JP2018147918A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2018147918A5
JP2018147918A5 JP2017038236A JP2017038236A JP2018147918A5 JP 2018147918 A5 JP2018147918 A5 JP 2018147918A5 JP 2017038236 A JP2017038236 A JP 2017038236A JP 2017038236 A JP2017038236 A JP 2017038236A JP 2018147918 A5 JP2018147918 A5 JP 2018147918A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
light
unit
vacuum ultraviolet
illuminometer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2017038236A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2018147918A (ja
JP6768561B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from JP2017038236A external-priority patent/JP6768561B2/ja
Priority to JP2017038236A priority Critical patent/JP6768561B2/ja
Priority to KR1020197023927A priority patent/KR102307596B1/ko
Priority to CN201780077239.0A priority patent/CN110100301B/zh
Priority to PCT/JP2017/036074 priority patent/WO2018159005A1/ja
Priority to TW106135708A priority patent/TWI649642B/zh
Publication of JP2018147918A publication Critical patent/JP2018147918A/ja
Publication of JP2018147918A5 publication Critical patent/JP2018147918A5/ja
Publication of JP6768561B2 publication Critical patent/JP6768561B2/ja
Application granted granted Critical
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

JP2017038236A 2017-03-01 2017-03-01 露光装置、基板処理装置、基板の露光方法および基板処理方法 Active JP6768561B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017038236A JP6768561B2 (ja) 2017-03-01 2017-03-01 露光装置、基板処理装置、基板の露光方法および基板処理方法
KR1020197023927A KR102307596B1 (ko) 2017-03-01 2017-10-04 노광 장치, 기판 처리 장치, 기판의 노광 방법 및 기판 처리 방법
CN201780077239.0A CN110100301B (zh) 2017-03-01 2017-10-04 曝光装置、衬底处理装置、衬底曝光方法及衬底处理方法
PCT/JP2017/036074 WO2018159005A1 (ja) 2017-03-01 2017-10-04 露光装置、基板処理装置、基板の露光方法および基板処理方法
TW106135708A TWI649642B (zh) 2017-03-01 2017-10-18 曝光裝置、基板處理裝置、基板曝光方法以及基板處理方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017038236A JP6768561B2 (ja) 2017-03-01 2017-03-01 露光装置、基板処理装置、基板の露光方法および基板処理方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2018147918A JP2018147918A (ja) 2018-09-20
JP2018147918A5 true JP2018147918A5 (https=) 2020-04-02
JP6768561B2 JP6768561B2 (ja) 2020-10-14

Family

ID=63370897

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017038236A Active JP6768561B2 (ja) 2017-03-01 2017-03-01 露光装置、基板処理装置、基板の露光方法および基板処理方法

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP6768561B2 (https=)
KR (1) KR102307596B1 (https=)
CN (1) CN110100301B (https=)
TW (1) TWI649642B (https=)
WO (1) WO2018159005A1 (https=)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6811119B2 (ja) * 2017-03-01 2021-01-13 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 露光装置、基板処理装置、基板の露光方法および基板処理方法
US11968772B2 (en) * 2019-05-30 2024-04-23 Kla Corporation Optical etendue matching methods for extreme ultraviolet metrology
CN120469170A (zh) * 2019-09-19 2025-08-12 株式会社斯库林集团 曝光装置

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3378271B2 (ja) * 1992-06-11 2003-02-17 株式会社ニコン 露光方法及び装置、並びに前記方法を使用するデバイス製造方法
JPH10229038A (ja) * 1997-02-14 1998-08-25 Nikon Corp 露光量制御方法
JPH10284407A (ja) * 1997-04-08 1998-10-23 Nikon Corp 露光装置及び露光装置を用いた半導体デバイスの製造方法
EP1009020B1 (en) * 1997-07-25 2007-04-04 Nikon Corporation Exposure method and exposure apparatus
JPH11251220A (ja) * 1998-03-02 1999-09-17 Nikon Corp 露光装置及び露光方法
JP2000100685A (ja) * 1998-09-17 2000-04-07 Nikon Corp 露光装置及び該装置を用いた露光方法
JP2001110710A (ja) * 1999-10-08 2001-04-20 Nikon Corp 露光装置、露光方法、および半導体デバイスの製造方法
US6211942B1 (en) * 2000-03-10 2001-04-03 Howa Machinery Ltd. Double-sided exposure system
JPWO2006006730A1 (ja) * 2004-07-15 2008-05-01 株式会社ニコン 平面モータ装置、ステージ装置、露光装置及びデバイスの製造方法
JP4485282B2 (ja) * 2004-08-06 2010-06-16 シャープ株式会社 露光装置、露光量制御方法、露光量制御プログラムとその記録媒体
JP4491445B2 (ja) * 2005-11-04 2010-06-30 株式会社オーク製作所 周辺露光装置およびその方法
JP4859660B2 (ja) * 2006-12-27 2012-01-25 東京応化工業株式会社 基板処置装置
JP2013104934A (ja) * 2011-11-11 2013-05-30 Tokyo Electron Ltd 露光装置及び露光方法
JP6535197B2 (ja) * 2014-04-28 2019-06-26 株式会社ブイ・テクノロジー 露光装置及び露光方法
JP6543064B2 (ja) * 2015-03-25 2019-07-10 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 露光装置、基板処理装置、基板の露光方法および基板処理方法
JP6495707B2 (ja) * 2015-03-25 2019-04-03 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 露光装置および基板処理装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102314093B (zh) 局部曝光装置和局部曝光方法
JP5470236B2 (ja) 局所露光方法及び局所露光装置
JP2018147918A5 (https=)
TWI659275B (zh) 曝光裝置、基板處理裝置、曝光方法、及基板處理方法
TWI820009B (zh) 光處理裝置及基板處理裝置
TWI706226B (zh) 曝光裝置、基板處理裝置、基板之曝光方法及基板處理方法
JP2018147917A5 (https=)
JP6768561B2 (ja) 露光装置、基板処理装置、基板の露光方法および基板処理方法
TWI661276B (zh) 曝光裝置、基板處理裝置、基板的曝光方法以及基板處理方法
TWI682433B (zh) 曝光裝置、基板處理裝置、基板曝光方法以及基板處理方法
CN114728479B (zh) 后曝光单元
JP2018146617A5 (https=)
WO2018190273A1 (ja) 露光装置、基板処理装置、基板の露光方法および基板処理方法
JP5327135B2 (ja) 周縁露光装置及び周縁露光方法
KR100850112B1 (ko) 씨디 균일도 향상을 위한 피이비장치
JPS62143426A (ja) 光照射装置
JP2019057641A (ja) 露光装置、基板処理装置、露光方法および基板処理方法
JP2004327688A (ja) レジスト現像方法及びレジスト現像装置
JP2011142150A5 (https=)