JP2018080831A - 真空シール、ダブルシール、真空システム及び真空ポンプ - Google Patents

真空シール、ダブルシール、真空システム及び真空ポンプ Download PDF

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Abstract

【課題】非常に低い真空圧力の場合でも、特に10−10mba未満の圧力の場合でも、確実なシールを可能にする改善された真空シールを提供する。
【解決手段】2つのシール面、特にフランジの間の、特にレシピエントの出口フランジと真空ポンプ、特にターボ分子ポンプの入口フランジとの間の接続部をシールするための真空シールであって、このシールがリング状に閉じた金属体を備えるものにおいて、金属体に、非金属材料から成るシェルが配置されていること、を特徴とするシール。
【選択図】図8

Description

本発明は、シールがリング状に閉じた金属体を備える、2つのシール面、特にフランジの間の、特にレシピエントの出口フランジと真空ポンプ、特にターボ分子ポンプの入口フランジとの間の接続部をシールするための真空シールに関する。
非常に低い真空圧が必要とされる真空適用時、典型的にフランジの間に配置されたシールによってシールされる2つのフランジの間の領域に、極僅かな真空リークが生じ、この真空リークにより、達成可能な最終圧力が制限され得るとの問題が生じ得る。加えて、達成可能な最終圧力の制限は、例えばPTFE,FKM又はバイトンのようなエラストマーから成るシールが使用される時に生じる。何故なら、これら材料の場合、拡散及びアウトガスのような効果を生じさせるからである。
選択的に、従来技術によれば、同様に低い圧力を確実に達成することができる金属シールが使用される。この場合、このような金属シールは、リング状に閉じた通常は平らな金属体、例えば銅から成る。このような金属シールは、通常は、2つのCFフランジと組み合わせて使用される。その間にシールが配置されるCFフランジは、周知のようにボルト−ナット継手によって互いに固定される。高い密閉性のため、ボルトは、十分に高い押付け圧力をシールとシールに面したフランジ表面との間に保証するためにしっかりと締め付けなければならない。
これらCFフランジに対する選択肢として、それぞれ1つのアウタシールが、インナシールに対して間隔を置いてインナシールを包囲し、その利点が基本的に周知である、いわゆるマルチシール又はダブルシールが知られている。インナシールとして、当出願人内で周知の従来技術によれば、10−10mbaの圧力まで良好な結果を提供するPTFEから成るフラットシールを使用することができ、ギャップシール又はいわゆるサーモギャップシールを使用することができる。
但し、これらダブルシールによって達成可能な最終圧力も制限されている。例えばPTFEシールの限界は、PTFE材料の透過性構造によって、またギャップシールの限界は、達成可能な表面粗さ及び使用される材料の平坦度によって理由付けられている。
本発明の根底にある課題は、非常に低い真空圧力の場合でも、特に10−10mba未満の圧力の場合でも、確実なシールを可能にする改善された真空シールを提供することである。
この課題は、請求項1の特徴を有する真空シールによって、特に、金属体に、非金属材料から成るシェルが配置されていること、により、冒頭で述べた形式の真空シールを発展せることによって、解決される。
本発明の根底にある思想は、その表面粗さがリークを生じさせる金属体から成るシールのシール作用が、金属体に非金属材料から成るシェルを備えさせることによって改善されることである。この場合、非金属材料は、特に、改善されたシールを生じさせるために、この非金属材料が、金属体の表面粗さを補償するかもしくは少なくともある程度まで補償するように形成することができる。
特に、本発明による真空シールは、特に低い最終圧力、特に10−10mba未満の最終圧力が必要とされる真空適用と関係して使用することができる。
シール面もしくはフランジの切れ刃は、必要とされないが、オプションで設けることができる。これにより、シール面もしくはフランジの製造は、単純化され、さらには安価にされ得る。
単なる金属シールに比べて本発明による真空シールにおいて有利であるのは、特に、CFフランジの使用時に、確実なシールを達成するために必要なボルト継手の静摩擦トルクがそれほど重要でないことである。
従来技術から周知のCFフランジは、通常は特殊鋼から成り、金属シールは、通常は銅から成る。従って、このようなフランジ−シールの組合せは比較的高価である。本発明による真空シールの別の利点は、その金属体が、例えばアルミニウムのような好適な材料から形成できること、及び、本発明による真空シールが、また、例えばアルミニウム又はアルミニウム合金から成るフランジと組み合わせて使用可能であること、にある。フランジだけでなく、フランジを備える真空装置のハウジングも、アルミニウム又はアルミニウム合金から形成されていることも考えられる。これにより、特殊鋼からの形成に対してコストは削減することができる。加えて、アルミニウムの重量が僅かであることに基づいて、重量低減を達成することができる。
ここでは、“真空シール”との概念のために、単に短縮形“シール”だけも使用される。
“シェル”との概念は、広く理解すべきである。シェルは、特に、少なくとも金属体の表面の一部上に配置された非金属材料の層等であるとも理解すべきである。
以下でフランジが話題となる場合は、一般に、それを、フランジによって又はフランジに形成されている必要のない基本的に任意のシール面であるとも理解すべきであり得る。
好ましくは、金属体は、例えばC字形又はV字形の、バネ弾性を有するシール要素の形式又はフラットシールの形式で形成されている。金属体は、その形状については、特に従来技術から周知の金属シールのように形成することができる。したがって、金属体は、周知の製造方法により製作することができる。バネ弾性を有するシール要素は、シールパートナーの寸法公差及び形状公差を良好に補償できるとの利点を有する。
金属体は、アルミニウム又は特に焼鈍しされた銅を備えるか、それから成ることができる。例えばEN AW 1050a H111又はEN AW 6082のようなアルミニウム、アルミニウム合金又は銅の使用により、本発明による真空シールの金属体が、稠密な組織を、これにより高い気密性を備えることを保証することができる。従って、金属体を経るガス拡散は、排除することができる。焼鈍しされた銅は、特殊鋼又はアルミニウムよりも低い硬さを備えるので、焼鈍しされた銅から成るコアを有する本発明によるシールは、例えば、特に切れ刃を備える、特殊鋼、アルミニウム又はアルミニウム合金から成るフランジと組み合わせて使用可能である。
好ましくは、シェルは、エラストマー又は少なくとも実質的にガスを放出しない他のプラスチックを有するか、シェルは、エラストマー又はガスを放出しないプラスチックから成る。
エラストマーは、好ましくは、PTFEであるか、PTFEをベースとする材料、例えばPFA,TFM又はFEPである。
エラストマーは、少なくとも1つの充填物を備えることもできる。これにより、充填物に応じて例えばシールの拡散特性及び/又は電気特性を改善又は変更することができる。
PTFEは、ポリテトラフルオロエチレンの略である。PTFEは、シェル材料として使用するために特によく適している。何故なら、それは、せいぜい極僅かにしかガスを放出せず、これによりそれ自身既にUHV範囲内での適用のために適しているからである。シェルの厚さが十分に小さく選択されている場合、PTFEシェルを経るガスの透過ももはや重要でない。加えて、PTFEは、比較的軟質の材料であるので、PTFEは、金属体の表面構造の粗さを補償することができる。
シェルは、コーティングの形式で金属体上に形成することができる。従って、シェルは、製造技術的に単純に金属体の表面上に形成することができる。
シェルは、母材融合式の例えば積層のような接合方法によって金属体上に形成することができる。これにより、金属体に対するシェルの製造技術的に単純な形成を実現することができる。
シェルは、しっかりと金属体と接続することはできない。シェルは、例えば、金属体の上に被せられた成形要素である。
シェルは、金属体の表面を完全に又は部分的にだけ包囲することができる。金属体の完全な被覆は、製造技術的に単純に達成することができる。部分的だけの被覆の場合、シェルは、好ましくは少なくとも、フランジに相対する金属体の表面領域にわたって延在する。従って、フランジは、シェルと当接することはできるが、金属体とは直接的に当接することはできないので、シェルによって良好なシールを生じさせることができる。
シェルは、好ましくは全面的に金属体の周方向に沿って延在する。従って、シェルは、金属体上に少なくとも1つのリング状に閉じた物体を構成する。
シェルの厚さは、好ましくは少なくとも金属体の表目粗さに一致する。模範的な値として、ここでは、4μmが、表面粗さのための寸法として挙げられる。
コーティングによって生じたシェルの厚さは、例えば、5μm〜100μm、好ましくは20μm〜50μm、更に好ましくは25μm〜40μmの範囲内にあり得る。積層によって形成されたシェルの厚さは、例えば0.1mm〜0.2mmの範囲内にあり得る。好ましくは、シェルの厚さは、0.2mmよりも小さく、好ましくは0.15mmよりも小さく、更に好ましくは0.1mmよりも小さい。記載した範囲指定の場合、それぞれの上限もしくは下限が範囲に属している。
本発明の好ましい形成によれば、金属体が、2つの表面側を有し、シールが、規定通り両シール面もしくはフランジの間に配置もしくは挿入されている時に、表面側の一方が、一方のシール面、特に一方のフランジ、特にレシピエントの出口フランジに面し、表面側の他方が、他方のシール面、特に他方のフランジ、特に真空ポンプの入口フランジに面し、シールの両表面側の少なくとも一方が、シールの周方向に取り巻きかつこの表面側から突出する、特に0.05mm〜0.2mm又は0.05mm〜0.5mmの高さを有する少なくとも1つの隆起を備える。従って、シール自身は、隆起の形態の一種の切れ刃を備えることができる。隆起にて、高い面圧が可能であり、これにより、シール作用は、更に改善することができる。
好ましくは、シェルが隆起を覆う。これにより、シール作用を更に改善することができる。特に、隆起の表面上の表面粗さ及び場合によっては他の凹凸も、少なくともある程度までシェルによって補償することができる。
加えて、本発明は、2つのシール面、特にフランジの間、特にレシピエントの出口フランジと真空ポンプ、特にターボ分子ポンプの入口フランジとの間の接続部をシールするためのマルチシール又はダブルシールであって、マルチシール又はダブルシールが、少なくとも1つの第1のシールと第2のシールを備え、これらシールは、第2のシールが第1のシールに対して間隔を置いて第1のシールを包囲するように、シール面、特にフランジの間に配置することができ、両シールの少なくとも一方、好ましくは内側の第1のシールが、本発明によるシールであること、を特徴とするものに関する。
これらシールは、1つの平面内に位置する必要があるのではなく、これらシールは、例えば軸方向に互いに位置をずらすこともできる。
好ましくは、第1のシールと第2のシールが、リング状に閉じたそれぞれ1つのそれぞれの金属体を有し、更に好ましくは、両シールの金属体が、互いに一体的に形成されている。一体的に形成された金属体の間に、少なくとも1つの分離箇所が存在し得るので、シールは、確かに1つのユニットとして例えば搬送することができるが、2つのシール面もしくはフランジの間に挿入する前に互いに分離することができる。
加えて、本発明は、少なくとも1つの第1の真空装置、特に真空ポンプ、好ましくはターボ分子ポンプと、少なくとも1つの第2の真空装置、特にレシピエントを有する真空システムであって、第2の真空装置の出口、特に出口フランジが、第1の真空装置の入口、特に入口フランジと切離可能に接続されている又は接続可能であり、出口と入口の間に、本発明によるシール又は本発明によるダブルシールが配置されていること、を特徴とするものに関する。
好ましくは、出口フランジ及び/又は入口フランジに、シールと協働するための、好ましくはフランジの周方向に取り巻く少なくとも1つの切れ刃が形成され、切れ刃が、0.05mm〜0.2mm又は0.05mm〜0.5mmの高さを備える。本発明によるシールの場合、シェルが設けられているので、切れ刃の高さは、例えば銅シール用のCFフランジの場合のような従来のフランジの場合よりも小さくなり得る。
加えて、本発明は、レシピエントの出口フランジを接続するための入口フランジを有する真空ポンプ、特にターボ分子ポンプにおいて、入口フランジに、シールと協働するための、好ましくはフランジの周方向に取り巻く少なくとも1つの切れ刃が形成され、切れ刃が、0.05mm〜0.2mm又は0.05mm〜0.5mmの高さを備えること、を特徴とするものに関する。
更に、本発明は、少なくとも1つの第1の真空装置、特に真空ポンプと、少なくとも1つの第2の真空装置、特にレシピエントを有する真空システムであって、第2の真空装置の出口、特に出口フランジが、第1の真空装置の入口、特に入口フランジと解離可能に接続されている又は接続可能であり、入口に面した出口の表面及び/又は出口に面した入口の表面に、周方向、特にフランジ周方向に取り巻く非金属材料から成るシェルが配置されていること、を特徴とするものに関する。両シール面もしくはフランジの間の別個のシールは、削減することができる。何故なら、シェルによって既に十分に高いシール作用が達成できるからである。従って、1つのシールとフランジのそれぞれ一方との間をシールしなければならない2つの間隙とは違って、両フランジの間の1つの“間隙”しかシールする必要がない。
加えて、本発明は、レシピエントの出口フランジを接続するための入口フランジを有する真空ポンプ、特にターボ分子ポンプにおいて、レシピエントが接続された時に出口フランジに面した入口フランジの表面に、周方向に取り巻く非金属材料から成るシェルが配置されていること、を特徴とするものに関する。
加えて、本発明は、少なくとも1つの充填物を備えるエラストマー、特にPTFEを有するシールに関する。例えば、充填物を有するエラストマーは、位置をずらすことができる。充填物に応じて、例えばシールの拡散特性及び/又は電気特性を改善又は変更することができる。
“シェル”と関連してここで述べられる特徴は、前で述べた真空システムもしくは真空ポンプのバリエーションに対しても当て嵌まる。
加えて、本発明は、真空ポンプと、レシピエントと、レシピエントと真空ポンプを特に真空密に接続するための特にシリンダ状のアダプタを有し、真空ポンプが、少なくとも1つの第1の入口を有する少なくとも1つの接続面を備え、レシピエントが、少なくとも1つの出口を備え、この出口を、特にチューブ状の壁が包囲し、この壁の出口から離隔して位置する前側が、真空ポンプの接続面と当接可能である、との構成の真空システムであって、
アダプタは、アダプタが規定通り真空ポンプとレシピエントの間に配置されている時に、レシピエントの壁内に収容されているか、収容することができ、
アダプタは、軸方向に見て、少なくとも実質的にレシピエントの特に出口に対して突出する壁の軸方向の長さに一致する長さを備え、これにより、アダプタの下側が、真空ポンプの接続面に当接し、アダプタの上側が、出口を包囲するレシピエントの接続面に当接し、
アダプタ内で下側と上側の間に第1の通路が延在し、この第1の通路は、アダプタが規定通り真空ポンプとレシピエントの間に配置されている時に、真空ポンプの第1の入口をレシピエントの出口と接続し、
アダプタの上側とレシピエントの接続面との間に、内側の第1のシール、特に本発明によるシールが配置されている、及び/又は、レシピエントの壁の前側と真空ポンプの接続面との間に外側の第2のシール、特に本発明によるシールが配置されていること、を特徴とするものに関する。
真空システムにおいて、出口が壁の前側に対して後退させられているアダプタは、レシピエントと真空ポンプを真空密に接続するために使用される。従って、レシピエントは、内部チャンバ形状を備えることができる。アダプタにより、真空ポンプは、単純かつコンパクトに、内部チャンバ形状を有するレシピエントに接続することができる。この場合、言及した出口は、レシピエントのチャンバに開口することができる。この場合、レシピエントは、1つのチャンバ又は相応の数の出口を有する複数のチャンバを備えることができる。
第1のシール及び/又は第2のシールの使用により、所望のシール作用を達成することができる。第1のシール及び/又は第2のシールは、本発明によるシール、即ち特に金属体と非金属材料から成るシェルを有するシールであり得る。
第1のシール及び/又は第2のシールは、また、例えばPTFEから成る例えばOリングシールのような従来のシールであり得る。
真空ポンプは、特にターボ分子ポンプである。これにより、真空ポンプの第1の入口もしくはレシピエントの真空引きすべきチャンバに、高真空を又はそれどころか超高真空をも発生させることができる。
真空ポンプの接続面は、少なくとも1つの別の第2の入口、特に補助入口を備えることができ、アダプタ内に、少なくとも1つの第2の通路が延在でき、この第2の通路は、アダプタが規定通り真空ポンプとレシピエントの間に配置されている時に、アダプタの下側で真空ポンプの第2の入口に開口し、第2の通路は、アダプタの上側と下側の間に延在する半径方向外側に、少なくとも1つの出口開口を備える。
従って、第2の通路は、下側と外側のその少なくとも1つの出口開口との間でアダプタを経て延在する。第2の通路を介して、出口開口が開口する容積部を真空引きすることができる。この容積部は、アダプタの外側とレシピエントの壁の内側との間に延在する環状容積部であり得る。従って、アダプタの第2の通路とこの第2の通路と接続された真空ポンプの第2の入口は、外から環状容積部内へ侵入する例えば空気のようなガスを吸引するための中間吸引部として機能することができる。これにより、第1の通路内もしくはレシピエントの出口内の真空は、改善することができる。特に、中間吸引によって、第1の通路内もしくはレシピエントの出口内により低い最終圧力を達成することができる。言及した容積部には、第2の通路及び第2の入口を介して真空引きすることができるレシピエントの別の第2のチャンバも開口することができる。
第1のシールは、出口と第2の通路の少なくとも1つの流出口との間に分離を生じさせることができる。従って、レシピエントの出口と接続している第1の通路は、第1のシールによって第2の通路から分離されている。
真空ポンプの接続面内には、もう1つの別の第3の入口、特に別の補助入口を設けることができ、アダプタ内には、アダプタの下側で真空ポンプの第3の入口に開口しかつアダプタの外側に少なくとも1つの出口を備える別の第3の通路が延在できる。
第3の通路は、第2の通路のように、アダプタの外側に少なくとも1つの出口開口を備えることができる。出口開口は、第3の通路と真空ポンプの第3の入口を介して真空引きすることができる容積部に開口できる。容積部は、同様に、アダプタの外側の周囲に延在しかつレシピエントの羽部のうちがわによって包囲されている環状容積部であり得る。
アダプタの第3の通路と真空ポンプの第3の入口は、環状容積部に侵入するガス吸引するための別の中間吸引部として使用することができる。これにより、レシピエントの出口内の真空を改善することができるかもしくは達成可能な最終圧力を更に低減することができる。
この容積部には、レシピエントの別の第3のチャンバも開口することができる。第3のチャンバは、第3の通路及び第3の入口を介して真空引きすることができる。
第3の通路の少なくとも1つの出口開口は、軸方向に見て、アダプタの外側の第2の通路の少なくとも1つの出口開口に対して位置をずらして形成することができる。
別の第3のシールが、第2の通路の出口開口と第3の通路の出口開口を互いに分離する場合が、特に有利である。これにより、例えば2段式の中間吸引部を実現することができる。
有利には、第3のシールは、アダプタの外側と壁の内側との間に配置されている。従って、第3のシールは、特に、第2の通路が開口する容積部もしくは環状スペースを、第3の通路が開口する容積部もしくは環状スペースから分離する。
第3のシールは、好ましくはアダプタの外側に取り巻くように配置されている。この場合、アダプタの外側に、第3のシールが当接できる第3のシール用の環状の当接面を設けることができる。壁の内側には、対向面を形成することができるので、シールは、レシピエントが真空ポンプに接続され、アダプタが、規定通り真空ポンプとレシピエントの間に配置されている時に、アダプタの当接面と壁の内側の対向面との間に圧入することができる。
第3のシールは、本発明によるシール又は例えばPTFEから成る例えばOリングのような従来のシールであり得る。
第2の通路と第3の通路の出口開口は、外側の周方向に見て、位置ズレを備えることができる。これにより、アダプタを経る通路の配置もしくは延在は、単純化することができる。
アダプタの下側と真空ポンプの接続面との間に、アダプタの下側に位置する通路の出口開口の少なくとも一方の周囲に延在する別の第4のシールを配置することができる。第4のシールは、例えばPTFEから成る成形部品とすることができ、この成形部品は、各出口開口を包囲するかもしくは貫通口を備え、これら貫通口は、成形部品が規定通り真空ポンプの接続面とアダプタの下側との間に挿入されている時に、出口開口と整列させられている。
加えて、本発明は、真空ポンプが、少なくとも1つの第1の入口を有する少なくとも1つの接続面を備え、レシピエントが、少なくとも1つの出口を備え、この出口を、特にチューブ状の壁が包囲し、この壁の出口から離隔して位置する前側が、真空ポンプの接続面と当接可能である、との構成の、レシピエントと真空ポンプを真空密に接続するための、特に本発明による真空システム用のアダプタであって、
特にシリンダ状のアダプタは、アダプタが規定通り真空ポンプとレシピエントの間に配置されている時に、アダプタがレシピエントの壁内に収容可能であるように形成され、
アダプタが、軸方向に見て、少なくとも実質的にレシピエントの壁の軸方向の長さに一致する長さを備え、これにより、アダプタが規定通り真空ポンプとレシピエントの間に配置されている時に、アダプタの下側が、真空ポンプの接続面に当接し、アダプタの上側が、出口を包囲するレシピエントの接続面に当接し、
アダプタ内で下側と上側の間に第1の通路が延在し、この第1の通路は、アダプタが規定通り真空ポンプとレシピエントの間に配置されている時に、真空ポンプの第1の入口をレシピエントの出口と接続すること、を特徴とするものに関する。
アダプタの上側に、特に管状の溝の形態の当接面を形成することができ、この当接面に、内側の第1のシールが当接可能であり、この内側の第1のシールは、レシピエントが、その間に位置する接続部材としてアダプタを有する真空ポンプに接続されている時に、アダプタの上側とレシピエントの接続面との間に配置、特に圧入、されている。
更に、レシピエントが真空ポンプに接続されている時に、レシピエントの壁と真空ポンプの接続面との間に外側の第2のシールを圧入することができる。
アダプタの下側に、特に半径方向に延在する溝又は窪みを設けることができ、この溝又は窪みは、アダプタの半径方向外側に位置する外側から内側に向かって延在し、アダプタを経て延在する通路、特に第3の通路に開口する。溝又は窪みは、外側の第2のシールの領域に侵入する例えば環境からの空気のようなガスを通路を介して吸引するための中間吸引部の一部であり得る。
第1のシール及び/又は第2のシールは、本発明によるシール、即ち特に金属体と非金属材料から成るシェルを有するシールであり得る。第1のシール及び/又は第2のシールは、また、例えばPTFEから成る例えばOリングシールのような従来のシールであり得る。
アダプタ内を、少なくとも1つの第2の通路が延在し、この第2の通路は、アダプタが規定通り真空ポンプとレシピエントの間に配置されている時に、アダプタの下側で真空ポンプの第2の入口に開口し、第2の通路は、上側と下側の間に延在するアダプタの半径方向外側に少なくとも1つの出口開口を備える。第2の通路は、特にアダプタの外側とレシピエントの壁の内側との間に延在し得る環状容積部を真空引きするための中間吸引部として使用することができる。
真空ポンプの接続面内に、もう1つの別の第3の入口、特に別の補助入口を設けることができる。アダプタ内には、別の第3の通路が延在でき、この別の第3の通路は、アダプタが規定通り真空ポンプとレシピエントの間に配置されている時に、アダプタの下側で真空ポンプの第3の入口に開口し、第3の通路は、アダプタの外側に少なくとも1つの出口開口を備える。アダプタの第3の通路と真空ポンプの第3の入口は、前で既に言及したように、別の中間吸引部として使用することができる。
第3の通路の少なくとも1つの出口開口は、軸方向に見て、アダプタの外側の第2の通路の出口開口に対して位置をずらして形成することができる。
第2の通路の少なくとも1つの出口開口と第3の通路の少なくとも1つの出口開口との間で、アダプタの外側に、環状の第3のシール用の管状の当接面を設けることができる。
特に好ましくは、アダプタは、シリンダ状の第1の部分とシリンダ状の第2の部分から成り、これら2つの部分は、特に一体に形成されている。第1の部分は、少なくともほぼアダプタの上半分を構成するが、第2の部分は、少なくともほぼアダプタの下半分を構成する。従って、第1の部分は、上側から見て下側の方向に延在する。アダプタのほぼ半分の高さのところで、第1の部分は、下側まで延在する第2の部分へ移行する。両部分は、互いに同軸に整列させられている。第2の部分は、第1の部分よりも大きい直径を備える。これにより、第1の部分の下端から第2の部分の上端への移行部に、外側に取り巻きかつ第3のシールようの当接面として設けられた段部が生じる。
シリンダ形状の代わりに、両部分は、他の形状、例えば切頭円錐形状を備えることもできる。
レシピエントの壁の内側に、シール用の対向面を構成する相補的な段部を形成することができる。その場合、第3のシールは、アダプタの外側の当接面とレシピエントの壁の内側の対向面との間に挟むことができる。
第3のシールは、本発明によるシールであるか又は例えばPTFEから成る例えばOリングシールのような従来のシールであり得る。
アダプタの外側の出口開口は、外側の周方向にみて、位置ズレを備えることができる。
アダプタは、その下側に、第4のシール用の特に管状の溝又は窪みの形態の当接面を備えることができる。この場合、第4のシールは、このシールがアダプタ内の全ての通路の出口開口を包囲し、これにより相互に分離するように、形成することができる。選択的に、シールは、少なくとも2部材で形成することができ、一方のシールは、第1及び第2の通路の出口開口の周囲に延在するが、他方のシールは、第1の通路の出口開口の周囲だけに延在する。
アダプタの下側に、特に別の中間吸引部として使用される溝又は窪みが、完全に第1の通路のそこに位置する出口開口の周囲に延在することができ、溝又は窪みは、第2又は第3の通路に開口する。
以下で、本発明を模範的に添付図に関連付けた有利な実施形態により説明する。
ターボ分子ポンプの概略斜視図 図1のターボ分子ポンプの下側の概略図 図2に示した切断線A−Aに沿ったターボ分子ポンプの概略横断面図 図2に示した切断線B−Bに沿ったターボ分子ポンプの概略横断面図 図2に示した切断線C−Cに沿ったターボ分子ポンプの概略横断面図 真空システムの概略断面図 本発明による真空シールの1つのバリエーションに対する概略平面図 切断線A−Aに沿った図7の真空シールの概略横断面図 切断線A−Aに沿った図7の本発明による真空シールの小変更をしたバリエーションの概略横断面図 本発明による真空シールの1つの別のバリエーションの概略横断面図 本発明による真空シールのもう1つの別のバリエーションの概略横断面図 真空ポンプと、レシピエントと、レシピエントと真空ポンプを真空密に接続するためのアダプタを有する本発明による真空システムの1つのバリエーションの概略横断面図 図12の真空システムの真空ポンプの概略斜視図 図13真空ポンプの入口領域に対する概略平面図 図12の真空システムの真空ポンプとアダプタに対する概略平面図 図12の真空システムの真空システムの真空ポンプとアダプタの概略斜視図 アダプタの概略斜視図 アダプタの別の概略斜視図 成形部品として形成されたシールの概略図
図1に示したターボ分子ポンプ111は、入口フランジ113によって包囲されたポンプ入口115を有し、このポンプ入口に、それ自身周知のように、図示してないレシピエントを接続することができる。レシピエントからのガスは、ポンプ入口115を介してレシピエントから吸い込まれ、ポンプを経てポンプ出口117へ移送することができ、このポンプ出口には、例えば回転ベーンポンプのような真空ポンプを接続することができる。
入口フランジ113は、図1による真空ポンプの整向時に、真空ポンプ111のハウジング119の上端を構成する。ハウジング119は、下部121を有し、この下部の横に、電子機器ハウジング123が配置されている。電子機器ハウジング123内に、例えば真空ポンプ内に配置された電気モータ125を作動させるために、真空ポンプ111の電気及び/又は電子部品が収納されている。電子機器ハウジング123には、アクセサリ用の複数のポート127が設けられている。加えて、例えばRS485規格によるデータインタフェース129と電力供給ポート131が電子機器ハウジング123に配置されている。
ターボ分子ポンプ111のハウジング119には、特に張水弁の形態の張水入口133が設けられ、この張水入口を介して張水をすることができる。更に、下部121の領域には、更に、掃気ガスポートとも呼ばれるシールガスポート135が配置され、掃気ガスポートを介して、掃気ガスが、ポンプによって移送されるガスから電気モータ125(例えば図3参照)を保護するために、モータスペース137−このモータスペース内で、電気モータ125は真空ポンプ111内に収納されている−へ導入することができる。更に、下部121内には、更に、2つの冷却剤ポート139が配置され、これら冷却剤ポートの一方は、冷却剤用の入口として設けられ、他方の冷却剤ポートは、冷却剤用の出口として設けられ、この冷却剤は、冷却のために真空ポンプ内に導入することができる。
真空ポンプの下側141は、スタンド面として使用することができるので、真空ポンプ111は、下側141の上に立った状態で作動させることができる。しかしながら、真空ポンプ111は、入口フランジ113を介してレシピエントに固定され、これにより、ある程度吊り下がった状態で作動されてもよい。加えて、真空ポンプ111は、図1に示したものとは違うように整向されている時でも作動させ得るように構成することができる。下側141を、下方ではなく、側方に向けられるか、上方に向けられるように配置することができる、真空ポンプの実施形態も実現することができる。
図2に図示した下側141には、更に、種々のボルト143が配置され、これらボルトによって、ここではそれ以上は特定されていない真空ポンプの部品が互いに固定されている。例えば、軸受カバー145は、下側141に固定されている。
加えて、下側141には、固定孔147が配置され、これら固定孔を介して、ポンプ111は、例えば載置面に固定することができる。
図2〜5には、冷却剤ライン148図され、この冷却ライン内を、冷却剤ポート139を介して導入及び導出される冷却剤が循環できる。
図3〜5の断面図が示すように、真空ポンプは、ポンプ入口115に滞っているプロセスガスをポンプ出口117へ移送するために複数のプロセスガスポンプ段を有する。
ハウジング119内に、ロータ149が配置され、このロータは、回転軸151を中心として回転可能なロータシャフト153を備える。
ターボ分子ポンプ111は、ロータシャフト153に固定された半径方向のロータディスク155と、ロータディスクの間に配置されかつハウジング119に固定されたステータディスク157を有する、ポンプに有効に互いに直列に介装されたターボ分子ポンプ段を有する。この場合、ロータディスク155と隣接するステータディスク157が、それぞれ1つのターボ分子ポンプ段を構成する。ステータディスク157は、スペーサリング159によって互いに所望の軸方向の間隔を置いて保持されている。
加えて、真空ポンプは、半径方向に互いに入れ子式に配置され、ポンプに有効に互いに直列に介装されたホルベックポンプ段を有する。ホルベックポンプ段のロータは、ロータシャフト153に配置された1つのロータハブ161と、ロータハブ161に固定されかつこのロータハブによって支持された2つのシリンダシェル状のホルベックロータスリーブ163,165を有し、これらホルベックロータスリーブは、回転軸151に対して同軸に整向され、半径方向に互いに入れ子式に介装されている。更に、2つのシリンダシェル状のホルベックステータスリーブ167,169が設けられ、これらホルベックステータスリーブも回転軸151に対して同軸に整向され、半径方向に見て互いに接続されている。
ホルベックポンプ段のポンプ活性表面は、シェル面によって、即ち半径方向内面及び/又は外面、ホルベックロータスリーブ163,165及びホルベックステータスリーブ167,169によって構成されている。外側のホルベックステータスリーブ167の半径方向の内面は、半径方向のホルベックギャップ171を形成しつつ外側のホルベックロータスリーブ163の半径方向外面に対面し、この半径方向外面と共に、ターボ分子ポンプの後に続く第1のホルベックポンプ段を構成する。外側のホルベックロータスリーブ163の半径方向内面は、半径方向のホルベックギャップ173を形成しつつ内側のホルベックステータスリーブ169の半径方向外面に対置し、この半径方向外面と共に第2のホルベックポンプ段を構成する。内側のホルベックステータスリーブ169の半径方向内面は、半径方向のホルベックギャップ175を形成しつつ内側のホルベックロータスリーブ165の半径方向外面に対面し、この半径方向外面と共に第3のホルベックポンプ段を構成する。
ホルベックロータスリーブ163の下端に、その介在により半径方向外側に位置するホルベックギャップ171を中央のホルベックギャップ173と接続する、半径方向に延在する通路を設けることができる。加えて、内側のホルベックステータスリーブ169の上端に、その介在により中央のホルベックギャップ173を半径方向内側に位置するホルベックギャップ175と接続する、半径方向に延在する通路を設けることができる。これにより、互いに入れ子式に介装されたホルベックポンプ段は、互いに直列に介装される。更に、半径方向内側に位置するホルベックロータスリーブ165の下端に、出口117への接続通路179を設けることができる。
ホルベックステータスリーブ163,165の前記ポンプ活性表面は、それぞれ、回転軸151を中心として螺旋状に軸方向に延在する複数のホルベック溝を備えるが、ホルベックロータスリーブ163,165の相対するシェル面は、平滑に形成され、ホルベック溝内の真空ポンプ111を作動させるためのガスを推進する。
ロータシャフト153を回転可能に軸受けするために、転がり軸受181がポンプ出口117の領域に設けられ、永久磁石軸受が、ポンプ入口115の領域に設けられている。
転がり軸受181の領域で、ロータシャフト153に、転がり軸受181に向かって増加する外径を有する円錐形のスプレーナット185が設けられている。スプレーナット185は、作動媒体蓄積器の少なくとも1つのワイパと滑り接触している。作動媒体蓄積器は、上下に積み重ねられた複数の吸湿性のディスク187を有し、これらディスクは、転がり軸受181用の作動媒体、例えば潤滑剤を吸収している。
真空ポンプ111の作動中、作動媒体は、毛管作用によって作動媒体蓄積器からワイパを介して回転するスプレーナット185へ伝達され、遠心力のために、スプレーナット185に沿ってスプレーナット185の外径が大きくなる方向に転がり軸受181に向かって移送され、そこで、作動媒体は、例えば潤滑機能を満足する。転がり軸受181と作動媒体蓄積器は、真空ポンプ内で桶状のインサート189と軸受カバー145によって包囲されている。
永久磁石軸受183は、ロータ側の軸受半体191とステータ側の軸受半体193を有し、これら軸受半体は、軸方向に上下に積み重ねられた複数の永久磁石リング195,197から成るそれぞれ1つのリングスタックを有する。リング磁石195,197は、互いに半径方向の軸受ギャップ199を形成しつつ対面し、ロータ側のリング磁石195は、半径方向外側に配置され、ステータ側のリング磁石197は、半径方向内側に配置されている。軸受ギャップ199内に存在する磁場は、リング磁石195,197の間に、ロータシャフト153の半径方向の軸受けを生じさせる磁気的反発力を惹起する。ロータ側のリング磁石195は、ロータシャフト153のキャリヤ部分201によって支持され、このキャリヤ部分は、リング磁石195を半径方向外側から包囲する。ステータ側のリング磁石197は、ステータ側のキャリヤ部分203によって支持され、このキャリヤ部分は、リング磁石を経て延在し、ハウジング119の半径方向のブレース205に懸架されている。回転軸151に対して平行に、ロータ側のリング磁石195は、キャリヤ部分203と連結されたカバー要素207によって固定されている。ステータ側のリング磁石197は、回転軸151に対して平行に、1つの方向に、キャリヤ部分203と接続された固定リング209並びにキャリヤ部分203と接続された固定リング211によって固定されている。加えて、固定リング211とリング磁石197の間に、皿バネ213を設けることができる。
磁石軸受内に、緊急もしくは安全軸受215が設けられ、この緊急もしくは安全軸受は、真空ポンプ111の標準的な作動中に、接触することなく空転し、ステータに対して相対的にロータ149が過度に半径方向に変位した時に初めて、ロータ149用の半径方向ストッパを構成するために係合する。何故なら、ステータ側の構造物とロータ側の構造物の衝突が防止されるからである。安全軸受215は、無潤滑の転がり軸受として形成され、ロータ149及び/又はステータと共に、安全軸受215が標準的なポンプ作動中に解放されていることを生じさせる半径方向のギャップを構成する。安全軸受215が係合する半径方向の変位は、安全軸受215が真空ポンプの標準的な作動中には係合しないように十分大きく、同時に、ステータ側の構造物とロータ側の構造物の衝突が全ての状況下で防止されるように十分小さく、設定されている。
真空ポンプ111は、ロータ149を回転駆動するための電気モータを有する。電気モータ125のアンカーは、ロータ149によって構成され、このロータのロータシャフト153は、モータステータ217を経て延在する。も多ステータ217を経て延在するロータシャフト153の部分には、半径方向外側に又は埋設されて、永久磁石装置を配置することができる。モータステータ217とモータステータ217を経て延在するロータ149の部分との間に、中間スペース219が配置され、この中間スペースは、半径方向のモータギャップを有し、このモータギャップを介して、モータステータ217と永久磁石装置は、駆動トルクを伝達するために磁気的影響を受け得る。
モータステータ217は、ハウジング内で、電気モータ125のために設けられたモータスペース内に固定されている。シールガスポート135を介して、掃気ガスとも呼ばれかつ例えば空気又は窒素であり得るシールガスがモータスペース137内へ達し得る。シールガスを介して、電気モータ125は、プロセスガス、例えばプロセスガスの腐食作用成分、から保護することができる。モータスペース137は、ポンプ出口117を介して真空引きすることもでき、即ちモータスペース137内は、少なくともほぼ、ポンプ出口117に接続された予備真空ポンプによって生じさせられた真空圧力が支配する。
加えて、ロータハブ161とモータスペース137を画成する壁221との間には、特に、半径方向外側に位置するホルベックポンプ段に対するモータスペース217の良好なシールを達成するために、それ自身周知のいわゆるラビリンスシール223を設けることができる。
入口フランジ113に図示してないレシピエントが接続されている又はされる場合、入口フランジ113とレシピエントの出口フランジとの間には、以下で模範的に図7〜11に関して詳細に説明するように、本発明による真空シール701が配置できる。これにより、特に低い最終圧力が達成できる。
選択的又は付加的に、レシピエントが接続される時にレシピエントの出口フランジに面した入口フランジ113の表面もしくは側に、完全にフランジ113の方向に取り巻く例えばPTFEのような非金属材料から成るシェル(示してない)を配置することができる。対応するシェルは、オプションで、レシピエントの出口フランジの入口フランジ113の側に配置することもできる。これにより、入口フランジ113と出口フランジの間に付加的なシールが必要とされない、真空ポンプ111とレシピエントを有する真空システムを提供することができる。
図6に示した真空システム21は、1つの真空ポンプ23と1つのレシピエント25を有する。真空ポンプ23は、第1のポンプ段27、第2のポンプ段29及び第3のポンプ段31を有するターボ分子ポンプである。ポンプ段27,29及び31は、直列に配置され、レシピエント25から来る例えば空気のような流体を真空ポンプ23の入口33から真空ポンプ23の出口35−この出口には、別の真空ポンプを接続することができる−へ圧送するために設けられている。
第1のポンプ段27は、ロータシャフトに固定された複数のロータディスクと、軸方向でロータディスクの間に配置された複数のステータディスクを有するターボ分子ポンプ段であり得る。第2のポンプ段29と第3のポンプ段31は、互いに入れ子式に介装されたホルベック段であり得る。但し、他の構成も可能である。例えば、第2のポンプ段29は、別のターボ分子ポンプ段であり得るが、第3のポンプ段だけは、ホルベックポンプ段である。
図6が示すように、レシピエント25の出口37は、真空ポンプ23の入口33に接続されている。この場合、それ自身周知のように、出口37内に設けられた出口開口39は、入口33に設けられた入口開口41と整列させられている。加えて、ここでは出口部分43とも呼ばれる出口フランジ43が、出口開口の周囲に設けられている。出口フランジは、入口開口41の周囲に延在する入口部分とも呼ばれる入口フランジ45に対置している。
入口フランジ45と出口フランジ43の間に、入口開口41の周囲に延在する内側の第1のシール47が配置されている。第1のシール47の半径方向外側に、同様に入口フランジの周囲に延在する外側の第2のシール49が配置されている。両シール47,49により、出口開口39と入口開口41の間に延在する真空ポンプ23とレシピエント25の間の接続通路が、シールされる。
両シール47,49は、容積部51を包囲するが、加えて、この容積部は、示した例の場合、入口フランジ45と出口フランジ43の外壁によって画成される。容積部51を真空引きするために、吸引部53が設けられ、この吸引部は、少なくとも1つの吸引口55を備え、この吸引口を介して、容積部51は、第2のポンプ段29と接続している。従って、容積部51は、第2のポンプ段29と下流に配置された第3のポンプ段31によって真空引きすることができる。
容積部51を真空引きするために他のバリエーションも可能である。例えば、容積部51は、第3のポンプ段又は別個の真空ポンプだけによって真空引きすることができる。
外側の第2のシール49は、容積部51を大気に対してシールする。従って容積部51内を負圧が支配するので、内側の第1のシール47は、開口39,41の間の接続通路を、大気に対してではなく、容積部51内を支配する負圧に対してしかシールしない。これにより、レシピエント225内に、特に、中間吸引部53を含めた両シール47,49の代わりに唯一のシールしか使用しないことに比べてより低い圧力が発生可能である。
更に、真空システム21の場合、シール47,49の少なくとも一方、好ましくは内側の第1のシール47は、以下では模範的に図7〜11に関して詳細に説明されるように本発明によるシール701の形態で形成されている。
他方の、好ましくは第2のシール49は、それ自身周知のように、例えばPTFE、FKM又はバイトンのようなエラストマーから成るOリングとして形成することができる。
図7に平面図で示した本発明による真空シール701の模範的なバリエーションは、例えばアルミニウム、アルミニウム合金又は特に焼鈍しされた銅から形成された、リング状に閉じた金属体703を有する。円形の形態は、単に例であると見なすべきである。選択的に、真空シール701は、例えば矩形の形態を有することができる。特に、形態は、真空シール701がフランジに形成されたそれ自身周知のシールを収容するための環状の溝内へ挿入され得るように形成されている。
図8の横断面図からわかるように、真空シール701及び特に金属体703は、フラットシールの形式で形成されている。金属体703は、非金属材料から成るシェル705を備え、このシェルは、非金属材料から成る上層707及び下層709を有する。上層707は、金属体703の上側711に配置されているが、下層709は、金属体703の下側713に配置されている。両層707及び709は、シール701の周方向Uに見て、全面的にそれぞれの側711もしくは713に沿って延在する。真空シール701が規定通りフランジと対向フランジの間に配置されている時に、上側711及びこれにより上層707は、図示してないフランジに面しており、下側713及び下層709は、図示してない対向フランジに面している。金属体703とシェル705の組み合わせにより、特に高密閉性の真空接続が、フランジと対向フランジの間に生じさせることができ、これにより、前で説明したように、10−10mbar未満の圧力が実現可能である。
図8に図示したシェル705の形成は、単に例であると見なすべきである。シェル705は、金属体703の表面を全面的に包囲することもできるので、両層707,709は、金属体703を完全に覆う一貫した層を構成する。
図9の横断面図からわかるように、そこに図示した小変更をしたバリエーションは、上側711の隆起715によって異なる。隆起715は、周方向に見て、金属体703の全周囲にわたって延在し、シェル705、特に層707によって覆われる。隆起715は、一種の切れ刃として作用し、これにより、真空シール701のシール作用を改善する。隆起715の高さは、例えば0.1〜0.5mmの範囲内にあり得る。
シェル705及びこれにより両層707,709は、好ましくは例えばPTFEのようなエラストマーから成る。シェル705もしくは層707,709のそれぞれは、コーティングとして金属体703の表面上に形成することができる。選択的に、各層707,709は、積層又は他の接合方法によって金属体703の表面に形成することができる。
図10の横断面図は、金属体703がC字形のバネ弾性を有するシール要素の形式で形成されている、本発明による真空シール701の別のバリエーションを示す。金属体703を完全に又は部分的に包囲する非金属材料から成るシェルは、図示されていない。非金属材料から成るシェルのそれぞれの層は、好ましくは金属体703の上側711もしくは下側713に形成することができ、上側711もしくは下側713は、シール701が規定通りフランジと対向フランジの間に挿入されている時に、フランジもしくは対向フランジに相対する。
図11は、金属体703が、V字形のバネ弾性を有するシール要素の形式で形成されている、本発明による真空シール701のもう1つの別のバリエーションの横断面図を示す。更にまた、金属体703を完全に又は部分的に包囲する非金属材料から成るシェルは、図示されていない。図11による真空シール701は、“V”字の一方の脚の外側によって構成される下側713が、フランジに載置され、“V”字の他方の外側によって構成される上側711が、対向フランジに面しているように、フランジと対向フランジの間に挿入される。従って、好ましくは少なくとも上側711と下側713が、少なくとも部分的にシェルのそれぞれの層によって覆われる(図示してない)。この場合、層は、好ましくは全面的にそれぞれの側711,713に延在する。
図10もしくは図11に示した真空シール701は、真空シール701がフランジと対向フランジの間に挟み込まれている時に、それぞれの金属体703が撓み得るとの利点を備える。これにより、シールパートナーの公差は、シール701によって良好に補償することができる。
図12〜19に関して説明される真空システム801は、真空ポンプ803とレシピエント813を有し、真空ポンプ803は、第1の入口807、第2の入口809及び第3の入口811を有する少なくとも1つの接続面805を備え、レシピエント813は、少なくとも1つの出口815を備え、この出口を、特にチューブ状の壁817が包囲し、この壁の出口815から離隔して位置する前側819は、真空ポンプ803の接続面805と当接可能である。
加えて、真空システムは、レシピエント813と真空ポンプ803を真空密に接続するための特にシリンダ状のアダプタ821を有する。アダプタ821は、アダプタ821が規定通り真空ポンプ803とレシピエント813の間に配置されている時に、レシピエント813の壁817内に収容されている。その場合、壁817は、図12に見られるように、アダプタ821を包囲する。
アダプタ821は、軸方向に見て、少なくとも実質的にレシピエント813の壁817の軸方向の高さに一致する長さを備える。壁の軸方向の高さは、少なくとも実質的に、壁817によって包囲される出口815の前の容積部への出口815の開口部が位置する平面と、前側819が位置する平面との間間隔に一致する。アダプタ821の寸法設定により、アダプタ821の下側823が、真空ポンプ803の接続面805に対面し、アダプタ821の上側825が、レシピエント813の接続面827に対面することが達成される。
アダプタ821内で、下側823と上側825の間に第1の通路829が形成され、この第1の通路は、アダプタ821が規定通り真空ポンプ803とレシピエント813の間に配置されている時に、真空ポンプ803の第1の入口807をレシピエント813の出口815と接続する。アダプタ821の上側825とレシピエント813の接続面827との間に、内側の第1のシール831が配置され、レシピエント813の壁817の前側819と真空ポンプ803の接続面805との間に、外側の第2のシール833が配置されている。
アダプタ821内に、第2の通路835が形成され、この第2の通路は、アダプタ821の下側823に出口開口837を備え、この出口開口は、アダプタ821が規定通り真空ポンプ803とレシピエント813の間に配置されている時に、真空ポンプ803の第2の入口と整列させられている。第2の通路835は、少なくとも1つの出口開口839を、図示した例では2つの出口開口839を、上側825と下側823の間に延在するアダプタ821の半径方向外側841に備える。
第3の通路845の下側823に位置する出口開口843は、第3の入口と整列させられている。第3の通路845は、アダプタ821内に延在し、加えて、少なくとも1つの出口開口847を、図示した例では2つの出口開口847を、アダプタ821の外側841に備える。第3の通路845の出口開口847は、軸方向Aと周方向Uに見て、第2の通路835の出口開口839に対して位置をずらして外側841に配置されている(図16参照)。
第2の通路835の出口開口839と第3の通路845の出口開口847との間で、アダプタ821の外側841に、第3のシール857用の当接面849(図12及び17参照)が形成され、この当接面849は、外側841の周囲の外周に沿って全面的に延在する。
当接面849は、アダプタ821の場合、このアダプタが、少なくともほぼシリンダ状の第1の部分851と、少なくともほぼシリンダ状の第2の部分853から構成されていることによって得られる。両部分851及び853は、例えば互いに一体的に形成されている。第1の部分は、少なくともほぼアダプタ821の上半分を構成するが、第2の部分853は、少なくともほぼアダプタ821の下半分を構成する。第1の部分851は、上側825から見て、下側823の方向に延在する。アダプタ821の約半分の高さのところで、第1の部分851は、下側823まで延在するアダプタ821の第2の部分へ移行する。両部分851,853は、互いに同軸に形成されている。しかしながら、第2の部分853は、第1の部分851よりも大きい直径を備える。これにより、第1の部分851の下端から第2の部分853の上端への移行部に、外側841に沿って取り巻く段部855が生じ、その段部の上側が、第3のシール857用の当接面849である。
レシピエント813の壁817の内側に、相補的な段部859が形成され、この段部の上側が、第3のシール857用の対向面861を構成する。従って、第3のシール857は、アダプタ821が規定通り真空ポンプ803とレシピエント813の間に配置されている時に、当接面849と対抗面861の間に挟み込まれてもしくは圧入されている。
上の第1のシール831は、アダプタ821の上側825において、出口815もしくは第1の通路829を包囲する。下の第2のシール833は、外方へ大気に対してシールすることを生じさせる。軸方向に見て、第1と第2831,833の間に位置する第3のシール857は、アダプタ821と壁817の間に圧入されている。第3のシール857は、壁817の内側とアダプタ821の外側841との間の容積部−この容積部に第2の通路835が開口する−を、壁817の内側とアダプタ821の外側841との間の容積部−この容積部に第3の通路845が開口する−から分離する。
この場合、第2の通路835が開口する容積部は、真空ポンプ803の第2の入口809によって真空引きされるが、第3の通路845が開口する容積部は、第3の入口811によって真空引きされる。両入口809,811のそれぞれは、真空ポンプ803内で、真空ポンプ803の少なくとも1つのポンプ段に接続されている。
両入口809,811は、第1の入口807の吸引能力よりも小さい吸引能力を備える。両入口809,811は、補助入口としてもしくは両通路835,845と組み合わせて前記容積部用の中間吸引部として機能し、これにより、入口815内の達成可能な最終圧力を低減することができる。
前記容積部の一方に、レシピエント813のチャンバの別の出口が開口することもできるので、チャンバは、それぞれの中間吸引部を介して真空引きすることができる(示してない)。
アダプタ821の下側823と真空ポンプ803の接続面805との間に、もう1つの別の第4のシール863を配置することができるが、この第4のシールは、図19により成形部品として形成することができる。
第4のシール863は、その外輪郭が少なくとも実質的に真空ポンプ803の入口領域の輪郭に一致する、シール材料、例えばPTFEから成るプレートとして形成されている。加えて、第4のシール863は、3つの貫通部865を備え、これら貫通部は、第4のシール863が下側823と当接している時に、3つの通路829,835,845の出口開口と一致させることができる。従って、第4のシール863は、アダプタ821の下側823の3つの通路829,935,845を互いに分離する。
第4のシール863は、図18に関して説明されているように、2部材で形成することができる。この場合、別個のシール867が第1の通路829の出口開口の周囲に延在するが、別の別個のシール869が、第1の通路829の出口開口の周囲及び第2の通路835の出口開口837の周囲に延在する。
下側823に、第1の通路829の出口開口の周囲を全面的に取り巻き、第2の通路835に開口する溝871が形成されている。従って、溝871は、別個のシール867の周囲の中間吸引部として使用され、これにより、第1の通路829内の真空を改善することができる。
21 真空システム
23 真空ポンプ
25 レシピエント
27 第1のポンプ段
29 第2のポンプ段
31 第3のポンプ段
33 入口
35 出口
37 出口
39 出口開口
41 入口開口
43 出口フランジ、出口部分
45 入口フランジ、入口部分
47 第1のシール
49 第2のシール
51 容積部
53 吸引部
55 吸引口
111 ターボ分子ポンプ
113 入口フランジ
115 ポンプ入口
117 ポンプ出口
119 ハウジング
121 下部
123 電子機器ハウジング
125 電気モータ
127 アクセサリポート
129 データインタフェース
131 電力供給ポート
133 張水入口
135 シールガスポート
137 モータスペース
139 冷却剤ポート
141 下側
143 ボルト
145 軸受カバー
147 固定孔
148 冷却剤ライン
149 ロータ
151 回転軸
153 ロータシャフト
155 ロータディスク
157 ステータディスク
159 スペーサリング
161 ロータハブ
163 ホルベックロータスリーブ
165 ホルベックロータスリーブ
167 ホルベックステータスリーブ
169 ホルベックステータスリーブ
171 ホルベックギャップ
173 ホルベックギャップ
175 ホルベックギャップ
179 接続通路
181 転がり軸受
183 永久磁石軸受
185 スプレーナット
187 ディスク
189 インサート
191 ロータ側の軸受半体
193 ステータ側の軸受半体
195 リング磁石
197 リング磁石
199 軸受ギャップ
201 キャリヤ部分
203 キャリヤ部分
205 半径方向のブレース
207 カバー要素
209 支持リング
211 固定リング
213 皿バネ
215 緊急もしくは安全軸受
217 モータステータ
219 中間スペース
221 壁
223 ラビリンスシール
701 シンクシール
703 金属体
705 シェル
707 上層
709 下層
711 上側
713 下側
715 隆起
801 真空システム
803 真空ポンプ
805 接続面
807 第1の入口
809 第2の入口
811 第3の入口
813 レシピエント
815 出口
817 壁
819 前側
821 アダプタ
823 下側
825 上側
827 レシピエントの接続面
829 第1の通路
831 第1のシール
833 第2のシール
835 第2の通路
837 出口開口
839 出口開口
841 外側
843 出口開口
845 第3の通路
847 出口開口
849 当接面
851 第1の部分
853 第2の部分
855 段部
857 第3のシール
859 段部
861 対向面
863 第4のシール
865 貫通部
867 シール
869 シール
871 溝
A 軸方向
U 周方向

Claims (15)

  1. 2つのシール面、特にフランジ(43,45,113)の間の、特にレシピエント(25)の出口(43)と真空ポンプ(23,111)、特にターボ分子ポンプの入口(45,113)との間の接続部をシールするための真空シール(701)であって、このシール(701)がリング状に閉じた金属体(703)を備えるものにおいて、
    金属体(703)に、非金属材料から成るシェル(705)が配置されていること、を特徴とするシール(701)。
  2. 金属体(703)が、バネ弾性を有するシール要素の形式又はフラットシールの形式で形成されていること、及び/又は、金属体(703)が、アルミニウム、アルミニウム合金又は銅、特に焼鈍しされた銅を備えるか、それから成ること、を特徴とする請求項1に記載のシール(701)。
  3. シェル(705)が、非金属材料から成る少なくとも1つの層(707,709)を有し、この層が、金属体(703)の表面の一部上に配置されていること、及び/又は、シェル(705)が、エラストマー又は全く又は極僅かにしかガスを放出しない他のプラスチックを備えるか、それから成ること、を特徴とする請求項1又は2に記載のシール(701)。
  4. エラストマーが、PTFEであるか、例えばPFA、TFM又はFEPのようなPTFEをベースとする材料であり、好ましくはエラストマーが充填物を備えること、を特徴とする請求項3に記載のシール(701)。
  5. シェル(705)が、コーティングの形式で金属体(703)上に形成されているか、特に母材融合式の、噛合い係合式の又は熱的な例えば積層又は収縮のような接合方法によって金属体(703)上に形成されていること、及び/又は、シェル(705)が、金属体(703)の表面を完全に又は部分的にだけ包囲すること、を特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のシール(701)。
  6. 金属体(703)が、2つの表面側(711,713)を備え、シール(701)が、規定通り両シール面、特にフランジの間に配置されている時に、表面側の一方(711)が、一方のシール面、特にレシピエントの出口に面し、表面側の他方(713)が、他方のシール面、特に真空ポンプ、好ましくはターボ分子ポンプの入口に面し、両表面側の少なくとも一方(711)が、シール(701)の周方向(U)に取り巻きかつこの表面側(711)から突出する、特に0.05mm〜0.2mm又は0.05mm〜0.5mmの高さを有する隆起(715)を備え、好ましくは、シェル(705)が隆起(715)を覆うこと、を特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のシール(701)。
  7. 2つのシール面、特にフランジ(43,45)の間、特にレシピエント(25)の出口(43)と真空ポンプ(23)、特にターボ分子ポンプの入口(45)との間の接続部をシールするためのマルチシール又はダブルシールであって、このマルチシール又はダブルシールが、少なくとも1つの第1のシール(47)と第2のシール(49)を備え、これらシールは、第2のシール(49)が第1のシール(47)に対して間隔を置いて第1のシール(47)を包囲するように、シール面、特にフランジ(43,45)の間に配置することができ、両シール(47,49)の一方、好ましくは内側の第1のシール(47)が、請求項1〜6のいずれか1項に記載のシール(701)であること、を特徴とするマルチシール又はダブルシール。
  8. 第1のシール(47)と第2のシール(49)が、リング状に閉じたそれぞれ1つの金属体(703)を備え、好ましくは、両シール(47,49)の金属体(703)が、互いに一体的にかつ好ましくは互いに分離可能に形成されていること、を特徴とする請求項7に記載のダブルシール。
  9. 少なくとも1つの第1の真空装置、特に真空ポンプ(23)、好ましくはターボ分子ポンプと、少なくとも1つの第2の真空装置、特にレシピエント(25)を有する真空システム(21)であって、第2の真空装置の出口、特に出口フランジ(43)が、第1の真空装置の入口、特に入口フランジ(45)と切離可能に接続されている又は接続可能であり、出口と入口の間に、請求項1〜6のいずれか1項に記載の少なくとも1つのシール(701)又は請求項7又は8に記載の少なくとも1つのマルチシール又はダブルシールが配置されていること、を特徴とする真空システム。
  10. 出口及び/又は入口に、シール(701)と協働するための、好ましくはそれぞれのシール面の周方向に取り巻く少なくとも1つの切れ刃が形成され、切れ刃が、0.05mm〜0.2mm又は0.05mm〜0.5mmの高さを備えること、を特徴とする請求項9に記載の真空システム。
  11. レシピエントの出口、特に出口フランジを接続するための入口、特に入口フランジ(45,113)を有する真空ポンプ(23,111)、特にターボ分子ポンプにおいて、
    入口(45,113)に、シール(701)と協働するための、好ましくは入口(45,113)の周方向に取り巻く少なくとも1つの切れ刃が形成され、切れ刃が、0.05mm〜0.2mm又は0.05mm〜0.5mmの高さを備えること、を特徴とする真空ポンプ。
  12. 少なくとも1つの第1の真空装置、特に真空ポンプ(23)、好ましくはターボ分子ポンプと、少なくとも1つの第2の真空装置、特にレシピエント(25)を有する真空システムであって、第2の真空装置の出口、特に出口フランジ(43)が、第1の真空装置の入口、特に入口フランジ(45)と解離可能に接続されている又は接続可能であり、少なくとも入口(45)に面した出口(43)の表面及び/又は少なくとも出口(43)に面した入口(45)の表面に、入口もしくは出口の周方向に取り巻く非金属材料から成るシェルが配置されていること、を特徴とする真空システム。
  13. レシピエント(25)の出口、特に出口フランジ(43)を接続するための入口、特に入口フランジ(45,113)を有する真空ポンプ(23,111)、特にターボ分子ポンプにおいて、
    少なくとも、レシピエント(25)が接続された時に出口(43)に面した入口(45,113)の表面に、入口の周方向に取り巻く非金属材料から成るシェルが配置されていること、を特徴とする真空ポンプ。
  14. 真空ポンプ(803)と、レシピエント(813)と、レシピエント(813)と真空ポンプ(803)を特に真空密に接続するための特にシリンダ状のアダプタ(821)を有し、真空ポンプ(803)が、少なくとも1つの第1の入口(807)を有する少なくとも1つの接続面(805)を備え、レシピエント(813)が、少なくとも1つの出口(815)を備え、この出口を、特にチューブ状の壁(817)が包囲し、この壁の出口(815)から離隔して位置する前側(819)が、真空ポンプ(803)の接続面(805)と当接可能である、との構成の真空システム(801)であって、
    アダプタ(821)は、アダプタ(821)が規定通り真空ポンプ(803)とレシピエント(813)の間に配置されている時に、レシピエント(813)の壁(817)内に収容されており、
    アダプタ(821)は、軸方向に見て、少なくとも実質的にレシピエント(813)の壁(817)の軸方向の長さに一致する長さを備え、これにより、アダプタ(821)の下側(823)が、真空ポンプ(803)の接続面(805)に当接し、アダプタ(821)の上側(825)が、出口(815)を包囲するレシピエントの接続面(827)に当接し、
    アダプタ(821)内で下側(823)と上側(825)の間に第1の通路(829)が延在し、この第1の通路は、アダプタ(821)が規定通り真空ポンプ(803)とレシピエント(813)の間に配置されている時に、真空ポンプ(803)の第1の入口(807)をレシピエント(813)の出口(815)と接続し、
    アダプタ(821)の上側(825)とレシピエント(813)の接続面(827)との間に、内側の第1のシール(831)、特に請求項1〜6のいずれか1項に記載のシールが配置されている、及び/又は、レシピエント(813)の壁(817)の前側(819)と真空ポンプ(803)の接続面(805)との間に外側の第2のシール(833)、特に請求項1〜6のいずれか1項に記載のシールが配置されていること、を特徴とする真空システム。
  15. 真空ポンプ(803)が、少なくとも1つの第1の入口(807)を有する少なくとも1つの接続面(803)を備え、レシピエント(813)が、少なくとも1つの出口(815)を備え、この出口を、特にチューブ状の壁(817)が包囲し、この壁の出口(815)から離隔して位置する前側(819)が、真空ポンプ(803)の接続面(805)と当接可能である、との構成の、レシピエント(813)と真空ポンプ(803)を真空密に接続するためのアダプタ(821)であって、
    特にシリンダ状のアダプタ(821)は、アダプタ(821)が規定通り真空ポンプ(803)とレシピエント(813)の間に配置されている時に、アダプタがレシピエント(813)の壁(817)内に収容可能であるように形成され、
    アダプタ(821)が、軸方向に見て、少なくとも実質的にレシピエント(813)の壁(817)の軸方向の長さに一致する長さを備え、これにより、アダプタ(821)が規定通り真空ポンプ(803)とレシピエント(813)の間に配置されている時に、アダプタ(821)の下側(823)が、真空ポンプ(803)の接続面(805)に当接し、アダプタ(821)の上側(825)が、出口(815)を包囲するレシピエント(813)の接続面(827)に当接し、
    アダプタ(821)内で下側(823)と上側(825)の間に第1の通路(829)が延在し、この第1の通路は、アダプタ(821)が規定通り真空ポンプ(803)とレシピエント(813)の間に配置されている時に、真空ポンプ(803)の第1の入口(807)をレシピエント(813)の出口(815)と接続すること、を特徴とするアダプタ。
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