ビス(4,4′−アミノシクロヘキシル)メタン、ビス(3,3′−メチル−4,4′−アミノシクロヘキシル)メタン、ビス(アミノメチル)ノルボルナン、ビス(アミノメチル)−トリシクロ〔5,2,1,0〕デカン、イソホロンジアミン、1,3−ジアミノアダマンタンなどの脂環構造を有するジアミン、
芳香環を有するジアミンとしては、3,5−ジアミノベンゾトリフルオライド、2−(トリフルオロメチル)−1,4−フェニレンジアミン、
5−(トリフルオロメチル)−1,3−フェニレンジアミン、1,3 −ジアミノ−2,4,5,6−テトラフルオロベンゼン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]−ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3−アミノフェニル)1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、2,2’−ビス−(4−アミノフェニル)−ヘキサフルオロプロパン、4,4−ビス(トリフルオロメトキシ)ベンジジン、3,3’−ジアミノ−5,5’−トリフルオロメチルビフェニル、3,3’−ジアミノ−6,6’−トリフルオロメチルビフェニル、3,3’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン;2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]
ヘキサフルオロプロパン、4,4’−トリフルオロメチル−2,2’− ジアミノビフェニル、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3−ジクロロ−4,4’−ジアミノビフェニル、2,2’,5,5’−ジクロロ−4,4’−ジアミノビフェニル、4,4’−メチレン−ビス(2−クロロアニリン)などのハロゲン基を有する芳香族ジアミン、
4,4’−ジアミノベンゾフェノン、3,3’−ジアミノベンゾフェノン、4−アミノフェニルー4−アミノベンゾエート、テレフタル酸ビス(4−アミノフェニル)エステル、ビフェニル−4,4’−ジカルボン酸ビス(4−アミノフェニル)1,4−ビス(4−アミノベンゾイルオキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノベンゾイルオキシ)ベンゼン、4,4’−ジアミノベンズアニライド、N,N−ビス(4−アミノフェニル)テレフタルアミド、N,N’−p−フェニレンビス(p−アミノベンズアミド)、N,N’−m−フェニレンビス(p−アミノベンズアミド)などのカルボニル基を有する芳香族ジアミン、
3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、3,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3、3’−ジアミノー4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、O−トリジンスルホン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホンなどのスルホニル基を有する芳香族ジアミンが挙げられる。
1,4−ジアミノシクロヘキサン、ビス(4,4′−アミノシクロヘキシル)メタン、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノビフェニル、4,4’−ジアミノジフェニルスルホンを用いたポリイミドは、透明性、耐熱性に優れるためより好ましく、トランス−1,4−ジアミノシクロヘキサンは、熱線膨張係数が低いため特に好ましい。
(1)昇華する精製方法
(2)吸着剤で処理する精製方法
(3)再結晶による精製方法
また、これらの方法を複数繰り返すことや、組み合わせて精製することもできる。
1)ポリアミド酸
有機溶剤にジアミンを溶解し、この溶液に攪拌しながら、テトラカルボン酸二無水物を徐々に添加し、0〜100℃の範囲で1〜72時間攪拌することで、ポリイミド前駆体が得られる。
あらかじめ、ジアミンとシリル化剤を反応させ、シリル化されたジアミンを得(必要に応じて、蒸留等によりシリル化されたジアミンの精製をおこなう。)、脱水された溶剤中にシリル化されたジアミンを溶解させておき、攪拌しながら、テトラカルボン酸二無水物を徐々に添加し、0〜100℃の範囲で1〜72時間攪拌することで、ポリイミド前駆体が得られる。ここで用いるシリル化剤として、塩素を含有しないシリル化剤を用いることは、シリル化されたジアミンを精製する必要がないため、好適である。塩素原子を含まないシリル化剤としては、N,O-ビス(トリメチルシリル)トリフルオロアセトアミド、N,O-ビス(トリメチルシリル)アセトアミド、ヘキサメチルジシラザンが挙げられる。フッ素原子を含まず低コストであることから、N,O-ビス(トリメチルシリル)アセトアミド、ヘキサメチルジシラザンが好ましい。また、ジアミンのシリル化反応には、反応を促進するために、ピリジン、ピペリジン、トリエチルアミンなどのアミン系触媒を用いることができる。この触媒はポリイミド前駆体の重合触媒として、そのまま使用することができる。
