JP2018078258A - インプリント装置、インプリント方法、及び物品製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
まず、実施形態に係るインプリント装置の概要について説明する。インプリント装置は、基板上に供給されたインプリント材を型と接触させ、インプリント材に硬化用のエネルギーを与えることにより、型の凹凸パターンが転写された硬化物のパターンを形成する装置である。
インプリント装置を用いて形成した硬化物のパターンは、各種物品の少なくとも一部に恒久的に、或いは各種物品を製造する際に一時的に、用いられる。物品とは、電気回路素子、光学素子、MEMS、記録素子、センサ、或いは、型等である。電気回路素子としては、DRAM、SRAM、フラッシュメモリ、MRAMのような、揮発性或いは不揮発性の半導体メモリや、LSI、CCD、イメージセンサ、FPGAのような半導体素子等が挙げられる。型としては、インプリント用のモールド等が挙げられる。
Claims (9)
- 基板の上のインプリント材と型とを接触させて前記インプリント材を硬化させ、該硬化したインプリント材から前記型を引き離す離型を行うことを含むインプリント処理を行うインプリント装置であって、
前記型を保持して移動する型保持部と、
前記基板を吸着する複数の吸着領域を有し、前記基板を保持して移動する基板保持部と、
を有し、
前記離型を行う際に、
前記複数の吸着領域のうち、前記型が前記インプリント材から剥離する位置の吸着領域の吸着力を、当該位置より前記基板の外周側にある吸着領域よりも弱め、
前記型と前記基板との間隔を広げるように前記型保持部および前記基板保持部の少なくとも一方を所定量移動させてから、前記型保持部を傾斜させる
ことを特徴とするインプリント装置。 - 前記基板の中心から前記インプリント処理を行う前記基板のショット領域の中心に向かう方向に前記型保持部を傾斜させることを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。
- ショット領域ごとに、前記所定量、前記型保持部を傾斜させる方向および量を規定する情報に基づいて、前記型保持部および前記基板保持部の少なくとも一方の前記移動および前記型保持部の傾斜を制御することを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。
- 前記型保持部を傾斜させた後、傾斜しない状態に戻すことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 前記離型を行う際に、更に、前記型を前記基板に向かって凸に変形させることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 前記基板の外周部に沿って設けられる補助板を有し、
前記補助板は、外周側に向けて下り勾配を有している
ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載のインプリント装置。 - 基板保持部によって保持された基板の上のインプリント材と型保持部によって保持された型とを接触させる接触工程と、
前記接触工程の後に、前記インプリント材を硬化させる硬化工程と、
前記硬化工程の後に、前記インプリント材から前記型を引き離す離型工程と、
を有し、
前記離型工程は、
前記基板保持部に設けられた前記基板を吸着する複数の吸着領域のうち、前記型が前記インプリント材から剥離する位置の吸着領域の吸着力を、当該位置より前記基板の外周側にある吸着領域よりも弱める吸着力制御工程と、
前記吸着力制御工程の後、前記型と前記基板との間隔を広げるように前記型保持部および前記基板保持部の少なくとも一方を所定量移動させる移動工程と、
前記移動工程の後、前記型保持部を傾斜させる傾斜工程と、
を含むことを特徴とするインプリント方法。 - 請求項1乃至6のいずれか1項に記載のインプリント装置によって基板の上にパターンを形成する工程と、
前記パターンが形成された前記基板を処理する工程と、
を含むことを特徴とする物品製造方法。 - 請求項7に記載のインプリント方法によって基板の上にパターンを形成する工程と、
前記パターンが形成された前記基板を処理する工程と、
を含むことを特徴とする物品製造方法。
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