JP2018152429A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018152429A JP2018152429A JP2017046514A JP2017046514A JP2018152429A JP 2018152429 A JP2018152429 A JP 2018152429A JP 2017046514 A JP2017046514 A JP 2017046514A JP 2017046514 A JP2017046514 A JP 2017046514A JP 2018152429 A JP2018152429 A JP 2018152429A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- well
- bias voltage
- voltage
- substrate bias
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 183
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 301
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 29
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 26
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract description 40
- 230000009467 reduction Effects 0.000 abstract description 27
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 abstract description 13
- 210000000746 body region Anatomy 0.000 description 12
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 9
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 9
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 9
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 6
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011982 device technology Methods 0.000 description 1
- 238000013213 extrapolation Methods 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/12—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
- H01L27/1203—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body the substrate comprising an insulating body on a semiconductor body, e.g. SOI
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K17/00—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
- H03K17/51—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used
- H03K17/56—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices
- H03K17/687—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors
- H03K17/6871—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors the output circuit comprising more than one controlled field-effect transistor
- H03K17/6872—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors the output circuit comprising more than one controlled field-effect transistor using complementary field-effect transistors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
- H01L21/77—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
- H01L21/78—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
- H01L21/82—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components
- H01L21/822—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components the substrate being a semiconductor, using silicon technology
- H01L21/8232—Field-effect technology
- H01L21/8234—MIS technology, i.e. integration processes of field effect transistors of the conductor-insulator-semiconductor type