テトラカルボン酸二無水物を任意のアルコールで反応させ、ジエステルジカルボン酸を得た後、塩素化試薬(チオニルクロライド、オキサリルクロライドなど)と反応させ、ジエステルジカルボン酸クロライドを得る。このジエステルジカルボン酸クロライドとジアミンを反応させることで、ポリイミド前駆体が得られる。また、ジエステルジカルボン酸とジアミンを、リン系縮合剤や、カルボジイミド縮合剤などを用いて脱水縮合することでも、簡便にポリイミド前駆体が得られる。また、このポリイミド前駆体は、安定なため水やアルコールなどの溶剤を加え再沈殿などの精製をおこなうこともできる。
得られるポリイミドの耐熱性が高いことから、Xは下記一般式(2)の4価の有機基であることがより好ましく、4価のビフェニル異性体であることが特に好ましい。
例えばセラミック(ガラス、シリコン、アルミナ)、金属(銅、アルミニウム、ステンレス)、耐熱プラスチックフィルム(ポリイミド)などの基材に、本発明のポリイミド前駆体溶液組成物を流延し、真空中、窒素等の不活性ガス中、或いは空気中で、熱風もしくは赤外線を用いて、20〜180℃、好ましくは20〜150℃の温度範囲で乾燥する。
次いで得られたポリイミド前駆体フィルムを基材上で、もしくはポリイミド前駆体フィルムを基材上から剥離し、そのフィルムの端部を固定した状態で、真空中、窒素等の不活性ガス中、或いは空気中で、熱風もしくは赤外線を用い、200〜500℃、より好ましくは250〜450℃程度の温度で加熱イミド化することでポリイミドフィルム/基材積層体、もしくはポリイミドフィルムを製造することができる。なお、得られるポリイミドフィルムが酸化劣化するのを防ぐため、加熱イミド化は、真空中、或いは不活性ガス中で行うことが望ましい。加熱イミド化の温度が高すぎなければ空気中で行なっても差し支えない。ここでのポリイミドフィルム(ポリイミドフィルム/基材積層体の場合は、ポリイミドフィルム層)の厚さは、以後の工程の搬送性のため、好ましくは1〜250μm、より好ましくは1〜150μmである。
第二の方法としては、ポリイミドフィルム/基材積層体の基材からポリイミドフィルムを剥離して、ポリイミドフィルムを得、そのポリイミドフィルム表面に、導電性物質(金属もしくは金属酸化物、導電性有機物、導電性炭素など)の導電層を、第一の方法と同様にして形成させ、導電性層/ポリイミドフィルム積層体からなる透明でフレキシブルな導電性基板を得ることができる。
なお、第一、第二の方法において、必要に応じて、ポリイミドフィルムの表面に導電層を形成する前に、スパッタ蒸着やゲル−ゾル法などによって、水蒸気、酸素などのガスバリヤ層、光調整層などの無機層を形成しても構わない。
また、導電層は、フォトリソグラフィ法や各種印刷法、インクジェット法などの方法によって、回路が好適に形成される。
すなわち、この基板に、蒸着、各種印刷法、或いはインクジェット法などによって、さらにトランジスタ(無機トランジスタ、有機トランジスタ)が形成されてフレキシブル薄膜トランジスタが製造され、そして、表示デバイス用の液晶素子、EL素子、光電素子として好適に用いられる。
トランス−1,4−ジアミノシクロヘキサン:ZHEJIANG TAIZHOU QINGQUAN MEDICAL & CHEMICAL株式会社製 純度 99.1%(GC分析)
1,4−ビス(4−アミノベンゾイルオキシ)ベンゼン(BABB):三國製薬工業株式会社製 BABB
3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(s−BPDA):宇部興産株式会社製 純度99.9%(開環後した3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸のHPLC分析で求めた純度)、酸無水化率 99.8%、Na,K,Ca,Al,Cu,Si:それぞれ<0.1ppm、Fe:0.1ppm、Cl:<1ppm
2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(a−BPDA):宇部興産株式会社製 純度99.6%(開環後した2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸のHPLC分析で求めた純度)、酸無水化率 99.5%、Na,K,Al,Cu,Si:それぞれ<0.1ppm、Ca,Fe:それぞれ0.1ppm、Cl:<1ppm
2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(i−BPDA):CHANGZHOU WEIJIA CHEMICAL株式会社製 純度 99.9%(開環後した2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸のHPLC分析で求めた純度)、酸無水化率 99%
4,4’−(2,2−ヘキサフルオロイソプロピレン)ジフタル酸二無水物(6FDA):ダイキン工業株式会社製 純度99%
4,4’−(ジメチルシラジイル)ジフタル酸二無水物、(DPSDA):東レ・ファインケミカル株式会社製 純度99.8%(開環後した3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸のHPLC分析で求めた純度)、酸無水化率 99%
各溶剤:和光純薬株式会社製 特級、1級相当品もしくは、それらを精製したもの
2N 水酸化ナトリウム水溶液:東京化成株式会社製 水酸化ナトリウム水溶液
吸着剤:日本ノリット株式会社製 活性炭 Norit SX Plus BET法で求めた比表面積1100m2/g
[光透過率]
所定量のジアミン粉末、テトラカルボン酸無水物粉末を測定溶剤に溶解し、10質量%溶液を得た。大塚電子製MCPD−300、光路長1cmの標準セルを用いて、測定溶剤をブランクとし、ジアミン粉末、テトラカルボン酸無水物粉末の400nmにおける光透過率を測定した。
[対数粘度]
0.5g/dLのポリイミド前駆体 N,N−ジメチルアセトアミド溶液を、ウベローデ粘度計を用いて、30℃で測定した。
[光透過率]
10質量%のポリイミド前駆体溶液となる様に、ポリイミド前駆体をN,N−ジメチルアセトアミドで希釈した。大塚電子製MCPD−300、光路長1cmの標準セルを用いて、N,N−ジメチルアセトアミドをブランクとし、10質量%のポリイミド前駆体溶液の400nmにおける光透過率を測定した。
[光透過率]
大塚電子製MCPD−300を用いて、膜厚約10μmのポリイミド膜の400nmにおける光透過率を測定した。
[弾性率、破断伸度]
ポリイミド膜をIEC450規格のダンベル形状に打ち抜いて試験片とし、ORIENTEC社製TENSILONを用いて、チャック間 30mm、引張速度 2mm/minで、初期の弾性率、破断伸度を測定した。
[熱膨張係数(CTE)]
ポリイミド膜を幅4mmの短冊状に切り取って試験片とし、島津製作所製TMA−50を用い、チャック間長15mm、荷重2g、昇温速度20℃/minで300℃まで昇温した。得られたTMA曲線から、50℃から200℃までの平均熱膨張係数を求めた。
ガラス製昇華装置に未精製のトランス−1,4−ジアミノシクロヘキサン 10.0gを仕込み、1Torr以下に減圧した。トランス−1,4−ジアミノシクロヘキサンが接している壁下面の温度を50℃に加熱し、5℃に温調された対面した壁上面に昇華物を得た。収量は、8.2gであった。この方法で得られたトランス−1,4−ジアミノシクロヘキサン粉末の光透過率の結果を表1に示す。
ガラス製容器にBABB 20.0g、N,N−ジメチルアセトアミド 140gを仕込み、60℃に加熱し溶解した。溶液に吸着剤(Norit SX Plus)0.20gを加え、2時間攪拌した。吸着剤をろ過で取り除き、純水を加え、5℃まで冷却し、析出物を回収した。さらに、得られた析出物 10.0gをガラス製昇華装置に仕込み、1Torr以下に減圧した。BABBが接している壁下面の温度を300〜350℃に加熱し、25℃に温調された対面した壁上面に昇華物を得た。収量は、8.5gであった。この方法で得られたBABBの光透過率の結果を表1に示す。
ガラス製容器に未精製のs−BPDA 10.0g、溶媒としてN−メチル−2−ピロリドン 10.0gを仕込み、25℃で3時間、十分に攪拌した。溶液をろ別し、得られた固体を100℃ 2時間真空乾燥し、着色が低減されたs−BPDA粉末を得た。光透過率の結果を表1に示す。
ガラス製容器に未精製のa−BPDA 10.0g、溶媒としてアセトン 10.0gを仕込み、25℃で3時間、十分に攪拌した。溶液をろ別し、得られた固体を100℃ 2時間真空乾燥し、着色が低減されたa−BPDA 9.4gを得た。光透過率の結果を表1に示す。
ガラス製容器に未精製のi−BPDA 10.0g、溶媒としてN−メチル−2−ピロリドン 10.0gを仕込み、25℃で3時間、十分に攪拌した。溶液をろ別し、得られた固体を100℃ 2時間真空乾燥し、着色が低減されたi−BPDAを得た。光透過率の結果を表1に示す。
反応容器中に参考例1と同様の方法で精製したトランス−1,4−ジアミノシクロヘキサン(t−DACH) 1.40g(0.0122モル)を入れ、モレキュラーシーブを用いて脱水したN,N−ジメチルアセトアミド 28.4gに溶解した。この溶液を50℃に加熱し、参考例3と同様の方法で精製した3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(s−BPDA) 3.50g(0.0119モル)と、参考例4と同様の方法で精製したa−BPDA 0.09g(0.0003モル)とを徐々に加えた。50℃で6時間撹拌し、均一で粘稠なポリイミド前駆体溶液を得た。
表2に記載したジアミン成分、酸成分を用いた以外は、実施例1と同様にして、ポリイミド前駆体溶液及び、ポリイミドフィルムを得た。特性を測定した結果を表2に示す。
表2に記載したジアミン成分、酸成分を用いた以外は、実施例1と同様にして、ポリイミド前駆体溶液及び、ポリイミドフィルムを得た。特性を測定した結果を表2に示す。
Claims (14)
- ジアミン誘導体(ジアミン類及びそれらの誘導体を含む。以下同じ)とテトラカルボン酸誘導体(テトラカルボン酸類及びそれらの誘導体を含む。以下同じ)を反応させて得られるポリイミドであって、
前記ジアミン誘導体が、光透過率が90%以上である芳香環を有しないジアミン誘導体、または光透過率が80%以上である芳香環を有するジアミン誘導体を含有し(但し、ジアミン誘導体の透過率は、純水もしくはN、N−ジメチルアセトアミドに10質量%の濃度に溶解して得られた溶液に対する波長400nm、光路長1cmの光透過率を表す。)、
前記テトラカルボン酸誘導体が、光透過率が75%以上であるテトラカルボン酸誘導体を含有する(但し、テトラカルボン酸誘導体の透過率は、2規定水酸化ナトリウム溶液に10質量%の濃度に溶解して得られた溶液に対する波長400nm、光路長1cmの透過率を表す。)
ことを特徴とするポリイミド。 - ジアミン誘導体の波長400nm、光路長1cmの光透過率が95%以上であり、テトラカルボン酸誘導体の波長400nm、光路長1cmの光透過率が80%以上であることを特徴とする請求項1に記載のポリイミド。
- テトラカルボン酸誘導体、ジアミン誘導体の少なくともどちらか一方が、芳香族誘導体であることを特徴とする請求項1又は2に記載のポリイミド。
- テトラカルボン酸誘導体が芳香族テトラカルボン酸誘導体であり、ジアミン誘導体が脂肪族ジアミン誘導体であることを特徴とする請求項1又は2に記載のポリイミド。
- テトラカルボン酸誘導体がビフェニルテトラカルボン酸誘導体であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のポリイミド。
- ジアミン誘導体がトランス−1,4−ジアミノシクロヘキサンであることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のポリイミド。
- 膜厚10μmのフィルムにしたときの400nmにおける光透過率が80%以上であることを特徴とする請求項1〜6いずれかに記載のポリイミド。
- 光学材料用途であることを特徴とする請求項1〜7いずれかに記載のポリイミド。
- 使用されるジアミン誘導体の総モル量に対し、芳香環を有しないジアミン誘導体が50モル%以上含まれるポリイミド前駆体のうち、極性溶剤に10質量%の濃度に溶解して得られた溶液に対する波長400nm、光路長1cmの光透過率が90%以上であることを特徴とするポリイミド前駆体。
- 使用されるジアミン誘導体の総モル量に対し、芳香環を有するジアミン誘導体が50モル%以上含まれるポリイミド前駆体のうち、極性溶剤に10質量%の濃度に溶解して得られた溶液に対する波長400nm、光路長1cmの光透過率が50%以上であることを特徴とするポリイミド前駆体。
- 30℃、0.5g/dL N、N−ジメチルアセトアミド溶液における対数粘度が0.2dL/g以上であることを特徴とする請求項9又は10いずれかに記載のポリイミド前駆体。
- 請求項9〜12のいずれかのポリイミド前駆体が溶媒中に均一に溶解されていることを特徴とするポリイミド前駆体溶液組成物。
- 請求項9〜12のいずれかのポリイミド前駆体をイミド化して得られることを特徴とするポリイミド。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018170151A JP7254469B2 (ja) | 2018-09-12 | 2018-09-12 | ポリイミド及びポリイミド前駆体 |
JP2022177993A JP2022190149A (ja) | 2018-09-12 | 2022-11-07 | ポリイミド及びポリイミド前駆体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018170151A JP7254469B2 (ja) | 2018-09-12 | 2018-09-12 | ポリイミド及びポリイミド前駆体 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016083119A Division JP2016130325A (ja) | 2016-04-18 | 2016-04-18 | ポリイミド及びポリイミド前駆体 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022177993A Division JP2022190149A (ja) | 2018-09-12 | 2022-11-07 | ポリイミド及びポリイミド前駆体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018193569A true JP2018193569A (ja) | 2018-12-06 |
JP7254469B2 JP7254469B2 (ja) | 2023-04-10 |
Family
ID=64569824
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018170151A Active JP7254469B2 (ja) | 2018-09-12 | 2018-09-12 | ポリイミド及びポリイミド前駆体 |
JP2022177993A Pending JP2022190149A (ja) | 2018-09-12 | 2022-11-07 | ポリイミド及びポリイミド前駆体 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022177993A Pending JP2022190149A (ja) | 2018-09-12 | 2022-11-07 | ポリイミド及びポリイミド前駆体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP7254469B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020117615A (ja) * | 2019-01-23 | 2020-08-06 | 東洋紡株式会社 | ポリアミド酸組成物、ポリアミド酸組成物の製造方法およびポリイミドの製造方法 |
JP2021084929A (ja) * | 2019-11-26 | 2021-06-03 | 株式会社カネカ | ポリイミド樹脂、ポリイミド溶液、ポリイミドフィルム |
KR20220008785A (ko) | 2020-07-14 | 2022-01-21 | 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 | 보호막 및 그것을 얻기 위한 감광성 수지 조성물 |
US20220169851A1 (en) * | 2020-11-27 | 2022-06-02 | Zhen Ding Technology Co., Ltd. | Transparent polyimide mixture, method for manufacturing the transparent polyimide mixture, and method for manufacturing transparent polyimide film |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH107906A (ja) * | 1996-06-21 | 1998-01-13 | Chisso Corp | ポリアミド酸系ワニス、このワニスを用いて作られた液晶配向膜、およびこの配向膜を用いた液晶表示素子 |
WO1998029471A1 (fr) * | 1996-12-27 | 1998-07-09 | Maruzen Petrochemical Co., Ltd. | Resine polyimide soluble, son procede de preparation, et composition de solution de resine polyimide |
JP2005314296A (ja) * | 2004-04-28 | 2005-11-10 | Mitsubishi Chemicals Corp | ビフェニルテトラカルボン酸加熱無水化生成物結晶 |
JP2006188502A (ja) * | 2004-12-07 | 2006-07-20 | Mitsubishi Chemicals Corp | 高純度オキシジフタル酸無水物およびその製造方法 |
JP2006188052A (ja) * | 2004-12-09 | 2006-07-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | 溶液製膜方法 |
JP2008120869A (ja) * | 2006-11-09 | 2008-05-29 | Teraoka Seisakusho:Kk | ポリイミド樹脂組成物 |
WO2009107429A1 (ja) * | 2008-02-25 | 2009-09-03 | 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 | ポリイミド前駆体組成物、ポリイミドフィルム及び透明フレキシブルフィルム |
WO2010113412A1 (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-07 | 三井化学株式会社 | 低熱膨張性ブロックポリイミドおよびその前駆体ならびにその用途 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2959118B2 (ja) * | 1990-11-22 | 1999-10-06 | 日産化学工業株式会社 | ポリアミド酸溶液組成物及びその製造方法 |
JP2959119B2 (ja) * | 1990-11-22 | 1999-10-06 | 日産化学工業株式会社 | ポリアミド酸溶液組成物及びその製造方法 |
JP2959120B2 (ja) * | 1990-11-22 | 1999-10-06 | 日産化学工業株式会社 | ポリアミド酸溶液組成物及びその製造方法 |
JP2008297360A (ja) | 2007-05-29 | 2008-12-11 | New Japan Chem Co Ltd | 溶剤可溶性ポリイミド樹脂 |
JP5325460B2 (ja) | 2008-05-27 | 2013-10-23 | 和光純薬工業株式会社 | 新規な(1r,2s,4s,5r)‐シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物及びその利用 |
-
2018
- 2018-09-12 JP JP2018170151A patent/JP7254469B2/ja active Active
-
2022
- 2022-11-07 JP JP2022177993A patent/JP2022190149A/ja active Pending
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH107906A (ja) * | 1996-06-21 | 1998-01-13 | Chisso Corp | ポリアミド酸系ワニス、このワニスを用いて作られた液晶配向膜、およびこの配向膜を用いた液晶表示素子 |
WO1998029471A1 (fr) * | 1996-12-27 | 1998-07-09 | Maruzen Petrochemical Co., Ltd. | Resine polyimide soluble, son procede de preparation, et composition de solution de resine polyimide |
JP2005314296A (ja) * | 2004-04-28 | 2005-11-10 | Mitsubishi Chemicals Corp | ビフェニルテトラカルボン酸加熱無水化生成物結晶 |
JP2006188502A (ja) * | 2004-12-07 | 2006-07-20 | Mitsubishi Chemicals Corp | 高純度オキシジフタル酸無水物およびその製造方法 |
JP2006188052A (ja) * | 2004-12-09 | 2006-07-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | 溶液製膜方法 |
JP2008120869A (ja) * | 2006-11-09 | 2008-05-29 | Teraoka Seisakusho:Kk | ポリイミド樹脂組成物 |
WO2009107429A1 (ja) * | 2008-02-25 | 2009-09-03 | 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 | ポリイミド前駆体組成物、ポリイミドフィルム及び透明フレキシブルフィルム |
WO2010113412A1 (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-07 | 三井化学株式会社 | 低熱膨張性ブロックポリイミドおよびその前駆体ならびにその用途 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
REACTIVE & FUNCTIONAL POLYMERS, vol. 30, JPN6020018835, 1996, pages 61 - 69, ISSN: 0004278822 * |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020117615A (ja) * | 2019-01-23 | 2020-08-06 | 東洋紡株式会社 | ポリアミド酸組成物、ポリアミド酸組成物の製造方法およびポリイミドの製造方法 |
JP7322410B2 (ja) | 2019-01-23 | 2023-08-08 | 東洋紡株式会社 | ポリアミド酸組成物、ポリアミド酸組成物の製造方法およびポリイミドの製造方法 |
JP2021084929A (ja) * | 2019-11-26 | 2021-06-03 | 株式会社カネカ | ポリイミド樹脂、ポリイミド溶液、ポリイミドフィルム |
JP7359662B2 (ja) | 2019-11-26 | 2023-10-11 | 株式会社カネカ | ポリイミド樹脂、ポリイミド溶液、ポリイミドフィルム |
KR20220008785A (ko) | 2020-07-14 | 2022-01-21 | 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 | 보호막 및 그것을 얻기 위한 감광성 수지 조성물 |
US20220169851A1 (en) * | 2020-11-27 | 2022-06-02 | Zhen Ding Technology Co., Ltd. | Transparent polyimide mixture, method for manufacturing the transparent polyimide mixture, and method for manufacturing transparent polyimide film |
US11655366B2 (en) * | 2020-11-27 | 2023-05-23 | Zhen Ding Technology Co., Ltd. | Transparent polyimide mixture, method for manufacturing the transparent polyimide mixture, and method for manufacturing transparent polyimide film |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7254469B2 (ja) | 2023-04-10 |
JP2022190149A (ja) | 2022-12-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6531812B2 (ja) | ポリイミド前駆体及びポリイミド | |
KR102106747B1 (ko) | 폴리이미드 전구체, 폴리이미드 및 그 제조에 사용되는 재료 | |
JP6283954B2 (ja) | ポリイミド前駆体、ポリイミド、ワニス、ポリイミドフィルム、及び基板 | |
JP6485358B2 (ja) | ポリイミド前駆体組成物、ポリイミドの製造方法、ポリイミド、ポリイミドフィルム、及び基板 | |
JP6060695B2 (ja) | ポリイミド前駆体及びポリイミド | |
JP6283953B2 (ja) | ポリイミド前駆体、ポリイミド、ワニス、ポリイミドフィルム、および基板 | |
JPWO2015080139A1 (ja) | ポリイミド前駆体組成物、ポリイミドの製造方法、ポリイミド、ポリイミドフィルム、及び基板 | |
JP7254469B2 (ja) | ポリイミド及びポリイミド前駆体 | |
WO2019131894A1 (ja) | ポリイミド前駆体、ポリイミド、ポリイミドフィルム、ワニス、及び基板 | |
JP5923887B2 (ja) | ポリイミド、及びポリイミド前駆体 | |
JP2017197631A (ja) | ポリイミド前駆体、ポリイミド、ポリイミドフィルム、ポリイミド積層体、ポリイミド/ハードコート積層体 | |
JP5903788B2 (ja) | 2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物粉末の精製方法、粉末、及びそれを用いたポリイミド | |
CN116057109B (zh) | 聚合物组合物、清漆、和聚酰亚胺薄膜 | |
JP2019001822A (ja) | 着色が低減したトランス−1,4−ジアミノシクロヘキサン粉末、及びそれを用いたポリイミド | |
JP2016130325A (ja) | ポリイミド及びポリイミド前駆体 | |
JP5834574B2 (ja) | 3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物粉末の精製方法、及びそれを用いたポリイミド | |
WO2015080156A1 (ja) | ポリイミド前駆体組成物、ポリイミドの製造方法、ポリイミド、ポリイミドフィルム、及び基板 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181012 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20181012 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190828 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20191008 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191206 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20200609 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200909 |
|
C60 | Trial request (containing other claim documents, opposition documents) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C60 Effective date: 20200909 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20200916 |
|
C21 | Notice of transfer of a case for reconsideration by examiners before appeal proceedings |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C21 Effective date: 20200923 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20201204 |
|
C211 | Notice of termination of reconsideration by examiners before appeal proceedings |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C211 Effective date: 20201208 |
|
C22 | Notice of designation (change) of administrative judge |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C22 Effective date: 20220426 |
|
C22 | Notice of designation (change) of administrative judge |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C22 Effective date: 20220712 |
|
C13 | Notice of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C13 Effective date: 20220906 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20221107 |
|
C23 | Notice of termination of proceedings |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C23 Effective date: 20230207 |
|
C03 | Trial/appeal decision taken |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C03 Effective date: 20230307 |
|
C30A | Notification sent |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C3012 Effective date: 20230307 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230329 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7254469 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |