JP2018104741A - アルミニウム基材へのアルカリ性置換スズメッキ浴 - Google Patents
アルミニウム基材へのアルカリ性置換スズメッキ浴 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018104741A JP2018104741A JP2016250083A JP2016250083A JP2018104741A JP 2018104741 A JP2018104741 A JP 2018104741A JP 2016250083 A JP2016250083 A JP 2016250083A JP 2016250083 A JP2016250083 A JP 2016250083A JP 2018104741 A JP2018104741 A JP 2018104741A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acid
- plating bath
- hydroxide
- alkaline
- stannate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims abstract description 147
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical class [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 139
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 61
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 61
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 23
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 claims abstract description 50
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N Carbamic acid Chemical class NC(O)=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 44
- QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N N,N-bis{2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl}glycine Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(=O)O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 32
- 229960003330 pentetic acid Drugs 0.000 claims abstract description 32
- 229940071182 stannate Drugs 0.000 claims abstract description 21
- 125000000218 acetic acid group Chemical group C(C)(=O)* 0.000 claims abstract description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 16
- 125000005402 stannate group Chemical group 0.000 claims abstract description 12
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 130
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 57
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 claims description 39
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 30
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 28
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 26
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 26
- IOUCSUBTZWXKTA-UHFFFAOYSA-N dipotassium;dioxido(oxo)tin Chemical compound [K+].[K+].[O-][Sn]([O-])=O IOUCSUBTZWXKTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 239000002585 base Substances 0.000 claims description 16
- TVQLLNFANZSCGY-UHFFFAOYSA-N disodium;dioxido(oxo)tin Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Sn]([O-])=O TVQLLNFANZSCGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229940079864 sodium stannate Drugs 0.000 claims description 12
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 9
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 7
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 5
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 claims description 5
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- HNQGTZYKXIXXST-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)tin Chemical compound [Ca+2].[O-][Sn]([O-])=O HNQGTZYKXIXXST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 4
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910001860 alkaline earth metal hydroxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 claims description 4
- BHSXLOMVDSFFHO-UHFFFAOYSA-N (3-ethylsulfanylphenyl)methanamine Chemical compound CCSC1=CC=CC(CN)=C1 BHSXLOMVDSFFHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L barium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ba+2] RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 229910001863 barium hydroxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- UUCCCPNEFXQJEL-UHFFFAOYSA-L strontium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Sr+2] UUCCCPNEFXQJEL-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 229910001866 strontium hydroxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 claims description 2
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 208000030452 Transient pseudohypoaldosteronism Diseases 0.000 claims 2
- RAEOEMDZDMCHJA-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl-[2-[2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl-(carboxymethyl)amino]ethyl]amino]acetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(=O)O)CCN(CCN(CC(O)=O)CC(O)=O)CC(O)=O RAEOEMDZDMCHJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 23
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 8
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229960001124 trientine Drugs 0.000 abstract 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 39
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 20
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 19
- MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N nitrilotriacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CC(O)=O MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 16
- RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N D-gluconic acid Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N 0.000 description 13
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 12
- -1 fluorine ions Chemical class 0.000 description 12
- FSVCELGFZIQNCK-UHFFFAOYSA-N N,N-bis(2-hydroxyethyl)glycine Chemical compound OCCN(CCO)CC(O)=O FSVCELGFZIQNCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N D-gluconic acid Natural products OCC(O)C(O)C(O)C(O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000174 gluconic acid Substances 0.000 description 9
- 235000012208 gluconic acid Nutrition 0.000 description 9
- WHUUTDBJXJRKMK-VKHMYHEASA-N L-glutamic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CCC(O)=O WHUUTDBJXJRKMK-VKHMYHEASA-N 0.000 description 7
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229960002989 glutamic acid Drugs 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 5
- WHUUTDBJXJRKMK-UHFFFAOYSA-N Glutamic acid Natural products OC(=O)C(N)CCC(O)=O WHUUTDBJXJRKMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-N diphosphoric acid Chemical compound OP(O)(=O)OP(O)(O)=O XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 235000013922 glutamic acid Nutrition 0.000 description 5
- 239000004220 glutamic acid Substances 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 4
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 4
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 4
- 229910001432 tin ion Inorganic materials 0.000 description 4
- QCBSYPYHCJMQGB-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-1,3,5-triazine Chemical compound CCC1=NC=NC=N1 QCBSYPYHCJMQGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-M D-gluconate Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-M 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RUSUZAGBORAKPY-UHFFFAOYSA-N acetic acid;n'-[2-(2-aminoethylamino)ethyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.NCCNCCNCCN RUSUZAGBORAKPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 229940024606 amino acid Drugs 0.000 description 3
- 235000001014 amino acid Nutrition 0.000 description 3
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 229940050410 gluconate Drugs 0.000 description 3
- 150000002332 glycine derivatives Chemical class 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid Substances OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940005657 pyrophosphoric acid Drugs 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L zinc sulfate Chemical compound [Zn+2].[O-]S([O-])(=O)=O NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- RBNPOMFGQQGHHO-UHFFFAOYSA-N -2,3-Dihydroxypropanoic acid Natural products OCC(O)C(O)=O RBNPOMFGQQGHHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEDUAINPPJYDJZ-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxybenzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC(O)=NC2=C1 YEDUAINPPJYDJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DXYYSGDWQCSKKO-UHFFFAOYSA-N 2-methylbenzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC(C)=NC2=C1 DXYYSGDWQCSKKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGHHSNMVTDWUBI-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzaldehyde Chemical compound OC1=CC=C(C=O)C=C1 RGHHSNMVTDWUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HGINCPLSRVDWNT-UHFFFAOYSA-N Acrolein Chemical compound C=CC=O HGINCPLSRVDWNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 2
- RBNPOMFGQQGHHO-UWTATZPHSA-N D-glyceric acid Chemical compound OC[C@@H](O)C(O)=O RBNPOMFGQQGHHO-UWTATZPHSA-N 0.000 description 2
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N Indole Chemical compound C1=CC=C2NC=CC2=C1 SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 2
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000676 Si alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CRPUIWOPYVHPBZ-UHFFFAOYSA-N acetic acid N'-[2-[2-(2-aminoethylamino)ethylamino]ethyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.NCCNCCNCCNCCN CRPUIWOPYVHPBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- CSDREXVUYHZDNP-UHFFFAOYSA-N alumanylidynesilicon Chemical compound [Al].[Si] CSDREXVUYHZDNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 2
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 2
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical class OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001720 carbohydrates Chemical class 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 2
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 2
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 2
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 2
- 235000011180 diphosphates Nutrition 0.000 description 2
- HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N furfural Chemical compound O=CC1=CC=CO1 HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N glycine betaine Chemical compound C[N+](C)(C)CC([O-])=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LHGVFZTZFXWLCP-UHFFFAOYSA-N guaiacol Chemical compound COC1=CC=CC=C1O LHGVFZTZFXWLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 2
- ZRSNZINYAWTAHE-UHFFFAOYSA-N p-methoxybenzaldehyde Chemical compound COC1=CC=C(C=O)C=C1 ZRSNZINYAWTAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960003742 phenol Drugs 0.000 description 2
- ZQBAKBUEJOMQEX-UHFFFAOYSA-N phenyl salicylate Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)OC1=CC=CC=C1 ZQBAKBUEJOMQEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WSHYKIAQCMIPTB-UHFFFAOYSA-M potassium;2-oxo-3-(3-oxo-1-phenylbutyl)chromen-4-olate Chemical compound [K+].[O-]C=1C2=CC=CC=C2OC(=O)C=1C(CC(=O)C)C1=CC=CC=C1 WSHYKIAQCMIPTB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 2
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 2
- 229940048084 pyrophosphate Drugs 0.000 description 2
- SMQUZDBALVYZAC-UHFFFAOYSA-N salicylaldehyde Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=O SMQUZDBALVYZAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- MGSRCZKZVOBKFT-UHFFFAOYSA-N thymol Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C)C=C1O MGSRCZKZVOBKFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001211 (E)-4-phenylbut-3-en-2-one Substances 0.000 description 1
- KJPRLNWUNMBNBZ-QPJJXVBHSA-N (E)-cinnamaldehyde Chemical compound O=C\C=C\C1=CC=CC=C1 KJPRLNWUNMBNBZ-QPJJXVBHSA-N 0.000 description 1
- PSBDWGZCVUAZQS-UHFFFAOYSA-N (dimethylsulfonio)acetate Chemical compound C[S+](C)CC([O-])=O PSBDWGZCVUAZQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEALXHWSYJYDKI-UHFFFAOYSA-N 1,2-dihydroacenaphthylene-3-carbaldehyde Chemical compound C1=CC=C2CCC3=C2C1=CC=C3C=O VEALXHWSYJYDKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYNGLSRZLOHZJA-UHFFFAOYSA-N 1,4,7-triazabicyclo[5.2.2]undecane Chemical compound C1CN2CCN1CCNCC2 IYNGLSRZLOHZJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQAINHDHICKHLX-UHFFFAOYSA-N 1-naphthaldehyde Chemical compound C1=CC=C2C(C=O)=CC=CC2=C1 SQAINHDHICKHLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWFSYIOOAAYYAL-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trichlorobenzaldehyde Chemical compound ClC1=CC(Cl)=C(C=O)C(Cl)=C1 TWFSYIOOAAYYAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHANCLXYCNTZMM-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethyl-1,3-benzothiazole Chemical compound CC1=CC=C2SC(C)=NC2=C1 XHANCLXYCNTZMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDCARMUOSMFFI-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl-(2-hydroxyethyl)amino]acetic acid Chemical compound OCCN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O URDCARMUOSMFFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHGULLIUJBCTEF-UHFFFAOYSA-N 2-aminobenzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC(N)=NC2=C1 UHGULLIUJBCTEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSQLQMLFTHJVKS-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-1,3-benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC(Cl)=NC2=C1 BSQLQMLFTHJVKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPYUJUBAXZAQNL-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobenzaldehyde Chemical compound ClC1=CC=CC=C1C=O FPYUJUBAXZAQNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTCCNERMXRIPTR-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-naphthaldehyde Chemical compound C1=CC=CC2=C(C=O)C(O)=CC=C21 NTCCNERMXRIPTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LAKVUPMDDFICNR-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1,3-benzothiazol-5-ol Chemical compound OC1=CC=C2SC(C)=NC2=C1 LAKVUPMDDFICNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJKVFARRVXDXAD-UHFFFAOYSA-N 2-naphthaldehyde Chemical compound C1=CC=CC2=CC(C=O)=CC=C21 PJKVFARRVXDXAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 2-vinylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=CC=N1 KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRWILAKSARHZPR-UHFFFAOYSA-N 3-chlorobenzaldehyde Chemical compound ClC1=CC=CC(C=O)=C1 SRWILAKSARHZPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQXQXNRTOOGCLK-UHFFFAOYSA-N 4-(3-hydroxybutylideneamino)benzenesulfonic acid Chemical compound CC(O)CC=NC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 BQXQXNRTOOGCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCEZXJMYFXHCHZ-UHFFFAOYSA-N 4-(butylideneamino)benzenesulfonic acid Chemical compound CCCC=NC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 QCEZXJMYFXHCHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXRFQSNOROATLV-UHFFFAOYSA-N 4-nitrobenzaldehyde Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C(C=O)C=C1 BXRFQSNOROATLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCALAYIRFYALSX-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-2-methyl-1,3-benzothiazole Chemical compound ClC1=CC=C2SC(C)=NC2=C1 XCALAYIRFYALSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940100484 5-chloro-2-methyl-4-isothiazolin-3-one Drugs 0.000 description 1
- KZHGPDSVHSDCMX-UHFFFAOYSA-N 6-methoxy-1,3-benzothiazol-2-amine Chemical compound COC1=CC=C2N=C(N)SC2=C1 KZHGPDSVHSDCMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018125 Al-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018520 Al—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N Glutaraldehyde Chemical compound O=CCCCC=O SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N L-aspartic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CC(O)=O CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- RGHNJXZEOKUKBD-KLVWXMOXSA-N L-gluconic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-KLVWXMOXSA-N 0.000 description 1
- KDXKERNSBIXSRK-YFKPBYRVSA-N L-lysine Chemical compound NCCCC[C@H](N)C(O)=O KDXKERNSBIXSRK-YFKPBYRVSA-N 0.000 description 1
- KDXKERNSBIXSRK-UHFFFAOYSA-N Lysine Natural products NCCCCC(N)C(O)=O KDXKERNSBIXSRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004472 Lysine Substances 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018594 Si-Cu Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910008465 Si—Cu Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005844 Thymol Substances 0.000 description 1
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N [1,10]phenanthroline Chemical compound C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 150000008431 aliphatic amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000004996 alkyl benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008051 alkyl sulfates Chemical class 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 235000006708 antioxidants Nutrition 0.000 description 1
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 1
- 235000003704 aspartic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960000686 benzalkonium chloride Drugs 0.000 description 1
- CADWTSSKOVRVJC-UHFFFAOYSA-N benzyl(dimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[NH+](C)CC1=CC=CC=C1 CADWTSSKOVRVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930008407 benzylideneacetone Natural products 0.000 description 1
- OQFSQFPPLPISGP-UHFFFAOYSA-N beta-carboxyaspartic acid Natural products OC(=O)C(N)C(C(O)=O)C(O)=O OQFSQFPPLPISGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003237 betaine Drugs 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 229960002645 boric acid Drugs 0.000 description 1
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 description 1
- FATUQANACHZLRT-KMRXSBRUSA-L calcium glucoheptonate Chemical compound [Ca+2].OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)C([O-])=O.OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)C([O-])=O FATUQANACHZLRT-KMRXSBRUSA-L 0.000 description 1
- 150000004653 carbonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- DHNRXBZYEKSXIM-UHFFFAOYSA-N chloromethylisothiazolinone Chemical compound CN1SC(Cl)=CC1=O DHNRXBZYEKSXIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117916 cinnamic aldehyde Drugs 0.000 description 1
- KJPRLNWUNMBNBZ-UHFFFAOYSA-N cinnamic aldehyde Natural products O=CC=CC1=CC=CC=C1 KJPRLNWUNMBNBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000536 complexating effect Effects 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- MLUCVPSAIODCQM-NSCUHMNNSA-N crotonaldehyde Chemical compound C\C=C\C=O MLUCVPSAIODCQM-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- MLUCVPSAIODCQM-UHFFFAOYSA-N crotonaldehyde Natural products CC=CC=O MLUCVPSAIODCQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000004512 die casting Methods 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPCIBFUJJLCOQG-UHFFFAOYSA-L ethyl-[2-[2-[ethyl(dimethyl)azaniumyl]ethyl-methylamino]ethyl]-dimethylazanium;dibromide Chemical compound [Br-].[Br-].CC[N+](C)(C)CCN(C)CC[N+](C)(C)CC UPCIBFUJJLCOQG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005612 glucoheptonate group Chemical group 0.000 description 1
- 229960001867 guaiacol Drugs 0.000 description 1
- MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N imidazoline Chemical compound C1CN=CN1 MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N indole Natural products CC1=CC=CC2=C1C=CN2 PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine Natural products C1=CC=C2CC=NC2=C1 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N isopropylamine Chemical compound CC(C)N JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- AQGNVWRYTKPRMR-UHFFFAOYSA-N n'-[2-[2-[2-[2-(2-aminoethylamino)ethylamino]ethylamino]ethylamino]ethyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound NCCNCCNCCNCCNCCNCCN AQGNVWRYTKPRMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMENJLNZKOMSMC-UHFFFAOYSA-N n'-[2-[2-[2-[2-[2-(2-aminoethylamino)ethylamino]ethylamino]ethylamino]ethylamino]ethyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound NCCNCCNCCNCCNCCNCCNCCN IMENJLNZKOMSMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYRGXJIJGHOCFS-UHFFFAOYSA-N neocuproine Chemical compound C1=C(C)N=C2C3=NC(C)=CC=C3C=CC2=C1 IYRGXJIJGHOCFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003002 pH adjusting agent Substances 0.000 description 1
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000969 phenyl salicylate Drugs 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000002335 preservative effect Effects 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical group O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001755 resorcinol Drugs 0.000 description 1
- 229940117986 sulfobetaine Drugs 0.000 description 1
- 229940095064 tartrate Drugs 0.000 description 1
- 150000003585 thioureas Chemical class 0.000 description 1
- 229960000790 thymol Drugs 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 229910000597 tin-copper alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- BWHOZHOGCMHOBV-BQYQJAHWSA-N trans-benzylideneacetone Chemical compound CC(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 BWHOZHOGCMHOBV-BQYQJAHWSA-N 0.000 description 1
- MWOOGOJBHIARFG-UHFFFAOYSA-N vanillin Chemical compound COC1=CC(C=O)=CC=C1O MWOOGOJBHIARFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGQOOHJZONJGDT-UHFFFAOYSA-N vanillin Natural products COC1=CC(O)=CC(C=O)=C1 FGQOOHJZONJGDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012141 vanillin Nutrition 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Chemically Coating (AREA)
Abstract
Description
従って、実際にはアルカリ性の置換スズが直接メッキ可能なほぼ唯一の方法である。
このアルカリ性の置換スズではチオ尿素が作用しないため、アルミニウムとスズの単純な電位差を利用した置換メッキが基本原理となる。
(1)特許文献1
アミノカルボン酸系及びポリヒドロキシカルボン酸系の錯化剤(ジョングキンドキレート剤(=ヨンキント錯化剤))と、スズ酸ナトリウム及びスズ酸カリウムから選ばれたスズ酸塩とを含有する水溶液中にアルミニウム(アルミニウム合金を含む)を浸漬して、アルミニウム上にスズ皮膜を形成する。
上記アミノカルボン酸系錯化剤にはエチレンジアミン四酢酸(EDTA)、ジヒドロキシエチルエチレンジアミン3酢酸、ジヒドロキシエチルグリシン(DHEG)の各種塩、グルコン酸、グルコヘプトン酸、グリセリン酸、糖類の酸、酒石酸の各種塩が挙げられる(第5欄第21行〜第6欄第12行、第7欄第2〜33行)。
リン酸化合物、シアン化物及びフッ素イオンを含まない水系アルカリ性pH液浸スズコーティング組成物であって、スズイオン源と、スラッジ抑制剤と、付着性促進に有効な量のモリブデンイオンと、緩衝作用に有効な量の無機緩衝剤と、付着性促進に有効な量の有機ポリヒドロキシ化合物とを含有するコーティング組成物である。
上記スズイオン源はスズ酸カリウム、スズ酸ナトリウムなどである(第7頁)。
上記スラッジ抑制剤は有機錯化剤であり、EDTA、ニトリロ3酢酸(NTA)、DHEG、グリシン、アスパラギン酸、グルタミン酸などのアミノカルボン酸及びその塩、ジエチレンジアミン、トリエチレンジアミン、テトラエチレントリアミンなどである(第7頁)。
上記無機緩衝剤はホウ酸化合物、炭酸化合物などである(第8頁)。
上記ポリヒドロキシ化合物はエチレングリコール、プロピレングリコール、グルコン酸などである(第8頁)。
均一で摺動性に優れたスズ皮膜を形成する目的で、スズ酸アルカリ金属塩と、アミノ酸類と、及び2価の銅塩とを各所定量で含有する水溶液からなるアルミニウム合金上へのスズ置換液である(請求項1、段落6〜7)。
上記アミノ酸はグリシン、グルタミン酸、リジンなどである(請求項2)。
比較例1〜4には、EDTAの塩、グルコン酸塩、クエン酸、EDTAと酒石酸の混合物を夫々錯化剤に用いたスズ置換液が開示される(段落34〜40)。
均一で摺動性に優れたスズ皮膜を形成する目的で、スズ酸アルカリ金属塩と、ピロリン酸塩と、2価の銅塩とを各所定量で含有する水溶液からなるアルミニウム合金上へのスズ置換液である(請求項1、段落6〜7)。
上記特許文献3と同様に、比較例1〜4には、EDTAの塩、グルコン酸塩、クエン酸、EDTAと酒石酸の混合物を夫々錯化剤に用いたスズ置換液が開示される(段落29〜35)。
アルミニウム基材に置換スズ皮膜を形成することに関して、スズ酸塩(スズ酸ナトリウム塩、同カリウム塩)とヨンキント錯化剤を含む置換スズメッキ浴が開示される。前記先行文献1に先行する特許である。
上記ヨンキント錯化剤としては、前記先行文献1と同じく、アミノカルボン酸系錯化剤(EDTA、ジヒドロキシエチルグリシン(DHEG)、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸など)とポリヒドロキシカルボン酸系錯化剤(グルコン酸塩、グルコヘプトン酸塩、グリセリン酸塩など)が開示される。
尚、米国特許第3616291号には、アルミニウム基材上に電気メッキでスズ皮膜を形成することが開示される。
アルミニウム基材に置換スズ皮膜を形成することに関して、スズ酸塩(スズ酸ナトリウム塩、同カリウム塩)とヨンキント錯化剤を含む置換スズメッキ浴が開示される。前記先行文献5に先行する特許である。
上記ヨンキント錯化剤としては、前記特許文献1のうち、ポリヒドロキシカルボン酸系錯化剤(グルコン酸塩、グルコヘプトン酸塩、グリセリン酸塩、糖類酸の塩、酒石酸塩など)が開示される。
以下は参考的な文献であり、アルミニウム基材上への置換又は無電解メッキであってスズメッキを含むもの、或は、スズイオン含有液による前処理に関するものである。
特開平7−34254号公報には、アルミニウム系材料上に、亜鉛又はスズを主成分とする置換液で皮膜を形成し、次いで、還元剤を含有する水溶液で処理を行なった後、無電解メッキ処理をするアルミニウム系材料への無電解めっき方法が開示される(請求項1)。還元剤を含有する水溶液により金属置換皮膜の表面を均一に活性化でき、形成された無電解皮膜の外観性、密着性などを改善できる(段落7)。スズ置換液はスズ酸ナトリウムと水酸化ナトリウムを含有する(段落15)。
特開2009−127101号公報には、少なくともアルミニウムと置換可能な金属の塩と、アルカリ化合物(水酸化第4級アンモニウム)とを含有するアルミニウム合金上への金属置換処理液が開示される。上記金属は亜鉛、スズ、ニッケル、銅などであり(請求項4、段落16)、置換はジンケート処理が中心であり、スズ置換の例示はない。
特開2016−148086号公報には、アルミニウム系基材に置換スズメッキ処理(=スタネート処理)又はジンケート処理からなるメッキ促進処理をした後、スズ−銅合金メッキ皮膜及びスズ皮膜を順次形成することが開示される(請求項1〜3)。但し、上記置換スズメッキ浴の組成は不明である(段落21)。
特開2002−079771号公報には、陽極酸化処理をしたアルミニウム系基材に無電解メッキにてスズの下地皮膜を形成した後、銅皮膜を形成することが開示されるが、無電解スズメッキ浴の組成は不明である(段落29〜30)。
特開2012−041579号公報はアルミニウム系基材の表面加工方法及び前処理液に関して、アルミニウム合金材をスズ酸カリウムと酸化亜鉛と水酸化ナトリウムの含有液で前処理して所定の皮膜を形成した後(段落62)、エッチングにより粗化処理することが開示される(請求項1)。
特開2014−043632号公報には、アルミニウム系基材にジンケート処理で亜鉛皮膜を形成した後、置換スズメッキ処理を施すことが開示される(請求項1)。置換スズ浴には錯化剤として奥野製薬のサブスターAS−25が用いられる(段落30)。
アルカリ性置換スズメッキ浴において、錯化剤に上記特許文献に開示されたグルコン酸などのヒドロキシカルボン酸を使用すると、ランニングによりスラッジが発生してメッキ浴が白濁するうえ、アルミニウム基材への密着性も高くなく、メッキ浴の安定性と皮膜の密着性の両面で問題が多い。
また、上記特許文献に開示されたNTA、EDTAなどのアミノカルボン酸系錯化剤は、グルコン酸などのヒドロキシカルボン酸系列の錯化剤より安定性は少し改善されるが、依然として白濁が生じるうえ、白濁に起因して密着性も良くないという問題がある。
即ち、DTPA、TTHAなどで代表される分子内に5個以上の酢酸基が結合したアミノカルボン酸類を上記アルカリ性置換スズメッキ浴に適用すると、メッキ作業時の白濁を防止して浴の安定性が飛躍的に改善すること、また、浴から得られるスズ皮膜をアルミニウム基材に強固に密着できることを見い出して、本発明を完成した。
上記置換スズメッキ浴が、
(a)可溶性第二スズ塩と、
(b)錯化剤と、
(c)水酸化物とを含有するアルカリ性置換スズメッキ浴であって、
上記錯化剤(b)が、分子内に5個以上の酢酸基が結合したアミノカルボン酸類であることを特徴とするアルミニウム基材へのアルカリ性置換スズメッキ浴である。
また、当該白濁の防止も一つの理由と思われるが、上記特許文献に開示されたEDTA、NTAを錯化剤に用いた場合に比べて、メッキ浴から得られるスズ皮膜をアルミニウム基材に対して強固に密着できる。
このように、アルカリ性置換スズメッキに際して、同じアミノカルボン酸類の系列に属しながら、DTPA、TTHAのような分子内に5個以上の酢酸基が結合したアミノカルボン酸類を上記置換スズメッキ浴の錯化剤に選択すると、作業時のメッキ浴の安定性とアルミニウム基材へのスズ皮膜の密着性との両面で、EDTA、NTAのような4個以下の酢酸基が結合したアミノカルボン酸類を選択した場合に比べて、顕著な優位性を発揮する。
上記アルミニウム基材は純アルミニウム、アルミニウム合金を包含する概念である。当該アルミニウム合金はアルミニウムと他の金属との各種合金が製品化されているが、アルミニウムとシリコンからなるアルミニウム−シリコン系合金が本発明の置換スズ浴には好適である。ちなみに、同じアルミニウム材であってもアルミニウム合金とアルミダイキャストはJIS規格では別々に分類されるが、本発明に好適な上記アルミニウム−シリコン系合金は、JIS規格において4000番台の系列に分類されるアルミニウム合金、並びに、アルミニウム及びシリコンに加えて、さらに銅などの他種金属成分を含むアルミダイキャストの両方を包含するものである(後述の評価試験例の試料1〜2参照)。
(a)可溶性第二スズ塩と、
(b)所定のアミノカルボン酸類からなるスズイオンの錯化剤と、
(c)水酸化物とを含有する。
上記可溶性第二スズ塩(a)は4価のスズ塩であり、基本的にスズ酸アルカリ金属塩、スズ酸アルカリ土類金属塩から選ばれ、これらを単用又は併用できる。
上記スズ酸アルカリ金属塩としてはスズ酸カリウム、スズ酸ナトリウムなどが挙げられ、上記スズ酸アルカリ土類金属塩としてはスズ酸カルシウム、スズ酸マグネシウム、スズ酸バリウムなどが挙げられる。
上記可溶性第二スズ塩(a)のメッキ浴に対する含有量は0.20〜0.80モル/L、好ましくは0.30〜0.60モル/L、より好ましくは0.40〜0.60モル/Lである。
上記水酸化物(c)のメッキ浴に対する含有量は0.01〜0.30モル/L、好ましくは0.03〜0.10モル/L、より好ましくは0.05〜0.10モル/Lである。
即ち、本発明の置換スズメッキ浴で用いるアミノカルボン酸類(b)は、分子内に5個以上の酢酸基が結合したアミノカルボン酸及びその塩に限定され、これらを必須の錯化剤成分とするものである。従って、分子内に4個以下の酢酸基が結合したEDTAやNTAなどのアミノカルボン酸類、或は、分子内にプロピオン酸基などが結合したアミノカルボン酸類は本発明の錯化剤(b)の適用外である。
但し、本発明の置換スズメッキ浴では、上記アミノカルボン酸類(b)に加えて、従来のEDTAやNTA、或はグルコン酸、酒石酸などのオキシカルボン酸類との併用まで排除するものではない。
上記アミノカルボン酸類(b)としては、ジエチレントリアミン五酢酸(DTPA)、トリエチレンテトラミン六酢酸(TTHA)、テトラエチレンペンタミン七酢酸(TPHA)、ペンタエチレンヘキサミン八酢酸、ヘキサエチレンヘプタミン九酢酸、ヘプタエチレンオクタミン十酢酸及びその塩を単用又は併用でき、DTPA、TTHA、TPHA及びその塩が好ましく、より好ましくはDTPA、TTHA及びその塩である。
即ち、本発明にあっては、分子内の酢酸基の結合数が5〜10個のアミノカルボン酸類(b)のうち、酢酸基の結合数が5〜7個のアミノカルボン酸類が好ましい。
上記アミノカルボン酸類(b)のメッキ浴に対する含有量は0.03〜0.30モル/L、好ましくは0.05〜0.15モル/Lである。
上記界面活性剤には通常のノニオン系、アニオン系、両性、或はカチオン系などの各種界面活性剤が挙げられ、メッキ皮膜の外観、緻密性、平滑性、密着性などの改善に寄与する。
上記アニオン系界面活性剤としては、アルキル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩などが挙げられる。カチオン系界面活性剤としては、モノ〜トリアルキルアミン塩、ジメチルジアルキルアンモニウム塩、トリメチルアルキルアンモニウム塩などが挙げられる。ノニオン系界面活性剤としては、C1〜C20アルカノール、フェノール、ナフトール、ビスフェノール類、C1〜C25アルキルフェノール、アリールアルキルフェノール、C1〜C25アルキルナフトール、C1〜C25アルコキシルリン酸(塩)、ソルビタンエステル、ポリアルキレングリコール、C1〜C22脂肪族アミドなどにエチレンオキシド(EO)及び/又はプロピレンオキシド(PO)を2〜300モル付加縮合させたものなどが挙げられる。両性界面活性剤としては、カルボキシベタイン、イミダゾリンベタイン、スルホベタイン、アミノカルボン酸などが挙げられる。
当該界面活性剤のメッキ浴に対する含有量は0.01〜100g/L、好ましくは0.1〜50g/Lである。
上記置換スズメッキ浴では添加する可溶性第二スズ塩、水酸化物によってアルカリ性に調整されるので、pH調整剤を用いる必要はないが、別途、塩基を加えてpHを適正に調整しても良い。
また、本発明のアルカリ性置換スズメッキ浴で使用するスズ酸塩は4価のスズであって浴中で安定であるため、2価スズ塩を用いた場合のようにアスコルビン酸又はその塩、ハイドロキノン、カテコールなどの酸化防止剤は不要である。
尚、本発明は下記の実施例、試験例に拘束されるものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意の変形をなし得ることは勿論である。
下記の実施例1〜10のうち、実施例1はスズ酸カリウム(可溶性第二スズ塩)とDTPA(錯化剤)と水酸化カリウム(水酸化物)を含有する置換スズメッキ浴である。実施例2は当該実施例1を基本として錯化剤をTTHAに変更した例、実施例3は同じくTPHAに変更した例である。実施例4は実施例1を基本としてスズ酸塩をスズ酸ナトリウムに変更した例、実施例5は実施例2を基本としてスズ酸塩をスズ酸カルシウムに変更した例である。実施例6は実施例1を基本として水酸化物を水酸化ナトリウムに変更した例、実施例7は同じく上記実施例2を基本として水酸化物を水酸化カルシウムに変更した例である。実施例8は上記実施例3を基本としてスズ酸塩にスズ酸カリウムとスズ酸ナトリウムを併用した例、実施例9は上記実施例1を基本として水酸化物に水酸化カリウムと水酸化ナトリウムを併用した例である。実施例10は実施例1を基本として錯化剤にDTPAとTTHAを併用した例である。
特に、上記実施例1〜3では、本発明の成分(a)と(c)の種類と含有量を固定し、錯化剤(b)の種類を変えながら、その含有量を0.05〜0.15モル/Lの範囲で変化させている。
下記の組成でアルカリ性置換スズメッキ浴を建浴した。
スズ酸カリウム(Sn4+として) 0.40モル/L
ジエチレントリアミン五酢酸(DTPA) 0.10モル/L
水酸化カリウム 0.05モル/L
pH 13.0
[メッキ条件]
浴温 60℃
メッキ膜厚 1.0μm
下記の組成でアルカリ性置換スズメッキ浴を建浴した。
スズ酸カリウム(Sn4+として) 0.40モル/L
トリエチレンテトラミン六酢酸(TTHA) 0.15モル/L
水酸化カリウム 0.05モル/L
pH 13.0
[メッキ条件]
浴温 60℃
メッキ膜厚 1.2μm
下記の組成でアルカリ性置換スズメッキ浴を建浴した。
スズ酸カリウム(Sn4+として) 0.40モル/L
テトラエチレンペンタミン七酢酸(TPHA) 0.05モル/L
水酸化カリウム 0.05モル/L
pH 13.0
[メッキ条件]
浴温 60℃
メッキ膜厚 1.1μm
下記の組成でアルカリ性置換スズメッキ浴を建浴した。
スズ酸ナトリウム(Sn4+として) 0.40モル/L
ジエチレントリアミン五酢酸(DTPA) 0.10モル/L
水酸化カリウム 0.05モル/L
pH 13.0
[メッキ条件]
浴温 60℃
メッキ膜厚 0.9μm
下記の組成でアルカリ性置換スズメッキ浴を建浴した。
スズ酸カルシウム(Sn4+として) 0.35モル/L
トリエチレンテトラミン六酢酸(TTHA) 0.10モル/L
水酸化カリウム 0.05モル/L
pH 13.0
[メッキ条件]
浴温 60℃
メッキ膜厚 1.0μm
下記の組成でアルカリ性置換スズメッキ浴を建浴した。
スズ酸カリウム(Sn4+として) 0.40モル/L
ジエチレントリアミン五酢酸(DTPA) 0.10モル/L
水酸化ナトリウム 0.06モル/L
pH 13.0
[メッキ条件]
浴温 60℃
メッキ膜厚 1.0μm
下記の組成でアルカリ性置換スズメッキ浴を建浴した。
スズ酸カリウム(Sn4+として) 0.40モル/L
トリエチレンテトラミン六酢酸(TTHA) 0.10モル/L
水酸化カルシウム 0.05モル/L
pH 13.0
[メッキ条件]
浴温 60℃
メッキ膜厚 1.1μm
下記の組成でアルカリ性置換スズメッキ浴を建浴した。
スズ酸カリウム(Sn4+として) 0.30モル/L
スズ酸ナトリウム(Sn4+として) 0.20モル/L
テトラエチレンペンタミン七酢酸(TPHA) 0.05モル/L
水酸化カリウム 0.05モル/L
pH 13.0
[メッキ条件]
浴温 60℃
メッキ膜厚 1.0μm
下記の組成でアルカリ性置換スズメッキ浴を建浴した。
スズ酸カリウム(Sn4+として) 0.40モル/L
ジエチレントリアミン五酢酸(DTPA) 0.10モル/L
水酸化カリウム 0.03モル/L
水酸化ナトリウム 0.03モル/L
pH 13.0
[メッキ条件]
浴温 60℃
メッキ膜厚 0.9μm
下記の組成でアルカリ性置換スズメッキ浴を建浴した。
スズ酸カリウム(Sn4+として) 0.40モル/L
ジエチレントリアミン五酢酸(DTPA) 0.05モル/L
トリチレンテトラミン六酢酸(TTHA) 0.05モル/L
水酸化カリウム 0.05モル/L
pH 13.0
[メッキ条件]
浴温 60℃
メッキ膜厚 1.2μm
下記の組成でアルカリ性置換スズメッキ浴を建浴した。
スズ酸カリウム(Sn4+として) 0.40モル/L
エチレンジアミン四酢酸(EDTA) 0.10モル/L
水酸化カリウム 0.05モル/L
pH 13.0
[メッキ条件]
浴温 60℃
メッキ膜厚 0.9μm
下記の組成でアルカリ性置換スズメッキ浴を建浴した。
スズ酸カリウム(Sn4+として) 0.40モル/L
ニトリロ三酢酸(NTA) 0.10モル/L
水酸化カリウム 0.05モル/L
pH 13.0
[メッキ条件]
浴温 60℃
メッキ膜厚 0.9μm
下記の組成でアルカリ性置換スズメッキ浴を建浴した。
スズ酸カリウム(Sn4+として) 0.40モル/L
ジヒドロキシエチルグリシン(DHEG) 0.10モル/L
水酸化カリウム 0.05モル/L
pH 13.0
[メッキ条件]
浴温 60℃
メッキ膜厚 1.0μm
下記の組成でアルカリ性置換スズメッキ浴を建浴した。
スズ酸カリウム(Sn4+として) 0.40モル/L
グルコン酸 0.10モル/L
水酸化カリウム 0.05モル/L
pH 13.0
[メッキ条件]
浴温 60℃
メッキ膜厚 0.7μm
下記の組成でアルカリ性置換スズメッキ浴を建浴した。
スズ酸カリウム(Sn4+として) 0.40モル/L
グルタミン酸 0.10モル/L
水酸化カリウム 0.05モル/L
pH 13.0
[メッキ条件]
浴温 60℃
メッキ膜厚 0.8μm
下記の組成でアルカリ性置換スズメッキ浴を建浴した。
スズ酸カリウム(Sn4+として) 0.40モル/L
ピロリン酸 0.10モル/L
水酸化カリウム 0.05モル/L
pH 13.0
[メッキ条件]
浴温 60℃
メッキ膜厚 0.6μm
《メッキ浴から得られたスズ皮膜の初期密着性の評価試験例》
[置換スズメッキ方法]
先ず、下記(i)及び(ii)で示す2種類のアルミニウム基材を試料として用意した。
(i)試料1:アルミニウム合金/Al−Si系(A4032;JIS規格)
(ii)試料2:アルミダイキャスト/Al−Si−Cu系(ADC12;JIS規格)
次いで、上記各試料1〜2を水酸化ナトリウム水溶液(2重量%)で25℃、3分の条件でアルカリ脱脂し、実施例及び比較例に示す各置換スズメッキ浴に60℃、3分間の条件で浸漬した後、25℃、約30秒の条件で水洗し、乾燥して置換スズ皮膜を得た(スズ皮膜の膜厚は各実施例、比較例に示した)。
[評価方法]
得られたスズ皮膜について、JIS K5600クロスカット法(25マス)に準拠して、スズ皮膜の初期密着性の優劣を試料ごとに評価した。
尚、上記初期密着性とはメッキ直後のスズ皮膜の密着性を意味し、メッキ作業終了から時間を経た後の皮膜の密着性を評価したものではない。
初期密着性の評価基準は次の通りである。
◎ :スズ皮膜に切り込みを入れた25マスの全てが試料から剥離しなかった。
△ :スズ皮膜の上記25マスのうち、1〜15マスが試料から剥離した。
× :スズ皮膜の上記25マスのうち、16〜24マスが試料から剥離した。
××:スズ皮膜の上記25マスの全てが試料から剥離した。
《置換スズメッキ浴の安定性の評価試験例》
上記白濁の発生度合は試料をメッキ処理する面積量で違い、一般に、メッキ浴に浸漬するAl合金試料の面積が増すほど白濁の発生度合は高くなるため、処理面積で比較を行った。
スズ浴の安定性の評価基準は次の通りである。
〇:30dm2/Lの処理を行った時点で、白濁の発生がなかった。
△:15〜20dm2/Lの処理を行った時点で、白濁が発生した。
×:10〜15dm2/Lの処理を行った時点で、白濁が発生した。
この場合、例えば、上記「○」の評価は、1dm2のAl合金試料を30枚用意し、1Lのメッキ浴にこれらの試料を1枚ごとに順次30回浸漬し続けても白濁しなかったことを意味する。
下表Aはその試験結果である。
但し、前述の通り、初期密着性の評価試験は試料1〜2ごとに行ったが、各実施例及び比較例ともに、前記4段階評価(◎〜××)に基づく試験結果は試料1と試料2の間で差異はなかった。例えば、実施例1において、試料1の評価は◎、試料2でも◎であった(他の実施例、比較例も同じ)。従って、下表では試料1と2に分けて結果を示すことはせず、初期密着性は試料1〜2の間で同じ評価であることを表している。
実施例1 ◎ ○ 比較例1 △ △
実施例2 ◎ ○ 比較例2 △ △
実施例3 ◎ ○ 比較例3 × ×
実施例4 ◎ ○ 比較例4 ×× ×
実施例5 ◎ ○ 比較例5 ×× ×
実施例6 ◎ ○ 比較例6 ×× ×
実施例7 ◎ ○
実施例8 ◎ ○
実施例9 ◎ ○
実施例10 ◎ ○
上表Aを見ると、冒述の特許文献2、5〜6に開示されたヒドロキシカルボン酸類であるグルコン酸を錯化剤に用いた比較例4、同じく冒述の特許文献2〜3に開示されたグルタミン酸を比較例5、或は同じく特許文献4に開示されたピロリン酸を用いた比較例6では、共にスズ皮膜のアルミニウム基材に対する初期密着性は××であり、また、スズ浴は顕著に白濁しており、浴の安定性は×であった。
冒述の特許文献2、5に開示されたグリシン誘導体であるDHEGを錯化剤に用いた比較例3では、初期密着性は×、スズ浴の安定性は×であって、浴の安定性は上記比較例4〜6と変わらないが、初期密着性は比較例4〜6より少しだけ改善傾向が見られた。
また、冒述の特許文献1〜2、5に開示されたEDTA、NTAを錯化剤に用いた比較例1〜2では、上記比較例3より初期密着性及び浴安定性の両面で更なる改善傾向が見られたが、評価は共に△にとどまった。
これらに対して、分子内に5個以上の酢酸基が結合したアミノカルボン酸類であるDTPA、TTHA、TPHAを錯化剤に用いた実施例1〜10では、25マスの全てがアルミニウム基材に強固に密着しており、初期密着性の評価は◎であるとともに、メッキ浴についても白濁は認められず、浴の安定性も○であった。
従って、グルタミン酸、ピロリン酸を錯化剤に用いた比較例5〜6はもとより、メッキ浴の錯化剤として比較的多用されるグルコン酸を用いた比較例4に比べても、実施例1〜10は初期密着性と浴安定性の両面で顕著な優位性を示した。
EDTA、NTAを用いた比較例1〜2では、メッキ浴の安定性が低く浴が白濁して、アルミニウム基材に対する密着性自体を発現しなかったが、実施例1〜10ではメッキ浴に白濁がなく浴安定性に優れる点がEDTAやNTAに対する特段の相違であり、また、アルミニウム基材への初期密着性もEDTAやNTAに比べて飛躍的に向上した。おそらく、実施例1〜10では、メッキ浴の高い安定性に起因して強力な密着機能を発現したものと推定される。
以上のように、最も明解な比較例1〜2との対比で実施例1〜10を考察すると、同じ系列のアミノカルボン酸類をアルカリ性置換スズメッキに適用した場合であっても、アミノカルボン酸類の分子内における酢酸基の結合数がスズ浴の安定性、並びにスズ皮膜の初期密着性に顕著な影響を及ぼし、DTPA、TTHA、TPHAのような分子内に5個以上の酢酸基が結合したアミノカルボン酸類は、EDTA、NTAのような4個以下の酢酸基が結合したアミノカルボン酸類とは異なる特異な錯化機能を果たすことが推定でき、浴安定性と初期密着性の両方について、酢酸基の結合数が5個以上のアミノカルボン酸類の顕著な優位性が裏付けられた。