- H01L21/8238—Complementary field-effect transistors, e.g. CMOS
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
- H01L21/77—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
- H01L21/78—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
- H01L21/82—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components
- H01L21/84—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components the substrate being other than a semiconductor body, e.g. being an insulating body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
- H01L27/08—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
- H01L27/08—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind
- H01L27/085—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only
- H01L27/088—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
- H01L27/08—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind
- H01L27/085—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only
- H01L27/088—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate
- H01L27/092—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate complementary MIS field-effect transistors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
- H01L27/08—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind
- H01L27/085—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only
- H01L27/088—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate
- H01L27/092—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate complementary MIS field-effect transistors
- H01L27/0928—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate complementary MIS field-effect transistors comprising both N- and P- wells in the substrate, e.g. twin-tub
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/78—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
- H01L29/786—Thin film transistors, i.e. transistors with a channel being at least partly a thin film
- H01L29/78645—Thin film transistors, i.e. transistors with a channel being at least partly a thin film with multiple gate
- H01L29/78648—Thin film transistors, i.e. transistors with a channel being at least partly a thin film with multiple gate arranged on opposing sides of the channel
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Thin Film Transistor (AREA)
Abstract
Description
(a)ソース−ゲート間電圧が0Vである場合のNMOSトランジスタ(18)のドレイン電流−基板バイアス電圧特性を得るステップと、
(b)ドレイン電流−基板バイアス電圧特性から、NMOSトランジスタ(18)がオンになる最低の基板バイアス電圧である最低基板バイアス電圧を得るステップと、
(c)PMOSトランジスタ(17)の基板バイアス電圧の上限値を、最低基板バイアス電圧からpn接合のビルトインポテンシャルを減じた電圧として決定するステップと、
(d)PMOSトランジスタ(17)の基板バイアス電圧を、正電圧であり、且つ、上限値よりも低い電圧に決定するステップ
とを具備する。
(a)ソース−ゲート間電圧が0Vである場合のPMOSトランジスタ(17)のドレイン電流−基板バイアス電圧特性を得るステップと、
(b)ドレイン電流−基板バイアス電圧特性から、PMOSトランジスタ(17)がオンになる最高の基板バイアス電圧である最高基板バイアス電圧を得るステップと、
(c)NMOSトランジスタ(18)の基板バイアス電圧の下限値を、最高基板バイアス電圧にpn接合のビルトインポテンシャルを加えた電圧として決定するステップと、
(d)PMOSトランジスタ(17)の基板バイアス電圧を、負電圧であり、且つ、下限値よりも高い電圧に決定するステップとを具備する。
半導体装置。
VBp+φbi<VBn(ON) ・・・(1a)
を満たすように、即ち、
VBp<VBn(ON)−φbi ・・・(1b)
を満たすように、PMOSトランジスタ17の基板バイアス電圧VBpを決定すれば、放射線耐性を維持できる。式(1b)は、放射線耐性を維持できるPMOSトランジスタ17の基板バイアス電圧VBpの上限値がVBn(ON)−φbiであることを意味している。したがって、半導体装置10の消費電力を低減させ、且つ、放射線耐性を維持するためには、PMOSトランジスタ17の基板バイアス電圧VBpをVBn(ON)−φbiより低い正電圧に設定することが有効である。
0<VBn(ON)−φbi−VCONST1<VBp<VBn(ON)−φbi ・・・(2)
に設定することで、消費電力の低減と放射線耐性の維持の両方を実現することができる。ここで、VCONST1は、消費電力を考慮して決定される所定の正電圧であり、VCONST1を小さくするほど消費電力を低減することができる。
VBn(ON)−0.7−VCONST1<VBp<VBn(ON)−0.7 ・・・(3)
VBn(ON)−1.2<VBp<VBn(ON)−0.7 ・・・(4a)
VBn(ON)−1.0<VBp<VBn(ON)−0.7 ・・・(4b)
VBn(ON)−0.9<VBp<VBn(ON)−0.7 ・・・(4c)
まず、ソース−ゲート間電圧Vgsが0Vである場合について、NMOSトランジスタ18のドレイン電流−基板バイアス電圧特性が取得される。図5は、得られたドレイン電流−基板バイアス電圧特性の一例を示している。ドレイン電流−基板バイアス電圧特性は、適宜の方法によって取得可能である。例えば、ドレイン電流−基板バイアス電圧特性は、NMOSトランジスタ18のドレイン電流−ゲート電圧特性から読み取ってもよい。図6は、ドレイン電流−基板バイアス電圧特性の取得に用いることができるドレイン電流−ゲート電圧特性の一例を示している。図6には、NMOSトランジスタ18の基板バイアス電圧VBnを−1.2Vから1.2Vの範囲で0.2V刻みで変化させた場合に得られるNMOSトランジスタ18のドレイン電流−ゲート電圧特性が図示されている。図6に図示されているドレイン電流−ゲート電圧特性が与えられた場合には、ソース−ゲート間電圧Vgsが0Vである場合について各基板バイアス電圧VBnのドレイン電流Idを読み取れば、読み取った値に基づいて、NMOSトランジスタ18のドレイン電流−基板バイアス電圧特性を得ることができる。
ステップS01で得られたドレイン電流−基板バイアス電圧特性から、NMOSトランジスタ18がオンになる最低の基板バイアス電圧VBn(ON)を決定する。一般的には、NMOSトランジスタ18のドレイン電流Idが1×10−6A/μmになったときにNMOSトランジスタ18はオン状態になったものと判断されるので、本実施形態においても、NMOSトランジスタ18のドレイン電流Idが1×10−6A/μmになる基板バイアス電圧VBnが、基板バイアス電圧VBn(ON)として決定される。ステップS02で得られているドレイン電流−基板バイアス電圧特性における基板バイアス電圧の範囲が、NMOSトランジスタ18がオンになる最低の基板バイアス電圧VBn(ON)を含んでいない場合には、基板バイアス電圧VBn(ON)は、外挿によって決定してもよい。なお、基板バイアス電圧VBn(ON)は、ソース−ゲート間電圧Vgsが0Vである場合(即ち、NMOSトランジスタ18が本来はオフされるべき場合)について得られていることに留意されたい。
ステップS02で決定された、NMOSトランジスタ18がオンになる最低の基板バイアス電圧VBn(ON)から、放射線耐性を維持可能なPMOSトランジスタ17の基板バイアス電圧VBpの上限値を決定する。上述のように、PMOSトランジスタ17の基板バイアス電圧VBpの上限値は、VBn(ON)−φbiであり、特に、半導体基板11がシリコン基板である場合にはVBn(ON)−0.7(V)である。
ステップS04:
ステップS03で決定されたPMOSトランジスタ17の基板バイアス電圧VBpの上限値と、消費電力の要求仕様とから、PMOSトランジスタ17の基板バイアス電圧VBpが決定される。PMOSトランジスタ17の基板バイアス電圧VBpを、VBn(ON)−φbiより低い正電圧に設定すれば、半導体装置10の消費電力を低減させ、且つ、放射線耐性を維持することができる。また、半導体基板11としてシリコン基板が用いられる場合には、式(4a)〜(4c)のいずれかの条件を満たすようにPMOSトランジスタ17の基板バイアス電圧VBpを設定することで、半導体装置10の消費電力を一層に低減させることができる。
VBp(ON)<VBn−φbi ・・・(5a)
を満たすように、即ち、
VBn>VBp(ON)+φbi ・・・(5b)
を満たすように、NMOSトランジスタ18の基板バイアス電圧VBnを決定すれば、放射線耐性を維持できる。式(5b)は、放射線耐性を維持できるNMOSトランジスタ18の基板バイアス電圧VBnの下限値がVBp(ON)+φbiであることを意味している。したがって、半導体装置20の消費電力を低減させ、且つ、放射線耐性を維持するためには、NMOSトランジスタ18の基板バイアス電圧VBnをVBp(ON)+φbiより高い負電圧に設定することが有効である。
VBp(ON)+φbi<VBn<VBp(ON)+φbi+VCONST2<0 ・・・(6)
に設定することで、消費電力の低減と放射線耐性の維持の両方を実現することができる。ここで、VCONST2は、消費電力を考慮して決定される所定の正電圧であり、VCONST2を小さくするほど消費電力を低減することができる。
VBp(ON)+0.7<VBn<VBp(ON)+0.7+VCONST2 ・・・(7)
VBp(ON)+0.7<VBn<VBp(ON)+1.2 ・・・(8a)
VBp(ON)+0.7<VBn<VBp(ON)+1.0 ・・・(8b)
VBp(ON)+0.7<VBn<VBp(ON)+0.9 ・・・(8c)
(a)通常動作モードにおけるPMOSトランジスタ17の基板バイアス電圧VBpを指定するレジスタ値
(b)通常動作モードにおけるNMOSトランジスタ18の基板バイアス電圧VBnを指定するレジスタ値
(c)消費電力低減モードにおけるPMOSトランジスタ17の基板バイアス電圧VBpを指定するレジスタ値
(d)消費電力低減モードにおけるNMOSトランジスタ18の基板バイアス電圧VBnを指定するレジスタ値
11 :半導体基板
12 :ディープNウェル
13 :Nウェル
14 :Pウェル
15 :半導体層
16 :埋め込み酸化膜
17 :PMOSトランジスタ
18 :NMOSトランジスタ
19 :分離絶縁膜
21、22:p+領域
23 :n−ボディ領域
24 :ゲート絶縁膜
25 :ゲート電極
26、27:n+領域
28 :p−ボディ領域
29 :ゲート絶縁膜
30 :ゲート電極
31、32:タップコンタクト
41 :半導体基板
42 :ディープPウェル
50 :集積回路装置
51 :主回路
52 :基板バイアス電圧生成回路
53 :レジスタ
54 :不揮発性メモリ
55 :インターフェース
56 :制御回路
Claims (13)
- 半導体基板と、前記半導体基板に形成されたディープNウェルと、前記ディープNウェルに形成されたNウェル及びPウェルと、前記半導体基板の表面部に形成された半導体層と、前記半導体層と前記ディープNウェルとの間に形成され、前記半導体層と前記ディープNウェルとを電気的に分離する埋め込み絶縁層とを含み、前記Nウェルと前記Pウェルとの間にpn接合が形成され、前記半導体層の前記Nウェルに対向する位置にPMOSトランジスタが形成され、前記半導体層の前記Pウェルに対向する位置にNMOSトランジスタが形成された半導体装置の動作調整方法であって、
(a)ソース−ゲート間電圧が0Vである場合の前記NMOSトランジスタのドレイン電流−基板バイアス電圧特性を得るステップと、
(b)前記ドレイン電流−基板バイアス電圧特性から、前記NMOSトランジスタがオンになる最低の基板バイアス電圧である最低基板バイアス電圧を得るステップと、
(c)前記PMOSトランジスタの基板バイアス電圧の上限値を、前記最低基板バイアス電圧から前記pn接合のビルトインポテンシャルを減じた電圧として決定するステップと、
(d)前記PMOSトランジスタの基板バイアス電圧を、正電圧であり、且つ、前記上限値よりも低い電圧に決定するステップ
とを具備する
半導体装置の動作調整方法。 - 請求項1に記載の動作調整方法であって、
前記半導体基板がシリコン基板であり、
前記(d)ステップにおいて、前記PMOSトランジスタの前記基板バイアス電圧が、前記最低基板バイアス電圧から1.2Vを減じた電圧より高く、前記最低基板バイアス電圧から0.7Vを減じた電圧より低くなるように決定される
半導体装置の動作調整方法。 - 請求項1に記載の動作調整方法であって、
前記半導体基板がシリコン基板であり、
前記(d)ステップにおいて、前記PMOSトランジスタの前記基板バイアス電圧が、前記最低基板バイアス電圧から1.0Vを減じた電圧より高く、前記最低基板バイアス電圧から0.7Vを減じた電圧より低くなるように決定される
半導体装置の動作調整方法。 - 請求項1に記載の動作調整方法であって、
前記(a)ステップは、
複数の基板バイアス電圧について前記NMOSトランジスタのドレイン電流−ゲート電圧特性を得るステップと、
前記複数の基板バイアス電圧のそれぞれについて、ソース−ゲート間電圧が0Vである場合の前記NMOSトランジスタのドレイン電流を読み取ることにより前記ドレイン電流−基板バイアス電圧特性を得るステップ
とを含む
半導体装置の動作調整方法。 - 半導体基板と、前記半導体基板に形成されたディープPウェルと、前記ディープPウェルに形成されたNウェル及びPウェルと、前記半導体基板の表面部に形成された半導体層と、前記半導体層と前記ディープPウェルとの間に形成され、前記半導体層と前記ディープPウェルとを電気的に分離する埋め込み絶縁層とを含み、前記Nウェルと前記Pウェルとの間にpn接合が形成され、前記半導体層の前記Nウェルに対向する位置にPMOSトランジスタが形成され、前記半導体層の前記Pウェルに対向する位置にNMOSトランジスタが形成された半導体装置の動作調整方法であって、
(a)ソース−ゲート間電圧が0Vである場合の前記PMOSトランジスタのドレイン電流−基板バイアス電圧特性を得るステップと、
(b)前記ドレイン電流−基板バイアス電圧特性から、前記PMOSトランジスタがオンになる最高の基板バイアス電圧である最高基板バイアス電圧を得るステップと、
(c)前記NMOSトランジスタの基板バイアス電圧の下限値を、前記最高基板バイアス電圧に前記pn接合のビルトインポテンシャルを加えた電圧として決定するステップと、
(d)前記PMOSトランジスタの基板バイアス電圧を、負電圧であり、且つ、前記下限値よりも高い電圧に決定するステップ
とを具備する
半導体装置の動作調整方法。 - 請求項5に記載の動作調整方法であって、
前記半導体基板がシリコン基板であり、
前記(d)ステップにおいて、前記NMOSトランジスタの前記基板バイアス電圧が、前記最高基板バイアス電圧に0.7Vを加えた電圧より高く、前記最高基板バイアス電圧に1.2Vを加えた電圧より低くなるように決定される
半導体装置の動作調整方法。 - 請求項5に記載の動作調整方法であって、
前記半導体基板がシリコン基板であり、
前記(d)ステップにおいて、前記NMOSトランジスタの前記基板バイアス電圧が、前記最高基板バイアス電圧に0.7Vを加えた電圧より高く、前記最高基板バイアス電圧に1.0Vを加えた電圧より低くなるように決定される
半導体装置の動作調整方法。 - 半導体基板と、
前記半導体基板に形成されたディープNウェルと、
前記ディープNウェルに形成されたNウェルと、
前記ディープNウェルに形成されたPウェルと、
前記半導体基板の表面部に形成された半導体層と、
前記半導体層と前記ディープNウェルとの間に形成され、前記半導体層を前記ディープNウェルから電気的に分離する埋め込み絶縁層と
とを備える半導体装置であって、
前記Nウェルと前記Pウェルとの間にpn接合が形成され、
前記半導体層の前記Nウェルに対向する位置にPMOSトランジスタが形成され、
前記半導体層の前記Pウェルに対向する位置にNMOSトランジスタが形成され、
前記半導体装置が第1モードに設定されると前記PMOSトランジスタの基板バイアス電圧が第1電圧に設定され、
前記半導体装置が第2モードに設定されると前記PMOSトランジスタの基板バイアス電圧が前記第1電圧より高い第2電圧に設定され、
前記第2電圧が、正電圧であり、且つ、ソース−ゲート間電圧が0Vである場合に前記NMOSトランジスタがオンになる最低の基板バイアス電圧である最低基板バイアス電圧から前記pn接合のビルトインポテンシャルを減じた電圧よりも低い
半導体装置。 - 請求項8に記載の半導体装置であって、
前記半導体基板がシリコン基板であり、
前記第2電圧が、前記最低基板バイアス電圧から1.2Vを減じた電圧より高く、前記最低基板バイアス電圧から0.7Vを減じた電圧より低い
半導体装置。 - 請求項8に記載の半導体装置であって、
前記半導体基板がシリコン基板であり、
前記第2電圧が、前記最低基板バイアス電圧から1.0Vを減じた電圧より高く、前記最低基板バイアス電圧から0.7Vを減じた電圧より低い
半導体装置。 - 半導体基板と、
前記半導体基板に形成されたディープPウェルと、
前記ディープPウェルに形成されたNウェルと、
前記ディープPウェルに形成されたPウェルと、
前記半導体基板の表面部に形成された半導体層と、
前記半導体層と前記ディープPウェルとの間に形成され、前記半導体層を前記ディープPウェルから電気的に分離する埋め込み絶縁層と
とを備える半導体装置であって、
前記Nウェルと前記Pウェルとの間にpn接合が形成され、
前記半導体層の前記Nウェルに対向する位置にPMOSトランジスタが形成され、
前記半導体層の前記Pウェルに対向する位置にNMOSトランジスタが形成され、
前記半導体装置が第1モードに設定されると前記NMOSトランジスタの基板バイアス電圧が第1電圧に設定され、
前記半導体装置が第2モードに設定されると前記NMOSトランジスタの基板バイアス電圧が前記第1電圧より低い第2電圧に設定され、
前記第2電圧が、負電圧であり、且つ、ソース−ゲート間電圧が0Vである場合に前記PMOSトランジスタがオンになる最高の基板バイアス電圧である最高基板バイアス電圧に前記pn接合のビルトインポテンシャルを加えた電圧よりも高い
半導体装置。 - 請求項11に記載の半導体装置であって、
前記半導体基板がシリコン基板であり、
前記第2電圧が、前記最高基板バイアス電圧に0.7Vを加えた電圧より高く、前記最高基板バイアス電圧に1.2Vを加えた電圧より低い
半導体装置。 - 請求項11に記載の半導体装置であって、
前記半導体基板がシリコン基板であり、
前記第2電圧が、前記最高基板バイアス電圧に0.7Vを加えた電圧より高く、前記最高基板バイアス電圧に1.0Vを加えた電圧より低い
半導体装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017046514A JP6889441B2 (ja) | 2017-03-10 | 2017-03-10 | 半導体装置 |
US16/490,233 US10833673B2 (en) | 2017-03-10 | 2018-02-07 | Semiconductor device |
PCT/JP2018/004212 WO2018163696A1 (ja) | 2017-03-10 | 2018-02-07 | 半導体装置 |
EP18763678.2A EP3579268B1 (en) | 2017-03-10 | 2018-02-07 | Semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017046514A JP6889441B2 (ja) | 2017-03-10 | 2017-03-10 | 半導体装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018152429A true JP2018152429A (ja) | 2018-09-27 |
JP2018152429A5 JP2018152429A5 (ja) | 2020-03-26 |
JP6889441B2 JP6889441B2 (ja) | 2021-06-18 |
Family
ID=63448661
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017046514A Active JP6889441B2 (ja) | 2017-03-10 | 2017-03-10 | 半導体装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10833673B2 (ja) |
EP (1) | EP3579268B1 (ja) |
JP (1) | JP6889441B2 (ja) |
WO (1) | WO2018163696A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020080272A1 (ja) | 2018-10-19 | 2020-04-23 | 三菱重工業株式会社 | 半導体メモリの放射線耐性補償装置及びその方法並びに電子回路 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10410934B2 (en) * | 2017-12-07 | 2019-09-10 | Micron Technology, Inc. | Apparatuses having an interconnect extending from an upper conductive structure, through a hole in another conductive structure, and to an underlying structure |
US11315927B2 (en) * | 2019-04-17 | 2022-04-26 | Arm Limited | Cell bridging technique |
CN112652347B (zh) * | 2020-12-21 | 2022-03-18 | 长江存储科技有限责任公司 | 半导体器件的深阱电压的控制方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03119764A (ja) * | 1989-10-02 | 1991-05-22 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
JP2002164544A (ja) * | 2000-11-28 | 2002-06-07 | Sony Corp | 半導体装置 |
JP2002314041A (ja) * | 2001-04-19 | 2002-10-25 | Seiko Instruments Inc | 半導体集積回路 |
JP2004006870A (ja) * | 2003-05-14 | 2004-01-08 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
JP2012256649A (ja) * | 2011-06-07 | 2012-12-27 | Renesas Electronics Corp | 半導体装置、半導体ウエハ、及びこれらの製造方法 |
JP2013093371A (ja) * | 2011-10-24 | 2013-05-16 | Sony Corp | 半導体装置、および、その製造方法、固体撮像装置 |
JP2014038952A (ja) * | 2012-08-17 | 2014-02-27 | Fujitsu Semiconductor Ltd | 半導体装置の製造方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5103277A (en) | 1989-09-11 | 1992-04-07 | Allied-Signal Inc. | Radiation hard CMOS circuits in silicon-on-insulator films |
US5359219A (en) | 1992-12-04 | 1994-10-25 | Texas Instruments Incorporated | Silicon on insulator device comprising improved substrate doping |
DE69839780D1 (de) * | 1997-12-19 | 2008-09-04 | Advanced Micro Devices Inc | Silizium auf eine isolator-konfiguration welche mit der massen-cmos-architektur kompatibel ist |
US20030113980A1 (en) * | 2001-12-18 | 2003-06-19 | Texas Instruments Incorporated | Method for manufacturing and structure of semiconductor assembly with a shallow trench device region |
JP2009064860A (ja) * | 2007-09-05 | 2009-03-26 | Renesas Technology Corp | 半導体装置 |
JP2011009567A (ja) | 2009-06-26 | 2011-01-13 | Renesas Electronics Corp | Cmosfetデバイスおよびその製造方法 |
JP6340310B2 (ja) * | 2014-12-17 | 2018-06-06 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体集積回路装置およびウェラブル装置 |
JP6533951B2 (ja) | 2015-08-28 | 2019-06-26 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | モータ駆動装置、およびこれを用いた圧縮機の駆動装置、および冷蔵庫 |
JP2018006459A (ja) * | 2016-06-29 | 2018-01-11 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
-
2017
- 2017-03-10 JP JP2017046514A patent/JP6889441B2/ja active Active
-
2018
- 2018-02-07 EP EP18763678.2A patent/EP3579268B1/en active Active
- 2018-02-07 US US16/490,233 patent/US10833673B2/en active Active
- 2018-02-07 WO PCT/JP2018/004212 patent/WO2018163696A1/ja unknown
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03119764A (ja) * | 1989-10-02 | 1991-05-22 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
JP2002164544A (ja) * | 2000-11-28 | 2002-06-07 | Sony Corp | 半導体装置 |
JP2002314041A (ja) * | 2001-04-19 | 2002-10-25 | Seiko Instruments Inc | 半導体集積回路 |
JP2004006870A (ja) * | 2003-05-14 | 2004-01-08 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
JP2012256649A (ja) * | 2011-06-07 | 2012-12-27 | Renesas Electronics Corp | 半導体装置、半導体ウエハ、及びこれらの製造方法 |
JP2013093371A (ja) * | 2011-10-24 | 2013-05-16 | Sony Corp | 半導体装置、および、その製造方法、固体撮像装置 |
JP2014038952A (ja) * | 2012-08-17 | 2014-02-27 | Fujitsu Semiconductor Ltd | 半導体装置の製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020080272A1 (ja) | 2018-10-19 | 2020-04-23 | 三菱重工業株式会社 | 半導体メモリの放射線耐性補償装置及びその方法並びに電子回路 |
US11250906B2 (en) | 2018-10-19 | 2022-02-15 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Apparatus for compensating for radiation resistance of semiconductor memory, method therefor, and electronic circuit |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2018163696A1 (ja) | 2018-09-13 |
JP6889441B2 (ja) | 2021-06-18 |
US10833673B2 (en) | 2020-11-10 |
EP3579268B1 (en) | 2024-01-10 |
US20200007124A1 (en) | 2020-01-02 |
EP3579268A1 (en) | 2019-12-11 |
EP3579268A4 (en) | 2020-02-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2018163696A1 (ja) | 半導体装置 | |
US9082640B2 (en) | Pass gate and semiconductor storage device having the same | |
US9190334B2 (en) | SOI integrated circuit comprising adjacent cells of different types | |
JP4850387B2 (ja) | 半導体装置 | |
TWI474319B (zh) | 靜態隨機存取記憶體型態之記憶體胞元及其製造與控制之方法 | |
US20060278927A1 (en) | Body biasing structure of soi | |
JP5775065B2 (ja) | 明白に異なる閾値電圧を有するトランジスタを持つsoiから製造する集積回路 | |
US10950597B2 (en) | Electrostatic protection circuit and a semiconductor structure | |
US11018128B2 (en) | Semiconductor device | |
JP2005026366A (ja) | 半導体記憶装置及び半導体集積回路 | |
JP4805655B2 (ja) | 半導体記憶装置 | |
US8928056B2 (en) | Nonvolatile semiconductor memory device | |
WO2010082498A1 (ja) | 半導体装置 | |
KR100667909B1 (ko) | 비휘발성 반도체 메모리 장치 | |
US9646680B2 (en) | Power gate for latch-up prevention | |
JP4739289B2 (ja) | 半導体集積回路 | |
US8541863B2 (en) | Data retention in a single poly EPROM cell | |
JPH02309661A (ja) | 半導体集積回路 | |
JP4053506B2 (ja) | 半導体集積回路 | |
JP2021197538A (ja) | 半導体装置 | |
JP5888555B2 (ja) | 不揮発性半導体記憶装置 | |
US9385184B2 (en) | Active device and semiconductor device with the same | |
KR100309475B1 (ko) | 반도체 메모리 | |
KR20090091524A (ko) | 반도체 소자 구동방법 | |
JP2008130711A (ja) | 半導体装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20170407 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20180119 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20191212 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200213 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200213 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210414 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210512 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6889441 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |