JP2018147917A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10469692B2 (en) * 2015-02-18 2019-11-05 V Technology Co., Ltd. Scanning exposure device
CN120469170A (zh) * 2019-09-19 2025-08-12 株式会社斯库林集团 曝光装置
JP7475232B2 (ja) * 2020-07-22 2024-04-26 株式会社ディスコ 保護部材形成装置
CN113176712B (zh) * 2021-04-25 2024-12-31 上海图双精密装备有限公司 一种适于接触式光刻机的曝光装置
WO2024242214A1 (ko) * 2023-05-23 2024-11-28 정재현 광 조사장치

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3378271B2 (ja) 1992-06-11 2003-02-17 株式会社ニコン 露光方法及び装置、並びに前記方法を使用するデバイス製造方法
US5763892A (en) 1995-06-19 1998-06-09 Dainippon Screen Manufacturing Company, Ltd. Ultraviolet irradiator for substrate, substrate treatment system, and method of irradiating substrate with ultraviolet light
TW416532U (en) 1996-03-26 2000-12-21 C Sun Mfg Ltd Energy integrating controller of exposure machine
JPH10284407A (ja) 1997-04-08 1998-10-23 Nikon Corp 露光装置及び露光装置を用いた半導体デバイスの製造方法
JP2000100685A (ja) 1998-09-17 2000-04-07 Nikon Corp 露光装置及び該装置を用いた露光方法
JP2001110710A (ja) 1999-10-08 2001-04-20 Nikon Corp 露光装置、露光方法、および半導体デバイスの製造方法
US6211942B1 (en) * 2000-03-10 2001-04-03 Howa Machinery Ltd. Double-sided exposure system
JP2001284236A (ja) 2000-03-31 2001-10-12 Canon Inc 投影露光装置及び露光方法
JP4485282B2 (ja) 2004-08-06 2010-06-16 シャープ株式会社 露光装置、露光量制御方法、露光量制御プログラムとその記録媒体
EP1906251A1 (en) * 2006-09-26 2008-04-02 Carl Zeiss SMT AG Projection exposure method and projection exposure system
JP4952375B2 (ja) * 2007-05-23 2012-06-13 株式会社明電舎 レジスト除去方法及びその装置
US20110130009A1 (en) * 2009-11-30 2011-06-02 Lam Research Ag Method and apparatus for surface treatment using a mixture of acid and oxidizing gas
CN203037348U (zh) 2012-12-04 2013-07-03 彩虹(佛山)平板显示有限公司 玻璃基板表面积光量的检测装置
JP6099970B2 (ja) * 2012-12-27 2017-03-22 キヤノン株式会社 露光装置及びデバイスの製造方法
JP6099969B2 (ja) * 2012-12-27 2017-03-22 キヤノン株式会社 露光装置及びデバイスの製造方法
DE102013204466A1 (de) * 2013-03-14 2014-09-18 Carl Zeiss Smt Gmbh Messung einer optischen Symmetrieeigenschaft an einer Projektionsbelichtungsanlage
US9318663B2 (en) * 2013-07-10 2016-04-19 Epistar Corporation Light-emitting element
JP6535197B2 (ja) 2014-04-28 2019-06-26 株式会社ブイ・テクノロジー 露光装置及び露光方法
KR101681636B1 (ko) * 2014-11-28 2016-12-02 세메스 주식회사 에지 노광 장치 및 방법, 기판 처리 장치
JP6543064B2 (ja) 2015-03-25 2019-07-10 株式会社Screenホールディングス 露光装置、基板処理装置、基板の露光方法および基板処理方法
JP6495707B2 (ja) * 2015-03-25 2019-04-03 株式会社Screenホールディングス 露光装置および基板処理装置
JP2017044537A (ja) * 2015-08-25 2017-03-02 ウシオ電機株式会社 照度計、光照射装置および照度測定方法
JP6872385B2 (ja) * 2017-03-01 2021-05-19 株式会社Screenホールディングス 露光装置、基板処理装置、基板の露光方法および基板処理方法

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