JP7201502B2 - マスクブランク、位相シフトマスク及び半導体デバイスの製造方法 - Google Patents
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Description
透光性基板上に、位相シフト膜を備えたマスクブランクであって、前記位相シフト膜は、前記透光性基板側から下層、中間層および上層の順に積層した構造を含み、前記下層は、ケイ素と窒素とからなる材料、または半金属元素および非金属元素から選ばれる1以上の元素とケイ素と窒素とからなる材料で形成され、前記中間層は、ケイ素と窒素と酸素とからなる材料、または半金属元素および非金属元素から選ばれる1以上の元素とケイ素と窒素と酸素とからなる材料で形成され、前記上層は、ケイ素と酸素とからなる材料、または半金属元素および非金属元素から選ばれる1以上の元素とケイ素と酸素とからなる材料で形成され、前記下層は、前記中間層および前記上層よりも窒素の含有量が多く、前記上層は、前記中間層および前記下層よりも酸素の含有量が多く、前記位相シフト膜の全体膜厚に対する前記中間層の膜厚の比率が、0.15以上であり、前記位相シフト膜の全体膜厚に対する前記上層の膜厚の比率が、0.10以下であることを特徴とするマスクブランク。
前記位相シフト膜の全体膜厚に対する前記下層の膜厚の比率が、0.80以下であることを特徴とする構成1記載のマスクブランク。
(構成3)
前記中間層は、前記上層よりも窒素の含有量が多く、前記下層よりも酸素の含有量が多いことを特徴とする構成1または2に記載のマスクブランク。
前記中間層は、窒素の含有量が30原子%以上であり、酸素の含有量が10原子%以上であることを特徴とする構成1から3のいずれかに記載のマスクブランク。
(構成5)
前記下層は、窒素の含有量が50原子%以上であることを特徴とする構成1から4のいずれかに記載のマスクブランク。
前記上層は、酸素の含有量が50原子%以上であることを特徴とする構成1から5のいずれかに記載のマスクブランク。
(構成7)
前記下層は、前記中間層および前記上層よりも膜厚が厚く、前記中間層は、前記上層よりも膜厚が厚いことを特徴とする構成1から6のいずれかに記載のマスクブランク。
前記位相シフト膜は、ArFエキシマレーザーの露光光を2%以上の透過率で透過させる機能と、前記位相シフト膜を透過した前記露光光に対して前記位相シフト膜の厚さと同じ距離だけ空気中を通過した前記露光光との間で150度以上200度以下の位相差を生じさせる機能とを有することを特徴とする構成1から7のいずれかに記載のマスクブランク。
(構成9)
前記位相シフト膜上に、遮光膜を備えることを特徴とする構成1から8のいずれかに記載のマスクブランク。
透光性基板上に、転写パターンが形成された位相シフト膜を備えた位相シフトマスクであって、前記位相シフト膜は、前記透光性基板側から下層、中間層および上層の順に積層した構造を含み、前記下層は、ケイ素と窒素とからなる材料、または半金属元素および非金属元素から選ばれる1以上の元素とケイ素と窒素とからなる材料で形成され、前記中間層は、ケイ素と窒素と酸素とからなる材料、または半金属元素および非金属元素から選ばれる1以上の元素とケイ素と窒素と酸素とからなる材料で形成され、前記上層は、ケイ素と酸素とからなる材料、または半金属元素および非金属元素から選ばれる1以上の元素とケイ素と酸素とからなる材料で形成され、前記下層は、前記中間層および前記上層よりも窒素の含有量が多く、前記上層は、前記中間層および前記下層よりも酸素の含有量が多く、前記位相シフト膜の全体膜厚に対する前記中間層の膜厚の比率が、0.15以上であり、前記位相シフト膜の全体膜厚に対する前記上層の膜厚の比率が、0.10以下であることを特徴とする位相シフトマスク。
前記位相シフト膜の全体膜厚に対する前記下層の膜厚の比率が、0.80以下であることを特徴とする構成10記載の位相シフトマスク。
(構成12)
前記中間層は、前記上層よりも窒素の含有量が多く、前記下層よりも酸素の含有量が多いことを特徴とする構成10または11に記載の位相シフトマスク。
前記中間層は、窒素の含有量が30原子%以上であり、酸素の含有量が10原子%以上であることを特徴とする構成10から12のいずれかに記載の位相シフトマスク。
(構成14)
前記下層は、窒素の含有量が50原子%以上であることを特徴とする構成10から13のいずれかに記載の位相シフトマスク。
前記上層は、酸素の含有量が50原子%以上であることを特徴とする構成10から14のいずれかに記載の位相シフトマスク。
(構成16)
前記下層は、前記中間層および前記上層よりも膜厚が厚く、前記中間層は、前記上層よりも膜厚が厚いことを特徴とする構成10から15のいずれかに記載の位相シフトマスク。
前記位相シフト膜は、ArFエキシマレーザーの露光光を2%以上の透過率で透過させる機能と、前記位相シフト膜を透過した前記露光光に対して前記位相シフト膜の厚さと同じ距離だけ空気中を通過した前記露光光との間で150度以上200度以下の位相差を生じさせる機能とを有することを特徴とする構成10から16のいずれかに記載の位相シフトマスク。
(構成18)
前記位相シフト膜上に、遮光パターンが形成された遮光膜を備えることを特徴とする構成10から17のいずれかに記載の位相シフトマスク。
構成10から18のいずれかに記載の位相シフトマスクを用い、半導体基板上のレジスト膜に転写パターンを露光転写する工程を備えることを特徴とする半導体デバイスの製造方法。
酸化ケイ素系材料の上層を設けることで、ArF露光光の繰り返し照射を受けたときにおける位相シフト膜の表面から内部への酸素の侵入を抑制できる。一方、酸化ケイ素系材料の上層を設けることは、ドライエッチング後の位相シフト膜のパターン側壁に段差が生じる要因や、EB欠陥修正後の位相シフト膜のパターン側壁に段差が生じる要因や、位相シフト膜の全体膜厚が厚くなる要因となる。酸化ケイ素系材料の上層は、中間層の表面の全体を保護できれば、位相シフト膜の内部への酸素の侵入を抑制する効果が得られるので、上層の厚さは薄くてもよい。この観点から、位相シフト膜の全体膜厚に対する酸化ケイ素系材料の上層の膜厚の比率を0.1以下とすることにした。
(実施例1)
[マスクブランクの製造]
主表面の寸法が約152mm×約152mmで、厚さが約6.25mmの合成石英ガラスからなる透光性基板1を準備した。この透光性基板1は、端面及び主表面が所定の表面粗さに研磨され、その後、所定の洗浄処理および乾燥処理を施されたものであった。
次に、この実施例1のマスクブランク100を用い、以下の手順で実施例1の位相シフトマスク200を製造した。最初に、ハードマスク膜4の表面にHMDS処理を施した。続いて、スピン塗布法によって、ハードマスク膜4の表面に接して、電子線描画用化学増幅型レジストからなるレジスト膜を膜厚80nmで形成した。次に、このレジスト膜に対して、位相シフト膜2に形成すべき位相シフトパターンである第1のパターンを電子線描画した。さらに、所定の現像処理および洗浄処理を行い、第1のパターンを有する第1のレジストパターン5aを形成した(図2(a)参照)。なお、このとき、電子線描画したレジストパターン5aには、位相シフト膜2に黒欠陥が形成されるように、本来形成されるべき転写パターンの他にプログラム欠陥を加えておいた。
[マスクブランクの製造]
実施例2のマスクブランク100は、位相シフト膜2以外については、実施例1と同様の手順で製造した。具体的には、実施例1と同様の手順で、透光性基板1上に、ケイ素および窒素からなる下層21(SiN層 Si:N=48.5原子%:51.5原子%)を40.6nmの厚さで形成した。次に、下層21の上に、ケイ素、窒素および酸素からなる中間層22(SiON層 Si:O:N=41.9原子%:24.5原子%:33.6原子%)を24.6nmの厚さで形成した。次に、中間層22の上に、ケイ素および酸素からなる上層23(SiO層 Si:O=35.0原子%:65.0原子%)を4.3nmの厚さで形成した。
次に、この実施例2のマスクブランク100を用い、実施例1と同様の手順で、実施例2の位相シフトマスク200を製造した。製造した実施例2の位相シフトマスク200に対してマスク検査装置によってマスクパターンの検査を行った。その結果、プログラム欠陥を配置していた箇所の位相シフトパターン2aに黒欠陥の存在が確認された。EB欠陥修正によりその黒欠陥を除去した。
[マスクブランクの製造]
比較例1のマスクブランクは、位相シフト膜以外については、実施例1と同様の手順で製造した。具体的には、透光性基板1上に、ケイ素および窒素からなる単層構造の位相シフト膜(SiN膜 Si:N=48.5原子%:51.5原子%)を61.3nmの厚さで形成した。この位相シフト膜は、枚葉式RFスパッタ装置内に透光性基板1を設置し、ケイ素(Si)ターゲットを用い、クリプトン(Kr)、ヘリウム(He)および窒素(N2)の混合ガスをスパッタリングガスとし、RF電源による反応性スパッタリング(RFスパッタリング)によって形成した。
次に、この比較例1のマスクブランクを用い、実施例1と同様の手順で、比較例1の位相シフトマスクを製造した。製造した比較例1の位相シフトマスクに対してマスク検査装置によってマスクパターンの検査を行ったところ、プログラム欠陥を配置していた箇所の位相シフトパターンに黒欠陥の存在が確認された。EB欠陥修正によりその黒欠陥を除去した。
[マスクブランクの製造]
比較例2のマスクブランクは、位相シフト膜以外については、実施例1と同様の手順で製造した。具体的には、透光性基板1上に、ケイ素および窒素からなる位相シフト膜の下層(SiN層 Si:N=48.5原子%:51.5原子%)を59.5nmの厚さで形成した。この下層は、枚葉式RFスパッタ装置内に透光性基板1を設置し、ケイ素(Si)ターゲットを用い、クリプトン(Kr)、ヘリウム(He)および窒素(N2)の混合ガスをスパッタリングガスとし、RF電源による反応性スパッタリング(RFスパッタリング)によって形成した。続いて、上記下層の上に、ケイ素および酸素からなる位相シフト膜の上層(SiO層 Si:O=35.0原子%:65.0原子%)を6.5nmの厚さで形成した。この上層は、枚葉式RFスパッタ装置内に透光性基板1を設置し、二酸化ケイ素(SiO2)ターゲットを用い、アルゴン(Ar)ガスをスパッタリングガスとし、RF電源による反応性スパッタリング(RFスパッタリング)によって形成した。
次に、この比較例2のマスクブランクを用い、実施例1と同様の手順で、比較例2の位相シフトマスクを製造した。製造した比較例2の位相シフトマスクに対してマスク検査装置によってマスクパターンの検査を行った。その結果、プログラム欠陥を配置していた箇所の位相シフトパターンに黒欠陥の存在が確認された。EB欠陥修正によりその黒欠陥を除去した。
2 位相シフト膜
2a 位相シフトパターン
3 遮光膜
3a,3b 遮光パターン
4 ハードマスク膜
4a ハードマスクパターン
5a 第1のレジストパターン
6b 第2のレジストパターン
100 マスクブランク
200 位相シフトマスク
Claims (23)
- 透光性基板上に、位相シフト膜を備えたマスクブランクであって、
前記位相シフト膜は、前記透光性基板側から下層、中間層および上層の順に積層した構造を含み、
前記下層は、ケイ素と窒素とからなる材料、または半金属元素および非金属元素から選ばれる1以上の元素とケイ素と窒素とからなる材料で形成され、
前記中間層は、ケイ素と窒素と酸素とからなる材料、または半金属元素および非金属元素から選ばれる1以上の元素とケイ素と窒素と酸素とからなる材料で形成され、
前記上層は、ケイ素と酸素とからなる材料、または半金属元素および非金属元素から選ばれる1以上の元素とケイ素と酸素とからなる材料で形成され、
前記下層は、前記中間層および前記上層よりも窒素の含有量が多く、
前記上層は、前記中間層および前記下層よりも酸素の含有量が多く、
前記位相シフト膜の全体膜厚に対する前記中間層の膜厚の比率が、0.15以上であり、
前記位相シフト膜の全体膜厚に対する前記上層の膜厚の比率が、0.10以下であり、
前記中間層の窒素の含有量は30原子%以上であることを特徴とするマスクブランク。 - 透光性基板上に、位相シフト膜を備えたマスクブランクであって、
前記位相シフト膜は、前記透光性基板側から下層、中間層および上層の順に積層した構造を含み、
前記下層は、ケイ素と窒素とからなる材料、または半金属元素および非金属元素から選ばれる1以上の元素とケイ素と窒素とからなる材料で形成され、
前記中間層は、ケイ素と窒素と酸素とからなる材料、または半金属元素および非金属元素から選ばれる1以上の元素とケイ素と窒素と酸素とからなる材料で形成され、
前記上層は、ケイ素と酸素とからなる材料、または半金属元素および非金属元素から選ばれる1以上の元素とケイ素と酸素とからなる材料で形成され、
前記下層は、前記中間層および前記上層よりも窒素の含有量が多く、
前記上層は、前記中間層および前記下層よりも酸素の含有量が多く、
前記位相シフト膜の全体膜厚に対する前記中間層の膜厚の比率が、0.15以上であり、
前記位相シフト膜の全体膜厚に対する前記上層の膜厚の比率が、0.10以下であり、
前記中間層の酸素の含有量は30原子%以下であることを特徴とするマスクブランク。 - 透光性基板上に、位相シフト膜を備えたマスクブランクであって、
前記位相シフト膜は、前記透光性基板側から下層、中間層および上層の順に積層した構造を含み、
前記下層は、ケイ素と窒素とからなる材料、または半金属元素および非金属元素から選ばれる1以上の元素とケイ素と窒素とからなる材料で形成され、
前記中間層は、ケイ素と窒素と酸素とからなる材料、または半金属元素および非金属元素から選ばれる1以上の元素とケイ素と窒素と酸素とからなる材料で形成され、
前記上層は、ケイ素と酸素とからなる材料、または半金属元素および非金属元素から選ばれる1以上の元素とケイ素と酸素とからなる材料で形成され、
前記下層は、前記中間層および前記上層よりも窒素の含有量が多く、
前記上層は、前記中間層および前記下層よりも酸素の含有量が多く、
前記位相シフト膜の全体膜厚に対する前記中間層の膜厚の比率が、0.15以上であり、
前記位相シフト膜の全体膜厚に対する前記上層の膜厚の比率が、0.10以下であり、
前記中間層の窒素の含有量[原子%]を酸素の含有量[原子%]で除した比率が、1.0以上であることを特徴とするマスクブランク。 - 前記位相シフト膜の全体膜厚に対する前記下層の膜厚の比率が、0.80以下であることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載のマスクブランク。
- 前記中間層は、前記上層よりも窒素の含有量が多く、前記下層よりも酸素の含有量が多いことを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載のマスクブランク。
- 前記中間層は、酸素の含有量が10原子%以上であることを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載のマスクブランク。
- 前記下層は、窒素の含有量が50原子%以上であることを特徴とする請求項1から6のいずれかに記載のマスクブランク。
- 前記上層は、酸素の含有量が50原子%以上であることを特徴とする請求項1から7のいずれかに記載のマスクブランク。
- 前記下層は、前記中間層および前記上層よりも膜厚が厚く、前記中間層は、前記上層よりも膜厚が厚いことを特徴とする請求項1から8のいずれかに記載のマスクブランク。
- 前記位相シフト膜は、ArFエキシマレーザーの露光光を2%以上の透過率で透過させる機能と、前記位相シフト膜を透過した前記露光光に対して前記位相シフト膜の厚さと同じ距離だけ空気中を通過した前記露光光との間で150度以上200度以下の位相差を生じさせる機能とを有することを特徴とする請求項1から9のいずれかに記載のマスクブランク。
- 前記位相シフト膜上に、遮光膜を備えることを特徴とする請求項1から10のいずれかに記載のマスクブランク。
- 透光性基板上に、転写パターンが形成された位相シフト膜を備えた位相シフトマスクであって、
前記位相シフト膜は、前記透光性基板側から下層、中間層および上層の順に積層した構造を含み、
前記下層は、ケイ素と窒素とからなる材料、または半金属元素および非金属元素から選ばれる1以上の元素とケイ素と窒素とからなる材料で形成され、
前記中間層は、ケイ素と窒素と酸素とからなる材料、または半金属元素および非金属元素から選ばれる1以上の元素とケイ素と窒素と酸素とからなる材料で形成され、
前記上層は、ケイ素と酸素とからなる材料、または半金属元素および非金属元素から選ばれる1以上の元素とケイ素と酸素とからなる材料で形成され、
前記下層は、前記中間層および前記上層よりも窒素の含有量が多く、
前記上層は、前記中間層および前記下層よりも酸素の含有量が多く、
前記位相シフト膜の全体膜厚に対する前記中間層の膜厚の比率が、0.15以上であり、
前記位相シフト膜の全体膜厚に対する前記上層の膜厚の比率が、0.10以下であり、
前記中間層の窒素の含有量は30原子%以上であることを特徴とする位相シフトマスク。 - 透光性基板上に、転写パターンが形成された位相シフト膜を備えた位相シフトマスクであって、
前記位相シフト膜は、前記透光性基板側から下層、中間層および上層の順に積層した構造を含み、
前記下層は、ケイ素と窒素とからなる材料、または半金属元素および非金属元素から選ばれる1以上の元素とケイ素と窒素とからなる材料で形成され、
前記中間層は、ケイ素と窒素と酸素とからなる材料、または半金属元素および非金属元素から選ばれる1以上の元素とケイ素と窒素と酸素とからなる材料で形成され、
前記上層は、ケイ素と酸素とからなる材料、または半金属元素および非金属元素から選ばれる1以上の元素とケイ素と酸素とからなる材料で形成され、
前記下層は、前記中間層および前記上層よりも窒素の含有量が多く、
前記上層は、前記中間層および前記下層よりも酸素の含有量が多く、
前記位相シフト膜の全体膜厚に対する前記中間層の膜厚の比率が、0.15以上であり、
前記位相シフト膜の全体膜厚に対する前記上層の膜厚の比率が、0.10以下であり、
前記中間層の酸素の含有量は30原子%以下であることを特徴とする位相シフトマスク。 - 透光性基板上に、転写パターンが形成された位相シフト膜を備えた位相シフトマスクであって、
前記位相シフト膜は、前記透光性基板側から下層、中間層および上層の順に積層した構造を含み、
前記下層は、ケイ素と窒素とからなる材料、または半金属元素および非金属元素から選ばれる1以上の元素とケイ素と窒素とからなる材料で形成され、
前記中間層は、ケイ素と窒素と酸素とからなる材料、または半金属元素および非金属元素から選ばれる1以上の元素とケイ素と窒素と酸素とからなる材料で形成され、
前記上層は、ケイ素と酸素とからなる材料、または半金属元素および非金属元素から選ばれる1以上の元素とケイ素と酸素とからなる材料で形成され、
前記下層は、前記中間層および前記上層よりも窒素の含有量が多く、
前記上層は、前記中間層および前記下層よりも酸素の含有量が多く、
前記位相シフト膜の全体膜厚に対する前記中間層の膜厚の比率が、0.15以上であり、
前記位相シフト膜の全体膜厚に対する前記上層の膜厚の比率が、0.10以下であり、
前記中間層の窒素の含有量[原子%]を酸素の含有量[原子%]で除した比率が、1.0以上であることを特徴とする位相シフトマスク。 - 前記位相シフト膜の全体膜厚に対する前記下層の膜厚の比率が、0.80以下であることを特徴とする請求項12から14のいずれかに記載の位相シフトマスク。
- 前記中間層は、前記上層よりも窒素の含有量が多く、前記下層よりも酸素の含有量が多いことを特徴とする請求項12から15のいずれかに記載の位相シフトマスク。
- 前記中間層は、酸素の含有量が10原子%以上であることを特徴とする請求項12から16のいずれかに記載の位相シフトマスク。
- 前記下層は、窒素の含有量が50原子%以上であることを特徴とする請求項12から17のいずれかに記載の位相シフトマスク。
- 前記上層は、酸素の含有量が50原子%以上であることを特徴とする請求項12から18のいずれかに記載の位相シフトマスク。
- 前記下層は、前記中間層および前記上層よりも膜厚が厚く、前記中間層は、前記上層よりも膜厚が厚いことを特徴とする請求項12から19のいずれかに記載の位相シフトマスク。
- 前記位相シフト膜は、ArFエキシマレーザーの露光光を2%以上の透過率で透過させる機能と、前記位相シフト膜を透過した前記露光光に対して前記位相シフト膜の厚さと同じ距離だけ空気中を通過した前記露光光との間で150度以上200度以下の位相差を生じさせる機能とを有することを特徴とする請求項12から20のいずれかに記載の位相シフトマスク。
- 前記位相シフト膜上に、遮光パターンが形成された遮光膜を備えることを特徴とする請求項12から21のいずれかに記載の位相シフトマスク。
- 請求項12から22のいずれかに記載の位相シフトマスクを用い、半導体基板上のレジスト膜に転写パターンを露光転写する工程を備えることを特徴とする半導体デバイスの製造方法。
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JP2018058004 | 2018-03-26 | ||
JP2018058004 | 2018-03-26 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019174806A JP2019174806A (ja) | 2019-10-10 |
JP2019174806A5 JP2019174806A5 (ja) | 2022-03-29 |
JP7201502B2 true JP7201502B2 (ja) | 2023-01-10 |
Family
ID=68058151
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019056697A Active JP7201502B2 (ja) | 2018-03-26 | 2019-03-25 | マスクブランク、位相シフトマスク及び半導体デバイスの製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20210026235A1 (ja) |
JP (1) | JP7201502B2 (ja) |
KR (1) | KR20200133377A (ja) |
CN (1) | CN111902772A (ja) |
SG (1) | SG11202009172VA (ja) |
WO (1) | WO2019188397A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11786930B2 (en) | 2016-12-13 | 2023-10-17 | Hzo, Inc. | Protective coating |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7296927B2 (ja) * | 2020-09-17 | 2023-06-23 | 信越化学工業株式会社 | 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び位相シフトマスク |
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JP2014137388A (ja) | 2013-01-15 | 2014-07-28 | Hoya Corp | マスクブランク、位相シフトマスクおよびこれらの製造方法 |
JP2015111246A (ja) | 2013-11-06 | 2015-06-18 | 信越化学工業株式会社 | ハーフトーン位相シフト型フォトマスクブランク、ハーフトーン位相シフト型フォトマスク及びパターン露光方法 |
JP2016035559A (ja) | 2014-08-04 | 2016-03-17 | 信越化学工業株式会社 | ハーフトーン位相シフト型フォトマスクブランク及びその製造方法 |
JP2016164683A (ja) | 2014-12-26 | 2016-09-08 | Hoya株式会社 | マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 |
JP2016191877A (ja) | 2015-03-31 | 2016-11-10 | 信越化学工業株式会社 | ハーフトーン位相シフトマスクブランクス、ハーフトーン位相シフトマスク及びハーフトーン位相シフトマスクブランクスの製造方法 |
JP2016191872A (ja) | 2015-03-31 | 2016-11-10 | 信越化学工業株式会社 | 位相シフトマスクブランクス、位相シフトマスク及び位相シフトマスクブランクスの製造方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3115185B2 (ja) | 1993-05-25 | 2000-12-04 | 株式会社東芝 | 露光用マスクとパターン形成方法 |
DE10393095B4 (de) * | 2002-12-26 | 2011-07-07 | Hoya Corp. | Lithografiemaskenrohling |
JP2010217514A (ja) | 2009-03-17 | 2010-09-30 | Toppan Printing Co Ltd | フォトマスクの製造方法 |
JP5686216B1 (ja) * | 2013-08-20 | 2015-03-18 | 大日本印刷株式会社 | マスクブランクス、位相シフトマスク及びその製造方法 |
JP5823655B1 (ja) * | 2014-03-18 | 2015-11-25 | Hoya株式会社 | マスクブランク、位相シフトマスクおよび半導体デバイスの製造方法 |
JP6341129B2 (ja) * | 2015-03-31 | 2018-06-13 | 信越化学工業株式会社 | ハーフトーン位相シフトマスクブランク及びハーフトーン位相シフトマスク |
JP6058757B1 (ja) * | 2015-07-15 | 2017-01-11 | Hoya株式会社 | マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 |
JP6558326B2 (ja) * | 2016-08-23 | 2019-08-14 | 信越化学工業株式会社 | ハーフトーン位相シフトマスクブランクの製造方法、ハーフトーン位相シフトマスクブランク、ハーフトーン位相シフトマスク及びフォトマスクブランク用薄膜形成装置 |
-
2019
- 2019-03-15 CN CN201980022136.3A patent/CN111902772A/zh active Pending
- 2019-03-15 SG SG11202009172VA patent/SG11202009172VA/en unknown
- 2019-03-15 KR KR1020207030238A patent/KR20200133377A/ko active Search and Examination
- 2019-03-15 US US17/040,937 patent/US20210026235A1/en active Pending
- 2019-03-15 WO PCT/JP2019/010772 patent/WO2019188397A1/ja active Application Filing
- 2019-03-25 JP JP2019056697A patent/JP7201502B2/ja active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2002535702A (ja) | 1999-01-14 | 2002-10-22 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 減衰性位相シフト多層膜マスク |
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JP2015111246A (ja) | 2013-11-06 | 2015-06-18 | 信越化学工業株式会社 | ハーフトーン位相シフト型フォトマスクブランク、ハーフトーン位相シフト型フォトマスク及びパターン露光方法 |
JP2016035559A (ja) | 2014-08-04 | 2016-03-17 | 信越化学工業株式会社 | ハーフトーン位相シフト型フォトマスクブランク及びその製造方法 |
JP2016164683A (ja) | 2014-12-26 | 2016-09-08 | Hoya株式会社 | マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 |
JP2016191877A (ja) | 2015-03-31 | 2016-11-10 | 信越化学工業株式会社 | ハーフトーン位相シフトマスクブランクス、ハーフトーン位相シフトマスク及びハーフトーン位相シフトマスクブランクスの製造方法 |
JP2016191872A (ja) | 2015-03-31 | 2016-11-10 | 信越化学工業株式会社 | 位相シフトマスクブランクス、位相シフトマスク及び位相シフトマスクブランクスの製造方法 |
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---|---|---|---|---|
US11786930B2 (en) | 2016-12-13 | 2023-10-17 | Hzo, Inc. | Protective coating |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201940961A (zh) | 2019-10-16 |
WO2019188397A1 (ja) | 2019-10-03 |
JP2019174806A (ja) | 2019-10-10 |
CN111902772A (zh) | 2020-11-06 |
US20210026235A1 (en) | 2021-01-28 |
SG11202009172VA (en) | 2020-10-29 |
KR20200133377A (ko) | 2020-11-27 |
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Legal Events
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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