DTPA、TTHA、TPHAを夫々用いた実施例1〜3では、初期密着性と浴安定性は共に同じ評価であるため、アミノカルボン酸類の分子内における酢酸基の結合数が5個以上であれば、これら両面の有効性に差異はないことが分かる。また、実施例10のように、本発明の錯化剤であるアミノカルボン酸類(b)を併用しても、有効性は変わらないことが分かる。
実施例3ではTPHAの含有量は0.05モル/Lであり、実施例2ではTTHAの含有量は0.15モル/Lであるが、初期密着性と浴安定性の評価は両者間で同じであるため、本発明の錯化剤(b)の含有量は0.05モル/L前後の少量でも有効であり、過剰の含有量は必要ないことが判断できる。
実施例1、4、5、8を対比すると、スズ酸塩をアルカリ金属塩、アルカリ土類金属の間で変更し或は併用しても、初期密着性及び浴安定性の有効性に変わりはなく、実施例6〜7、9を対比すると、水酸化物をアルカリ金属の水酸化物、アルカリ土類金属の水酸化物の間で変更し或は併用しても、初期密着性及び浴安定性の有効性に変わりはないことが判断できる。
Claims (5)
- アルミニウム基材に対して置換スズ皮膜を形成するメッキ浴であり、
上記置換スズメッキ浴が、
(a)可溶性第二スズ塩と、
(b)錯化剤と、
(c)水酸化物とを含有するアルカリ性置換スズメッキ浴であって、
上記錯化剤(b)が、分子内に5個以上の酢酸基が結合したアミノカルボン酸類であることを特徴とするアルミニウム基材へのアルカリ性置換スズメッキ浴。 - 上記アミノカルボン酸類(b)がジエチレントリアミン五酢酸(DTPA)、トリエチレンテトラミン六酢酸(TTHA)、テトラエチレンペンタミン七酢酸(TPHA)、ペンタエチレンヘキサミン八酢酸、ヘキサエチレンヘプタミン九酢酸、ヘプタエチレンオクタミン十酢酸及びその塩の少なくとも一種であることを特徴とする請求項1に記載のアルミニウム基材へのアルカリ性置換スズメッキ浴。
- 上記アミノカルボン酸類(b)がDTPA、TTHA、TPHA及びその塩の少なくとも一種であることを特徴とする請求項1又は2に記載のアルミニウム基材へのアルカリ性置換スズメッキ浴。
- 上記成分(a)がスズ酸カリウム、スズ酸ナトリウムから選ばれたスズ酸アルカリ金属塩、スズ酸カルシウム、スズ酸マグネシウム、スズ酸バリウムから選ばれたスズ酸アルカリ土類金属塩の少なくとも一種であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のアルミニウム基材へのアルカリ性置換スズメッキ浴。
- 上記水酸化物(c)が水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムから選ばれたアルカリ金属の水酸化物、並びに水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、水酸化ストロンチウムから選ばれたアルカリ土類金属の水酸化物、水酸化アンモニウムの少なくとも一種であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のアルミニウム基材へのアルカリ性置換スズメッキ浴。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016250083A JP6803502B2 (ja) | 2016-12-22 | 2016-12-22 | アルミニウム基材へのアルカリ性置換スズメッキ浴 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016250083A JP6803502B2 (ja) | 2016-12-22 | 2016-12-22 | アルミニウム基材へのアルカリ性置換スズメッキ浴 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018104741A true JP2018104741A (ja) | 2018-07-05 |
JP6803502B2 JP6803502B2 (ja) | 2020-12-23 |
Family
ID=62786547
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016250083A Active JP6803502B2 (ja) | 2016-12-22 | 2016-12-22 | アルミニウム基材へのアルカリ性置換スズメッキ浴 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6803502B2 (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4927933B1 (ja) * | 1964-05-05 | 1974-07-22 | ||
JPH10219470A (ja) * | 1997-02-06 | 1998-08-18 | Okuno Chem Ind Co Ltd | アルミニウム合金上へのスズ置換液 |
JPH1121673A (ja) * | 1997-07-07 | 1999-01-26 | Ishihara Chem Co Ltd | 鉛フリーの無電解スズ合金メッキ浴及びメッキ方法、並びに当該無電解メッキ浴で鉛を含まないスズ合金皮膜を形成した電子部品 |
WO2009157334A1 (ja) * | 2008-06-26 | 2009-12-30 | 日本高純度化学株式会社 | 還元型無電解スズめっき液及びそれを用いたスズ皮膜 |
-
2016
- 2016-12-22 JP JP2016250083A patent/JP6803502B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4927933B1 (ja) * | 1964-05-05 | 1974-07-22 | ||
JPH10219470A (ja) * | 1997-02-06 | 1998-08-18 | Okuno Chem Ind Co Ltd | アルミニウム合金上へのスズ置換液 |
JPH1121673A (ja) * | 1997-07-07 | 1999-01-26 | Ishihara Chem Co Ltd | 鉛フリーの無電解スズ合金メッキ浴及びメッキ方法、並びに当該無電解メッキ浴で鉛を含まないスズ合金皮膜を形成した電子部品 |
WO2009157334A1 (ja) * | 2008-06-26 | 2009-12-30 | 日本高純度化学株式会社 | 還元型無電解スズめっき液及びそれを用いたスズ皮膜 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6803502B2 (ja) | 2020-12-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI417427B (zh) | 含銀合金鍍敷浴、使用其之電解鍍敷方法 | |
FR2672306A1 (fr) | Solutions perfectionnees de zincate pour le traitement de l'aluminium et des alliages d'aluminium. | |
JP4756886B2 (ja) | 非シアン系のスズ−銀合金メッキ浴 | |
KR102196730B1 (ko) | Sn층 또는 Sn합금층을 포함하는 구조체 | |
JP2004068056A (ja) | 無電解スズメッキ浴 | |
JP4756887B2 (ja) | 非シアン系のスズ−銀合金電気メッキ浴 | |
JP4880138B2 (ja) | スズメッキ浴、スズメッキ方法及び当該メッキ浴を用いてスズメッキを施した電子部品 | |
JP2018104741A (ja) | アルミニウム基材へのアルカリ性置換スズメッキ浴 | |
JP4332667B2 (ja) | スズ及びスズ合金メッキ浴 | |
JP4880301B2 (ja) | 無電解スズメッキの後処理方法 | |
JP4531128B1 (ja) | スズ含有合金メッキ浴、これを用いた電解メッキ方法および該電解メッキが堆積された基体 | |
JP4901181B2 (ja) | 無電解スズメッキ浴 | |
JP2019044247A (ja) | アルミニウム基材上への熱処理式置換スズメッキ方法 | |
JP6606812B2 (ja) | Sn層又はSn合金層を含む構造体 | |
JP5278988B2 (ja) | 無電解スズメッキ浴及び電子部品の無電解スズメッキ方法 | |
JP2004359996A (ja) | 中性光沢スズ−亜鉛合金メッキ浴 | |
JP7437057B2 (ja) | Sn層又はSn合金層を含む構造体 | |
JP7197933B2 (ja) | アンダーバリアメタルとソルダー層とを含む構造体 | |
JP4524773B2 (ja) | 無電解スズメッキ浴の分割保存方法 | |
JP4660814B2 (ja) | 無電解スズメッキ浴 | |
JP2004143495A (ja) | 銅侵食防止用の無電解スズメッキ浴、及び銅侵食防止方法 | |
JP2004332022A (ja) | 無電解スズの2段メッキ方法 | |
JPS60190591A (ja) | 銀メツキ前処理液 | |
JPH05112874A (ja) | 無電解すずめつき液 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20191112 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191218 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200824 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200928 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200929 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20201105 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6803502 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |