JP7111754B2 - 真空装置及び真空システム - Google Patents
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Description
113 インレットフランジ
115 ポンプインレット
117 ポンプアウトレット
119 ハウジング
121 下部分
123 エレクトロニクスハウジング
125 電動モーター
127 アクセサリー接続部
129 データインターフェース
131 電源供給接続部
133 フローインレット
135 シールガス接続部
137 モーター室
139 冷却媒体接続部
141 下側面
143 ねじ
145 軸受カバー
147 固定穴
148 冷却媒体配管
149 ローター
151 回転軸線
153 ローターシャフト
155 ローターディスク
157 ステーターディスク
159 スペーサーリング
161 ローターハブ
163 ホルベックロータースリーブ
165 ホルベックロータースリーブ
167 ホルベックステータースリーブ
169 ホルベックステータースリーブ
171 ホルベック間隙
173 ホルベック間隙
175 ホルベック間隙
179 接続チャネル
181 転がり軸受
183 永久磁石軸受
185 スプラッシュナット
187 ディスク
189 インサート
191 ローター側の軸受半部
193 ステーター側の軸受半部
195 リングマグネット
197 リングマグネット
199 軸受間隙
201 担持部分
203 担持部分
205 半径方向の支柱
207 カバー要素
209 支持リング
211 固定リング
213 さらばね
215 緊急用又は安全用軸受
217 モーターステーター
219 中間空間
221 壁部
223 ラビリンスシール
20 フランジ
22 ハウジング
24 突出部
26 センタリング環
28 Oリング
30 リング要素
32 グリッド要素
34 インレット
36 キャリア
38 機能要素
40 シール領域
42 接続軸線
43 接続方向
44 軸方向の間隔
46 カウンターフランジ
48 ハウジング
50 貫通孔
52 固定要素
54 スクリュー
56 スクリューシャフト
58 ナット
60 固定点/固定軸線
62 突出部
64 当接面
66 溝
Claims (8)
- 真空装置とシール要素(26)を備える真空システムであって、
真空装置は、別の真空装置の別のフランジ(46)と真空密に接続するためのフランジ(20)を有し、
その際、フランジ(20)が、フランジ(20)の周囲にわたって分配されて配置された複数の固定点(60)を有し、割り当てられるべき其々の固定要素(52)のための貫通孔(50)を有する複数の固定点(60)を有し、その貫通孔(50)では、フランジ(20)が別のフランジ(46)に固定可能であり、
その際、フランジ(20)には、接続軸線(42)に対して周回する、フランジ(20,46)間に配置されるべきシール要素(26)の当接のためのシール領域(40)が設けられていて、
その際、シール領域(40)は、接続軸線(42)に対して固定点(60)の半径方向内側に配置されていて、そしてその際、接続軸線(42)に対して、シール領域(40)の半径方向外側に、軸方向の突出部(62)がフランジ(20)に設けられていて、これが、別のフランジ(46)のための当接面(64)を形成し、及び、
シール要素が、センタリング環(26)によって形成されていて、その際、センタリング環(26)が、変形可能なシール機構(28)又はOリングを有し、そして少なくとも基本的に堅牢な、シール機構(28)のための少なくとも一つのホルダー(30)を有し、及び
突出部(62)が、フランジ(20)と一体に形成されていて、及び
突出部(62)が、接続軸線(42)を中心として周回するように形成され、
突出部(62)の当接面(64)内に少なくとも一つの溝(66)が設けられていて、当接面(64)の半径方向内側の端部から、当接面(64)の半径方向外側の端部へと延びている、
ことを特徴とする真空システム。 - 当接面(64)が、固定点(60)の半径方向外側に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の真空システム。
- 当接面(64)が、シール領域(40)に関して軸方向に突き出して配置されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の真空システム。
- 当接面(64)とシール領域(40)の間の軸方向の間隔が、少なくとも3.7mm、かつ最高4.1mm若しくは3.9mm、又は少なくとも5.4mm、かつ最高5.8mm若しくは5.6mmであることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の真空システム。
- 真空装置は、真空装置のシール領域(40)内のシール要素(26)を、又は真空装置のシール領域(40)に当接する為のシール要素(26)を有し、当接面(64)とシール領域(40)の間の軸方向の間隔が、フランジ接続内の組み込み状態におけるシール要素(26)の軸方向の厚さに相当することを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の真空システム。
- フランジ(20)が、真空装置のハウジング(22)と接続されていて、その際、フランジ(20)が、ハウジング(22)と一体に形成されていることを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載の真空システム。
- 真空装置が、磁石軸受を有するターボ分子ポンプとして形成されていて、その際、磁石軸受のコンポーネント(38)のためのキャリア(36)が、ターボ分子ポンプのハウジング(22)と、及び/又はフランジ(20)と接続されていることを特徴とする請求項1から6のいずれか一項に記載の真空システム。
- 真空装置が、フランジ(20)を有し、そして、
真空装置のシール領域(40)内のシール要素(26)を、又は真空装置のシール領域(40)に当接する為のシール要素(26)を有し、
真空システムが、追加的に、別のフランジを有する別の真空装置を有し、及び/又は、
追加的に、真空装置のフランジ(20)を別の真空装置の別のフランジに固定するための少なくとも一つの固定要素(60)を有し、
その際、シール要素(26)が、フランジの対向する各シール領域の間に配置されるよう形成されていることを特徴とする請求項1から7のいずれか一項に記載の真空システム。
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