JP2018146945A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2018146945A5
JP2018146945A5 JP2017107394A JP2017107394A JP2018146945A5 JP 2018146945 A5 JP2018146945 A5 JP 2018146945A5 JP 2017107394 A JP2017107394 A JP 2017107394A JP 2017107394 A JP2017107394 A JP 2017107394A JP 2018146945 A5 JP2018146945 A5 JP 2018146945A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
phase shift
film
shift film
mask blank
alloy
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2017107394A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2018146945A (ja
JP6861095B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to SG11201907623RA priority Critical patent/SG11201907623RA/en
Priority to US16/490,018 priority patent/US11003068B2/en
Priority to KR1020247005441A priority patent/KR20240025717A/ko
Priority to KR1020197028297A priority patent/KR102639087B1/ko
Priority to PCT/JP2018/006054 priority patent/WO2018159392A1/ja
Priority to TW107106939A priority patent/TWI783976B/zh
Priority to TW112149754A priority patent/TWI881609B/zh
Priority to TW111139214A priority patent/TWI828372B/zh
Publication of JP2018146945A publication Critical patent/JP2018146945A/ja
Publication of JP2018146945A5 publication Critical patent/JP2018146945A5/ja
Priority to JP2021054859A priority patent/JP7263424B2/ja
Priority to US17/227,655 priority patent/US11480867B2/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6861095B2 publication Critical patent/JP6861095B2/ja
Priority to US17/946,709 priority patent/US11880130B2/en
Priority to JP2023064906A priority patent/JP7588176B2/ja
Priority to US18/526,463 priority patent/US12135496B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2017107394A 2017-03-03 2017-05-31 反射型マスクブランク、反射型マスク及び半導体装置の製造方法 Active JP6861095B2 (ja)

Priority Applications (13)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SG11201907623RA SG11201907623RA (en) 2017-03-03 2018-02-20 Reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing semiconductor device
US16/490,018 US11003068B2 (en) 2017-03-03 2018-02-20 Reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing semiconductor device
KR1020247005441A KR20240025717A (ko) 2017-03-03 2018-02-20 반사형 마스크 블랭크, 반사형 마스크 및 반도체 장치의 제조 방법
KR1020197028297A KR102639087B1 (ko) 2017-03-03 2018-02-20 반사형 마스크 블랭크, 반사형 마스크 및 반도체 장치의 제조 방법
PCT/JP2018/006054 WO2018159392A1 (ja) 2017-03-03 2018-02-20 反射型マスクブランク、反射型マスク及び半導体装置の製造方法
TW112149754A TWI881609B (zh) 2017-03-03 2018-03-02 反射型光罩基底、反射型光罩及半導體裝置之製造方法
TW111139214A TWI828372B (zh) 2017-03-03 2018-03-02 反射型光罩基底、反射型光罩及半導體裝置之製造方法
TW107106939A TWI783976B (zh) 2017-03-03 2018-03-02 反射型光罩基底、反射型光罩及半導體裝置之製造方法
JP2021054859A JP7263424B2 (ja) 2017-03-03 2021-03-29 反射型マスクブランク、反射型マスク及び半導体装置の製造方法
US17/227,655 US11480867B2 (en) 2017-03-03 2021-04-12 Reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing semiconductor device
US17/946,709 US11880130B2 (en) 2017-03-03 2022-09-16 Reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing semiconductor device
JP2023064906A JP7588176B2 (ja) 2017-03-03 2023-04-12 反射型マスクブランク、反射型マスク及び半導体装置の製造方法
US18/526,463 US12135496B2 (en) 2017-03-03 2023-12-01 Reflective mask blank and reflective mask

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017040043 2017-03-03
JP2017040043 2017-03-03

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021054859A Division JP7263424B2 (ja) 2017-03-03 2021-03-29 反射型マスクブランク、反射型マスク及び半導体装置の製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2018146945A JP2018146945A (ja) 2018-09-20
JP2018146945A5 true JP2018146945A5 (enExample) 2020-05-14
JP6861095B2 JP6861095B2 (ja) 2021-04-21

Family

ID=63592111

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017107394A Active JP6861095B2 (ja) 2017-03-03 2017-05-31 反射型マスクブランク、反射型マスク及び半導体装置の製造方法
JP2021054859A Active JP7263424B2 (ja) 2017-03-03 2021-03-29 反射型マスクブランク、反射型マスク及び半導体装置の製造方法

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021054859A Active JP7263424B2 (ja) 2017-03-03 2021-03-29 反射型マスクブランク、反射型マスク及び半導体装置の製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (2) US11003068B2 (enExample)
JP (2) JP6861095B2 (enExample)
KR (1) KR102639087B1 (enExample)
SG (1) SG11201907623RA (enExample)
TW (1) TWI783976B (enExample)

Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20240025717A (ko) 2017-03-03 2024-02-27 호야 가부시키가이샤 반사형 마스크 블랭크, 반사형 마스크 및 반도체 장치의 제조 방법
TWI835896B (zh) 2018-10-26 2024-03-21 美商應用材料股份有限公司 具有後側塗層的極紫外線掩模
KR20210134605A (ko) * 2019-03-13 2021-11-10 호야 가부시키가이샤 반사형 마스크 블랭크, 반사형 마스크 및 그 제조 방법, 그리고 반도체 장치의 제조 방법
JP7401356B2 (ja) * 2019-03-27 2023-12-19 Hoya株式会社 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク及び反射型マスク、並びに半導体装置の製造方法
JP7315726B2 (ja) 2019-09-24 2023-07-26 エルジー エナジー ソリューション リミテッド パターンが形成されたリチウム‐硫黄二次電池用正極、この製造方法及びこれを含むリチウム‐硫黄二次電池
KR102644109B1 (ko) * 2019-10-29 2024-03-07 에이지씨 가부시키가이샤 반사형 마스크 블랭크 및 반사형 마스크
JP6929340B2 (ja) * 2019-11-21 2021-09-01 Hoya株式会社 反射型マスクブランクおよび反射型マスク、並びに半導体装置の製造方法
KR20220122614A (ko) * 2019-12-27 2022-09-02 에이지씨 가부시키가이샤 Euv 리소그래피용 반사형 마스크 블랭크, euv 리소그래피용 반사형 마스크 및 그들의 제조 방법
JP7295215B2 (ja) * 2021-02-25 2023-06-20 エスアンドエス テック カンパニー リミテッド 極紫外線リソグラフィ用位相反転ブランクマスク及びフォトマスク
KR102837249B1 (ko) * 2021-02-25 2025-07-22 주식회사 에스앤에스텍 극자외선 리소그래피용 위상반전 블랭크마스크 및 포토마스크
JP7616099B2 (ja) * 2021-03-03 2025-01-17 信越化学工業株式会社 反射型マスクブランク及びその製造方法
US20220283491A1 (en) * 2021-03-03 2022-09-08 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Reflective mask blank, and method for manufacturing thereof
US12181790B2 (en) * 2021-03-03 2024-12-31 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Reflective mask blank and reflective mask
US20240184193A1 (en) 2021-05-27 2024-06-06 Hoya Corporation Mask blank, reflective mask, and method for producing semiconductor device
JP7699970B2 (ja) * 2021-06-10 2025-06-30 Hoya株式会社 マスクブランク、反射型マスク及び半導体デバイスの製造方法
WO2023008435A1 (ja) * 2021-07-30 2023-02-02 Ａｇｃ株式会社 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法
WO2023112767A1 (ja) * 2021-12-13 2023-06-22 Ａｇｃ株式会社 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法
KR102624893B1 (ko) 2021-12-13 2024-01-16 에이지씨 가부시키가이샤 반사형 마스크 블랭크, 반사형 마스크, 반사형 마스크 블랭크의 제조 방법 및 반사형 마스크의 제조 방법
KR20250153884A (ko) * 2022-04-01 2025-10-27 에이지씨 가부시키가이샤 반사형 마스크 블랭크, 반사형 마스크, 반사형 마스크 블랭크의 제조 방법 및 반사형 마스크의 제조 방법
KR102814237B1 (ko) * 2022-06-20 2025-05-30 주식회사 에스앤에스텍 극자외선 리소그래피용 블랭크마스크 및 포토마스크
WO2024009809A1 (ja) * 2022-07-05 2024-01-11 Ａｇｃ株式会社 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、および反射型マスクの製造方法
WO2024009819A1 (ja) * 2022-07-05 2024-01-11 Ａｇｃ株式会社 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、および反射型マスクの製造方法
KR102762202B1 (ko) 2022-07-05 2025-02-07 에이지씨 가부시키가이샤 반사형 마스크 블랭크, 반사형 마스크, 반사형 마스크 블랭크의 제조 방법 및 반사형 마스크의 제조 방법
KR102882827B1 (ko) * 2022-10-13 2025-11-07 주식회사 에스앤에스텍 극자외선 리소그래피용 위상반전 블랭크마스크 및 포토마스크
JP2024119143A (ja) * 2023-02-22 2024-09-03 Hoya株式会社 反射型マスクブランク、反射型マスク及び半導体デバイスの製造方法
WO2024225163A1 (ja) * 2023-04-28 2024-10-31 Ａｇｃ株式会社 反射型マスクブランク、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法
JP2025163548A (ja) * 2024-04-17 2025-10-29 信越化学工業株式会社 反射型フォトマスクブランク、及び反射型フォトマスクの製造方法

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5233321B1 (enExample) 1971-07-10 1977-08-27
US3883454A (en) 1972-10-31 1975-05-13 Bayer Ag Binders for environmentally harmless laquer systems
JP3078163B2 (ja) * 1993-10-15 2000-08-21 キヤノン株式会社 リソグラフィ用反射型マスクおよび縮小投影露光装置
JP4458216B2 (ja) * 2000-09-01 2010-04-28 信越化学工業株式会社 フォトマスク用ブランクス及びフォトマスクの製造方法
US7282307B2 (en) * 2004-06-18 2007-10-16 Freescale Semiconductor, Inc. Reflective mask useful for transferring a pattern using extreme ultra violet (EUV) radiation and method of making the same
JP2006228766A (ja) 2005-02-15 2006-08-31 Toppan Printing Co Ltd 極端紫外線露光用マスク、マスクブランク、及び露光方法
JP5233321B2 (ja) 2008-02-27 2013-07-10 凸版印刷株式会社 極端紫外線露光用マスクブランク、極端紫外線露光用マスク、極端紫外線露光用マスクの製造方法及び極端紫外線露光用マスクを用いたパターン転写方法
JP5702920B2 (ja) * 2008-06-25 2015-04-15 Hoya株式会社 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスクおよび位相シフトマスクブランクの製造方法
JP5266988B2 (ja) 2008-09-10 2013-08-21 凸版印刷株式会社 ハーフトーン型ｅｕｖマスク、ハーフトーン型ｅｕｖマスクブランク、ハーフトーン型ｅｕｖマスクの製造方法及びパターン転写方法
WO2011004850A1 (ja) * 2009-07-08 2011-01-13 旭硝子株式会社 Ｅｕｖリソグラフィ用反射型マスクブランク
JP5556452B2 (ja) * 2010-07-06 2014-07-23 信越化学工業株式会社 パターン形成方法
KR20140004057A (ko) * 2010-08-24 2014-01-10 아사히 가라스 가부시키가이샤 Euv 리소그래피용 반사형 마스크 블랭크
KR102056509B1 (ko) * 2012-07-13 2019-12-16 호야 가부시키가이샤 마스크 블랭크 및 위상 시프트 마스크의 제조 방법
JP6287099B2 (ja) * 2013-05-31 2018-03-07 旭硝子株式会社 Ｅｕｖリソグラフィ用反射型マスクブランク
KR20170120212A (ko) 2013-09-18 2017-10-30 호야 가부시키가이샤 반사형 마스크 블랭크 및 그 제조방법, 반사형 마스크 그리고 반도체 장치의 제조방법
JP6301127B2 (ja) * 2013-12-25 2018-03-28 Hoya株式会社 反射型マスクブランク及び反射型マスク、並びに半導体装置の製造方法
JP6381921B2 (ja) * 2014-01-30 2018-08-29 Hoya株式会社 反射型マスクブランク、反射型マスクの製造方法、及び半導体装置の製造方法
JP6440996B2 (ja) * 2014-08-22 2018-12-19 Hoya株式会社 反射型マスクブランク及びその製造方法、反射型マスクの製造方法、並びに半導体装置の製造方法
JP6441012B2 (ja) * 2014-09-30 2018-12-19 Hoya株式会社 反射型マスクブランク、反射型マスク及びその製造方法、並びに半導体装置の製造方法
JP6499440B2 (ja) 2014-12-24 2019-04-10 Hoya株式会社 反射型マスクブランク及び反射型マスク
JP6739960B2 (ja) * 2016-03-28 2020-08-12 Hoya株式会社 反射型マスクブランク、反射型マスク及び半導体装置の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2018146945A5 (enExample)
JP2015092281A5 (enExample)
JP2017181571A5 (enExample)
TWI775442B (zh) 反射型遮罩基底、反射型遮罩及半導體裝置之製造方法
SG11201907623RA (en) Reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing semiconductor device
TWI605299B (zh) 顯示裝置製造用相偏移光罩基底、顯示裝置製造用相偏移光罩及其製造方法、以及顯示裝置之製造方法
JP2021015299A5 (enExample)
JP2015212826A5 (enExample)
TW200502676A (en) Photomask blank, photomask, and method of manufacture
JP2015200883A5 (enExample)
JP2016021075A5 (enExample)
JP2016164683A5 (enExample)
EP2881790A3 (en) Photomask blank
JP2015102633A5 (enExample)
JP2014137388A5 (enExample)
JP2011081356A5 (enExample)
JP2019035947A5 (enExample)
JP6812236B2 (ja) 位相シフトマスクブランク及びこれを用いた位相シフトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
JP2019207361A5 (enExample)
JP2019035954A5 (enExample)
JP2019207359A5 (enExample)
JP2009104174A5 (enExample)
JP2018106023A5 (enExample)
JP2007335908A5 (enExample)
JP2017049312A5 (enExample)