JP2019174806A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019174806A5 JP2019174806A5 JP2019056697A JP2019056697A JP2019174806A5 JP 2019174806 A5 JP2019174806 A5 JP 2019174806A5 JP 2019056697 A JP2019056697 A JP 2019056697A JP 2019056697 A JP2019056697 A JP 2019056697A JP 2019174806 A5 JP2019174806 A5 JP 2019174806A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- phase shift
- silicon
- layer
- intermediate layer
- material composed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 76
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 claims 50
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 40
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims 40
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims 40
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims 38
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 36
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 36
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims 36
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims 36
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 claims 18
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 claims 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 13
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims 1
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2018058004 | 2018-03-26 | ||
| JP2018058004 | 2018-03-26 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2019174806A JP2019174806A (ja) | 2019-10-10 |
| JP2019174806A5 true JP2019174806A5 (enExample) | 2022-03-29 |
| JP7201502B2 JP7201502B2 (ja) | 2023-01-10 |
Family
ID=68058151
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2019056697A Active JP7201502B2 (ja) | 2018-03-26 | 2019-03-25 | マスクブランク、位相シフトマスク及び半導体デバイスの製造方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20210026235A1 (enExample) |
| JP (1) | JP7201502B2 (enExample) |
| KR (1) | KR20200133377A (enExample) |
| CN (1) | CN111902772A (enExample) |
| SG (1) | SG11202009172VA (enExample) |
| TW (1) | TWI854972B (enExample) |
| WO (1) | WO2019188397A1 (enExample) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7296927B2 (ja) * | 2020-09-17 | 2023-06-23 | 信越化学工業株式会社 | 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び位相シフトマスク |
| JP7640293B2 (ja) * | 2021-03-09 | 2025-03-05 | テクセンドフォトマスク株式会社 | 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法及び位相シフトマスクの修正方法 |
| JP7558861B2 (ja) * | 2021-03-23 | 2024-10-01 | Hoya株式会社 | マスクブランク、位相シフトマスク及び半導体デバイスの製造方法 |
| CN115202146A (zh) * | 2021-04-14 | 2022-10-18 | 上海传芯半导体有限公司 | 移相掩膜版及其制作方法 |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3115185B2 (ja) | 1993-05-25 | 2000-12-04 | 株式会社東芝 | 露光用マスクとパターン形成方法 |
| US6274280B1 (en) | 1999-01-14 | 2001-08-14 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Multilayer attenuating phase-shift masks |
| DE10393095B4 (de) * | 2002-12-26 | 2011-07-07 | Hoya Corp. | Lithografiemaskenrohling |
| JP2010217514A (ja) | 2009-03-17 | 2010-09-30 | Toppan Printing Co Ltd | フォトマスクの製造方法 |
| JP6005530B2 (ja) * | 2013-01-15 | 2016-10-12 | Hoya株式会社 | マスクブランク、位相シフトマスクおよびこれらの製造方法 |
| JP5686216B1 (ja) * | 2013-08-20 | 2015-03-18 | 大日本印刷株式会社 | マスクブランクス、位相シフトマスク及びその製造方法 |
| JP6264238B2 (ja) * | 2013-11-06 | 2018-01-24 | 信越化学工業株式会社 | ハーフトーン位相シフト型フォトマスクブランク、ハーフトーン位相シフト型フォトマスク及びパターン露光方法 |
| KR101759046B1 (ko) * | 2014-03-18 | 2017-07-17 | 호야 가부시키가이샤 | 마스크 블랭크, 위상 시프트 마스크 및 반도체 디바이스의 제조 방법 |
| JP2016035559A (ja) * | 2014-08-04 | 2016-03-17 | 信越化学工業株式会社 | ハーフトーン位相シフト型フォトマスクブランク及びその製造方法 |
| WO2016103843A1 (ja) * | 2014-12-26 | 2016-06-30 | Hoya株式会社 | マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 |
| JP6341129B2 (ja) * | 2015-03-31 | 2018-06-13 | 信越化学工業株式会社 | ハーフトーン位相シフトマスクブランク及びハーフトーン位相シフトマスク |
| JP6418035B2 (ja) * | 2015-03-31 | 2018-11-07 | 信越化学工業株式会社 | 位相シフトマスクブランクス及び位相シフトマスク |
| JP6477159B2 (ja) * | 2015-03-31 | 2019-03-06 | 信越化学工業株式会社 | ハーフトーン位相シフトマスクブランクス及びハーフトーン位相シフトマスクブランクスの製造方法 |
| JP6058757B1 (ja) * | 2015-07-15 | 2017-01-11 | Hoya株式会社 | マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 |
| JP6558326B2 (ja) * | 2016-08-23 | 2019-08-14 | 信越化学工業株式会社 | ハーフトーン位相シフトマスクブランクの製造方法、ハーフトーン位相シフトマスクブランク、ハーフトーン位相シフトマスク及びフォトマスクブランク用薄膜形成装置 |
-
2019
- 2019-03-15 US US17/040,937 patent/US20210026235A1/en not_active Abandoned
- 2019-03-15 KR KR1020207030238A patent/KR20200133377A/ko not_active Ceased
- 2019-03-15 SG SG11202009172VA patent/SG11202009172VA/en unknown
- 2019-03-15 WO PCT/JP2019/010772 patent/WO2019188397A1/ja not_active Ceased
- 2019-03-15 CN CN201980022136.3A patent/CN111902772A/zh active Pending
- 2019-03-20 TW TW108109465A patent/TWI854972B/zh active
- 2019-03-25 JP JP2019056697A patent/JP7201502B2/ja active Active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2016164683A5 (enExample) | ||
| JP2016189002A5 (enExample) | ||
| JP2016021075A5 (enExample) | ||
| JP2012078441A5 (enExample) | ||
| JP2019174806A5 (enExample) | ||
| JP2013254206A5 (enExample) | ||
| JP2015191218A5 (enExample) | ||
| JP2017049312A5 (enExample) | ||
| JP2019040200A5 (ja) | マスクブランク、位相シフトマスク、及び半導体デバイスの製造方法 | |
| JP2015200883A5 (enExample) | ||
| JP2015212826A5 (enExample) | ||
| TWI658320B (zh) | 圖案轉印方法及顯示裝置之製造方法 | |
| JP2017181571A5 (enExample) | ||
| JP2015092281A5 (enExample) | ||
| JP2022064956A5 (enExample) | ||
| JP2015102633A5 (enExample) | ||
| EP1801647A4 (en) | DRAFT FOR PHOTOMASQUE AND PHOTOMASQUE | |
| JP2011215614A (ja) | 多階調フォトマスク、多階調フォトマスクの製造方法、及びパターン転写方法 | |
| JP2013134435A5 (enExample) | ||
| TWI752019B (zh) | 具有多層遮光層的光罩 | |
| JP2011090344A5 (enExample) | ||
| JP2019207359A5 (enExample) | ||
| JP2019207361A5 (enExample) | ||
| JP6554031B2 (ja) | フォトマスクの製造方法及び表示装置の製造方法 | |
| JP2017223890A5 (enExample) |