JP2018077279A - 防眩性および反射防止性を有する透明基板とその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】防眩性および反射防止性を有する透明基板とその製造方法の提供。
【解決手段】透光性を有する基材１１と、基材１１の少なくとも一方の面に設けられた反射防止層１４と、基材１１と反射防止層１４との間に設けられた、紫外線硬化性樹脂組成物の半硬化物からなる半硬化物層１３ｓとを備えた中間積層体１の、半硬化物層１３ｓが全硬化した透明基板１０であって、反射防止層１４の表面に不規則な凹凸構造を有し、かつ凹凸構造の表面の算術平均粗さＲａが０．０１〜１．００μｍであり、平均凹凸周期ＲＳｍが１〜３０μｍであり、反射防止層１４は、屈折率が１．４７以下であり、厚さが５０〜２００ｎｍである低屈折率層１４ａを最表層に備え、半硬化物層１３ｓのヤング率が０．１〜２．５ＧＰａであり、全硬化後の厚さが１．０〜１０．０μｍであり、中間積層体１の伸び率が１０５〜１５０％である、透明基板１０。
【選択図】図２

Description

本発明は、防眩性および反射防止性を有する透明基板とその製造方法に関する。

液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）等の画像表示装置の表示面の全面パネル、自動車のメーターパネル、ナビゲーションパネルなどには、反射防止フィルムが設けられている場合が多い。
反射防止フィルムとしては、基材上に屈折率の異なる数層の干渉膜が積層した構造のものが知られており、通常、真空蒸着法、スパッタリング法、コーティング法等の方法で製造される。また、フィルムの材料に微粒子を分散させたり、エンボス版等の金型を用いてフィルム表面に金型の凹凸を転写したりして、フィルムの表面に凹凸構造が形成された反射防止フィルムも知られている。

近年、反射防止フィルムに防眩性を付与したフィルムが提案されている。例えば、特許文献１には、放電加工により作製された、表面の算術平均粗さＲａが０．３〜１．０μｍであり、平均凹凸周期ＲＳｍが５〜３０μｍであるエンボス版を用いて、反射防止層を有するポリマーフィルムの片面を加熱しながら凹凸形成加工して防眩性フィルムを製造する方法が開示されている。

特開２００４−３３３９３６号公報

しかしながら、特許文献１に記載のように、エンボス版を用いて加熱しながら反射防止層を凹凸形成加工すると、反射防止層自体が損傷したり、反射防止層の表面に予め形成された凹凸構造が破損したりして、反射防止層本来の機能（反射防止性）が損なわれることがあった。また、反射防止性の発現が不安定となることで、表面がギラついて見えることもあった。

反射防止フィルムに防眩性を付与する方法として、予め表面を粗面加工して防眩性を付与した基材の加工面に、反射防止層をコーティング法等により形成する方法も考えられる。
しかし、この方法の場合、コーティング液を加工面の凹凸形状に追従するようにコーティングすることは困難であり、凹部に必要以上のコーティング液が充填されてしまう。その結果、凹凸の傾斜が緩やかとなり、所望とする防眩性が発現されにくくなる。

本発明は、防眩性および反射防止性を有する透明基板とその製造方法を提供することを目的とする。

本発明は、以下の態様を有する。
［１］ 透光性を有する基材と、該基材の少なくとも一方の面に設けられた反射防止層と、前記基材と反射防止層との間に設けられた、紫外線硬化性樹脂組成物の半硬化物からなる半硬化物層とを備えた中間積層体の、前記半硬化物層が全硬化した透明基板であって、前記反射防止層の表面に不規則な凹凸構造を有し、かつ前記凹凸構造の表面の算術平均粗さＲａが０．０１〜１．００μｍであり、平均凹凸周期ＲＳｍが１〜３０μｍであり、前記反射防止層は、屈折率が１．４７以下であり、厚さが５０〜２００ｎｍである低屈折率層を最表層に備え、前記半硬化物層のヤング率が０．１〜２．５ＧＰａであり、全硬化後の厚さが１．０〜１０．０μｍであり、前記中間積層体の伸び率が１０５〜１５０％である、透明基板。
［２］ 前記紫外線硬化性樹脂組成物は、３官能以下のウレタンアクリレート、シランカップリング剤および金属キレート化合物を含む、［１］に記載の透明基板。
［３］ 前記紫外線硬化性樹脂組成物は、シリカ粒子をさらに含む、［２］に記載の透明基板。
［４］ 前記紫外線硬化性樹脂組成物は、４官能以上のウレタンアクリレートをさらに含む、［２］または［３］に記載の透明基板。
［５］ 前記反射防止層は、前記基材側から順に、屈折率が１．４７超、１．６５未満であり、厚さが５０〜１２０ｎｍである中屈折率層と、屈折率が１．６０以上であり、かつ中屈折率層の屈折率よりも高く、厚さが５０〜１２０ｎｍである高屈折率層と、前記低屈折率層とを備えた多層構造である、［１］〜［４］のいずれか１つに記載の透明基板。
［６］ 前記基材と半硬化物層との間に、４官能以上のウレタンアクリレートを含み、厚さが５０〜２００ｎｍであるバリア層をさらに備える、［１］〜［５］のいずれか１つに記載の透明基板。

［７］ 工程（ｂ）：透光性を有する基材の少なくとも一方の面に、全硬化後の厚さが１．０〜１０．０μｍとなるように紫外線硬化性樹脂組成物を塗布して半硬化し、基材上に半硬化物層を形成する工程と、工程（ｃ）：前記半硬化物層上に反射防止層を形成し、中間積層体を得る工程と、工程（ｄ）：転写面に不規則な凹凸構造を有し、かつ前記転写面の算術平均粗さＲａが０．０１〜１．２５μｍであり、平均凹凸周期ＲＳｍが１〜３０μｍである転写モールドを用いて、その転写面の凹凸構造を前記中間積層体の反射防止層の表面に転写する工程と、工程（ｅ）：工程（ｄ）の後に、前記半硬化物層を全硬化する工程と、を有し、前記半硬化物層のヤング率が０．１〜２．５ＧＰａであり、前記中間積層体の伸び率が１０５〜１５０％であり、前記工程（ｃ）は、少なくとも下記工程（ｃ−３）を含む、透明基板の製造方法。
工程（ｃ−３）：前記半硬化物層上に、屈折率が１．４７以下であり、厚さが５０〜２００ｎｍである低屈折率層を形成する工程。
［８］ 前記工程（ｂ）において、基材上の紫外線硬化性樹脂組成物に、紫外線を１５０〜５００ｍＪ／ｃｍ^２の積算光量で照射して紫外線硬化性樹脂組成物を半硬化する、［７］に記載の透明基板の製造方法。
［９］ 前記工程（ｄ）において、前記転写モールドを用い、圧力４〜３８ＭＰａ、温度６０〜１５０℃で、前記中間積層体の反射防止層の表面を加圧処理して転写する、［７］または［８］に記載の透明基板の製造方法。
［１０］ 前記工程（ｃ）は、前記工程（ｃ−３）の前に下記工程（ｃ−１）および工程（ｃ−２）をさらに含む、［７］〜［９］のいずれか１つに記載の透明基板の製造方法。
工程（ｃ−１）：前記半硬化物層上に、屈折率が１．４７超、１．６５未満であり、厚さが５０〜１２０ｎｍである中屈折率層を形成する工程。
工程（ｃ−２）：前記中屈折率層上に、屈折率が１．６０以上であり、かつ中屈折率層の屈折率よりも高く、厚さが５０〜１２０ｎｍである高屈折率層を形成する工程。
［１１］ 前記工程（ｂ）の前に、下記工程（ａ）をさらに有する、［７］〜［１０］のいずれか１つに記載の透明基板の製造方法。
工程（ａ）：前記基材上に、４官能以上のウレタンアクリレートを含み、厚さが５０〜２００ｎｍであるバリア層を形成する工程。

本発明の透明基板は、防眩性および反射防止性を有する。
本発明の透明基板の製造方法によれば、防眩性および反射防止性を有する透明基板を製造できる。

本発明の透明基板の一例を示す断面図である。 図１に示す透明基板の製造工程の一例を示す断面図である。 本発明の透明基板の他の例を示す断面図である。

以下、本発明を詳細に説明する。
なお、本明細書における「（メタ）アクリレート」は、アクリレートおよびメタクリレートの総称である。
図１〜３においては、各層を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層ごとに縮尺を異ならせてある。
また、図２、３において、図１と同じ構成要素には同一の符号を付して、その説明を省略する場合がある。

「透明基板」
図１は、本発明の透明基板の一例を示す断面図である。
本実施形態の透明基板１０は、透光性を有する基材１１と、基材１１上に設けられたバリア層１２と、バリア層１２上に設けられた緩衝層１３と、緩衝層１３上に設けられた反射防止層１４とを具備して構成されている。
透明基板１０は、詳しくは後述するが、図２に示すように、基材１１と、基材１１上に設けられたバリア層１２と、バリア層１２上に設けられた、紫外線硬化性樹脂組成物の半硬化物からなる半硬化物層１３ｓと、半硬化物層１３ｓ上に設けられた反射防止層１４とを備えた中間積層体１の、半硬化物層１３ｓが全硬化したものである。すなわち、緩衝層１３は、半硬化物層１３ｓが全硬化したもの（半硬化物層１３ｓの全硬化物）である。

図１に示すように、透明基板１０は、反射防止層１４の表面に不規則な凹凸構造を有している。反射防止層１４の表面に不規則な凹凸構造を有することで、防眩性を発現する。
ここで、「不規則な凹凸構造」とは、形状、寸法などが異なる複数の凹部および凸部が、不規則な配列パターン（間隔）で形成していることを意味する。

凹凸構造の表面の算術平均粗さＲａは、０．０１〜１．００μｍであり、０．０３〜０．５０μｍが好ましい。算術平均粗さＲａが０．０１μｍ以上であれば、充分な防眩性を発現できる。一方、算術平均粗さＲａが１．００μｍ以下であれば、ギラつきが起こりにくい。
また、凹凸構造の表面の算術平均高さＳａは、０．０１〜１．２５μｍが好ましく、０．０３〜０．６０μｍがより好ましい。算術平均高さＳａが０．０１μｍ以上であれば、充分な防眩性を発現できる。一方、算術平均高さＳａが１．２５μｍ以下であれば、ギラつきが起こりにくい。
また、凹凸構造の表面の平均凹凸周期ＲＳｍは、１〜３０μｍであり、５〜１５μｍが好ましい。平均凹凸周期ＲＳｍが１μｍ以上であれば、充分な防眩性を発現できる。一方、平均凹凸周期ＲＳｍが３０μｍ以下であれば、ギラつきが起こりにくい。
本発明において、算術平均粗さＲａ、算術平均高さＳａおよび平均凹凸周期ＲＳｍは、ＩＳＯ ２５１７８によって測定される値であり、市販の表面性状測定機を利用して測定することができる。係る測定器としては、例えば形状解析レーザ顕微鏡などが挙げられる。

＜基材＞
基材１１は、透光性を有するものであり、例えば、波長７５０〜４００ｎｍでの全光線透過率が８５％以上の熱可塑性樹脂からなる。このような透光性を有する熱可塑性樹脂としては、ポリメチルメタクリレートに代表されるアクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリアリルジグリコールカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂等が好適である。
基材１１は、反射防止層１４が形成される側の面が、アクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂またはポリエチレンテレフタレート樹脂により形成されていることが好ましく、従って、ポリカーボネート樹脂とアクリル系樹脂との積層体も、基材１１として好適に使用することができる。

基材１１は、透光性が損なわれない限りにおいて、油溶性染料等によって着色されたものであってよい。
また、基材１１の反射防止層１４が形成される側の面は、基材１１と隣接する層との密着性を向上させる目的で、それ自体公知のプライマーで表面処理されていてもよい。

基材１１の厚さは、凹凸が附形される厚さであれば特に制限されないが、一般的には適度に薄肉であることが好ましく、例えば、３０〜１０００μｍ程度の厚さであることが好ましい。

＜バリア層＞
バリア層１２は、透明基板１０に耐薬品性を付与するものであり、ブレーキオイル等の薬品に透明基板１０が曝されたときに、基材１１が薬品によって膨潤するのを防止する役割を果たす。

バリア層１２は、４官能以上のウレタンアクリレートを含む。４官能以上のウレタンアクリレートは硬化により硬質の部分を形成する。よって、バリア層１２を備える透明基板１０は、高い耐薬品性を有するものとなる。
４官能以上のウレタンアクリレートは、多価イソシアネート化合物と複数の水酸基を有するポリオール化合物との反応物である末端イソシアネート化合物に、さらに水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させて得られるもの（末端イソシアネート化合物と水酸基含有（メタ）アクリレートとの反応物）のうち、（メタ）アクリロイル基を４つ以上有するものである。
例えば、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートを、末端イソシアネート化合物と反応させ、イソシアネート化合物の両末端に、それぞれ２個の（メタ）アクリロイル基を導入したものは、４官能のウレタンアクリレートとして使用される。また、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートを、両末端イソシアネート（例えばトリヘキサジエチレンジイソシアネート）と反応させることにより、分子鎖末端のそれぞれに３個の（メタ）アクリロイル基を導入したものは、６官能のウレタンアクリレートとして使用される。

４官能以上のウレタンアクリレートを構成する多価イソシアネート化合物としては、例えば、エチレンジイソシアネート、プロピレンジイソシアネート、ブチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート類；イソホロンジイソシアネート、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）、ω，ω’−ジイソシネートジメチルシクロヘキサン等の脂環族ジイソシアネート類；トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、α，α，α’，α’−テトラメチルキシリレンジイソシアネート等の芳香環を有する脂肪族ジイソシアネート類などが挙げられる。
これらは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

４官能以上のウレタンアクリレートを構成するポリオール化合物としては、例えば、グリセリン、ジグリセリン、トリグリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ソルビトール、ペンタエリスリトール、ジトリメチロールプロパン、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、アダマンタントリオールなどが挙げられる。
これらは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

４官能以上のウレタンアクリレートを構成する水酸基含有（メタ）アクリレートとしては、例えば、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
これらは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

バリア層１２の伸び率は、後述する半硬化物層１３ｓの伸び率と同じであることが好ましい。
バリア層１２の伸び率は、以下のようにして求められる。
すなわち、基材上にバリア層が形成された試験片について、基材のＴｇ付近まで加温した後、Ｌ字曲げ雄雌型の間に、基材面が凹部側となるように挟み、雄雌型を押し合い冷却する。冷却後、曲げた凸面をマイクロスコープで観察し、クラックの有無を確認する。曲げ半径（曲げＲ）を変えて同様の操作を行い、クラックが発生しなかったときの曲げＲまでの伸び率を算出する。

バリア層１２の厚さは、５０〜２００ｎｍが好ましく、６０〜１５０ｎｍがより好ましい。バリア層１２の厚さが５０ｎｍ以上であれば、充分な硬度と耐薬品性が得られる。バリア層による耐薬品性等の効果は、バリア層が厚くなるほど得られやすくなる傾向にあるが、２００ｎｍを超えると頭打ちとなる。耐薬品性等の効果と、透明基板１０全体の厚さとのバランスの観点から、バリア層１２の厚さ２００ｎｍ以下が好ましい。

＜緩衝層＞
緩衝層１３は、後述する半硬化物層１３ｓが全硬化したもの（半硬化物層１３ｓの全硬化物）である。

（半硬化物層）
半硬化物層１３ｓは、反射防止層１４の表面を凹凸形状に加工する際の緩衝材の役割を果たす。詳しくは後述するが、反射防止層１４の表面の凹凸形状は、転写面に凹凸構造を有する転写モールドを用いて中間積層体１の反射防止層１４の表面に凹凸を附形することにより形成される。中間積層体１が半硬化物層１３ｓを備えることで、反射防止層１４の表面を凹凸形状に加工しても、転写処理時に反射防止層１４に加わる外力を半硬化物層１３ｓが吸収するので、反射防止層１４が損傷するのを防止でき、反射防止層１４の本来の機能（反射防止性）を良好に維持できる。

半硬化物層１３ｓは、紫外線硬化性樹脂組成物の半硬化物からなる。
なお、本発明において「半硬化」とは、紫外線硬化性樹脂組成物が完全に硬化する前の状態であり、さらに硬化反応を進行させることが可能な状態を指す。具体的には、紫外線硬化性樹脂組成物の硬化反応が６０〜９０％完了した状態を指す。

半硬化物層１３ｓのヤング率は、０．１〜２．５ＧＰａであり、０．３〜２．０ＧＰａが好ましく、０．４〜１．５ＧＰａがより好ましい。半硬化物層１３ｓのヤング率が０．１ＧＰａ以上であれば、半硬化物層１３ｓ上への反射防止層の形成が可能であり、反射防止性を保持できる。一方、半硬化物層１３ｓのヤング率が２．５ＧＰａ以下であれば、反射防止層１４の表面を凹凸形状に加工する際（転写処理時）の圧力を充分に吸収できる。
本発明において、ヤング率は、ＪＩＳ Ｋ ７１７１に準拠して温度２３℃、速度１ｍｍ／ｍｉｎの条件で曲げ試験を行い、歪み−応力曲線を描いたときに、該歪み−応力曲線の直線部分の傾きにより表される値である。

半硬化物層１３ｓの伸び率は、１０５〜２００％が好ましく、１０８〜１８０％がより好ましく、１１５〜１６０％がさらに好ましい。半硬化物層１３ｓの伸び率が１０５％以上であれば、反射防止層１４の表面を凹凸形状に加工する際（転写処理時）の圧力をより吸収できる。一方、半硬化物層１３ｓの伸び率が２００％以下であれば、半硬化物層１３ｓ上への反射防止層の形成が可能であり、反射防止性を保持できる。
半硬化物層１３ｓの伸び率は、以下のようにして求められる。
すなわち、基材上に半硬化物層が形成された試験片について、基材のＴｇ付近まで加温した後、Ｌ字曲げ雄雌型の間に、基材面が凹部側となるように挟み、雄雌型を押し合い冷却する。冷却後、曲げた凸面をマイクロスコープで観察し、クラックの有無を確認する。曲げ半径（曲げＲ）を変えて同様の操作を行い、クラックが発生しなかったときの曲げＲまでの伸び率を算出する。

紫外線硬化性樹脂組成物は、３官能以下のウレタンアクリレート、シランカップリング剤および金属キレート化合物を含むことが好ましい。
また、紫外線硬化性樹脂組成物は、シリカ粒子や４官能以上のウレタンアクリレートをさらに含むことがより好ましい。

３官能以下のウレタンアクリレートは、多価イソシアネート化合物と複数の水酸基を有するポリオール化合物との反応物である末端イソシアネート化合物に、さらに水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させて得られるもの（末端イソシアネート化合物と水酸基含有（メタ）アクリレートとの反応物）のうち、（メタ）アクリロイル基を３つ以下有するものである。（メタ）アクリロイル基を１つ有するウレタンアクリレートは１官能（単官能）であり、（メタ）アクリロイル基を２つ有するウレタンアクリレートは２官能であり、（メタ）アクリロイル基を３つ有するウレタンアクリレートは３官能である。
例えば、ペンタエリスリトールモノ（メタ）アクリレートを、末端イソシアネート化合物と反応させ、イソシアネート化合物の両末端に、それぞれ１個の（メタ）アクリロイル基を導入したものは、２官能のウレタンアクリレートとして使用される。また、ペンタエリスリトールモノ（メタ）アクリレートとペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートとを、末端イソシアネート化合物と反応させ、イソシアネート化合物の一方の末端に１個の（メタ）アクリロイル基を導入し、他方の末端に２個の（メタ）アクリロイル基を導入したものは、３官能のウレタンアクリレートとして使用される。

３官能以下のウレタンアクリレートを構成する多価イソシアネート化合物およびポリオール化合物としては、４官能以上のウレタンアクリレートの説明において先に例示した多価イソシアネート化合物およびポリオール化合物が挙げられる。

３官能以下のウレタンアクリレートを構成する水酸基含有（メタ）アクリレートとしては、例えば、ペンタエリスリトールモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、フェニルグリシジルエーテル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
これらは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

４官能以上のウレタンアクリレートとしては、バリア層１２の説明において先に例示した４官能以上のウレタンアクリレートが挙げられる。

３官能以下のウレタンアクリレートは硬化により比較的柔軟性に富んだ部分を形成し、４官能以上のウレタンアクリレートは硬化により硬質の部分を形成するものであり、両者を併用することにより、適度に緻密で硬度の緩衝層１３を形成することができる。
紫外線硬化性樹脂組成物に含まれる全てのウレタンアクリレートの総質量に対し、３官能以下のウレタンアクリレートの含有量は５質量％以上が好ましく、４官能以上のウレタンアクリレートの含有量は９５質量％以下が好ましい。３官能以下のウレタンアクリレートの含有量が５質量％以上であれば、半硬化物層１３ｓと基材１１との密着性が高まり、半硬化物層１３ｓの基材１１に対する追随性が損なわれにくくなる。その結果、透明基板１０を加圧附形する際に割れ等が生じにくくなる。また、紫外線硬化性樹脂組成物がシリカ粒子を含有する場合、シリカ粒子の脱落を抑制できる。一方、４官能以上のウレタンアクリレートの含有量が９５質量％以下であれば、緩衝層１３の硬度を良好に維持できる。
３官能以下のウレタンアクリレートの含有量は、５〜１００質量％が好ましく、１２〜９０質量％がより好ましく、４官能以上のウレタンアクリレートの含有量は０〜９５質量％が好ましく、１０〜８８質量％がより好ましい。

シランカップリング剤は、基材１１や反射防止層１４との密着性を高める成分である。また、紫外線硬化性樹脂組成物がシリカ粒子を含有する場合、シリカ粒子の脱落を抑制し、安定に分散させて保持させる成分でもある。
シランカップリング剤としては、下記一般式（１）で表される化合物が挙げられる。
Ｒ^１ _ｎ−Ｓｉ（ＯＲ^２）_４−ｎ ・・・（１）
式（１）中、Ｒ^１はアルキル基またはアルケニル基であり、Ｒ^２はアルキル基、アルコキシアルキル基、アシルオキシ基またはハロゲン原子であり、ｎは１または２の数である。

Ｒ^１としては、メチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基、ビニル基等のアルケニル基が挙げられ、このアルキル基は、塩素等のハロゲン原子、メルカプト基、アミノ基、（メタ）アクリロイル基、オキシラン環含有基等の官能基で置換されていてもよい。
Ｒ^２は、アルキル基、アルコキシアルキル基、アシルオキシ基またはハロゲン原子であり、ケイ素原子に結合しているＯＲ^２は加水分解性の基となっている。

式（１）で表される化合物としては、例えば、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アニリノプロピルトリメトキシシラン、γ−（Ｎ−スチリルメチル−β−アミノエチルアミノ）プロピルトリメトキシシラン塩酸塩、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシランなどが挙げられる。
これらは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

このようなシランカップリング剤は、加水分解と同時に重縮合し、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合によりネットワーク状に連なった重合物を形成する。従って、このようなシランカップリング剤の使用により、緩衝層１３を緻密なものとすることもできる。
なお、半硬化物層１３ｓおよび緩衝層１３中において、シランカップリング剤の少なくとも一部は、加水分解物として存在する。

シランカップリング剤の含有量は、紫外線硬化性樹脂組成物に含まれる全てのウレタンアクリレート１００質量部に対して、１〜３０質量部が好ましく、１０〜１５質量部がより好ましい。シランカップリング剤の含有量が１質量部以上であれば、基材１１や反射防止層１４との密着性が高まり、半硬化物層１３ｓや緩衝層１３が剥がれるのを抑制できる。一方、シランカップリング剤の含有量が３０質量部以下であれば、半硬化物層１３ｓの基本的性能（反射防止層１４に加わる外力の吸収）を充分に発揮できる。

金属キレート化合物は、半硬化物層１３ｓ中に架橋構造を導入し、半硬化物層１３ｓや緩衝層１３をより緻密なものとするために使用される。上述した３官能以下のウレタンアクリレートは柔軟性を付与するものの、緻密性を低下させやすい。金属キレート化合物は、半硬化物層１３ｓの柔軟性を損なうことなく緻密性の低下を補うものである。換言すると、金属キレート化合物は膜の緻密性に影響される硬度等の機械的特性を調整するために使用されるものである。特に、後述する反射防止層１４も金属キレート化合物を含んでいれば、半硬化物層１３ｓや緩衝層１３と反射防止層１４との密着性がより高められ、透明基板１０を加圧附形する際の割れ等を有効に防止することができる。

金属キレート化合物としては、二座配位子を含むチタン、ジルコニウム、アルミニウム、スズ、ニオブ、タンタル、鉛の化合物が好適である。
二座配位子とは、配位座数が２、すなわち金属に配位しうる原子数が２であるようなキレート剤であり、一般にＯ、Ｎ、Ｓ原子によって５〜７員環を形成して、キレート化合物を形成する。これらの二座配位子の例として、アセチルアセトナト、エチルアセトアセタト、ジエチルマロナト、ジベンゾイルメタナト、サリチラト、グリコラト、カテコラト、サリチルアルデヒダト、オキシアセトフェノナト、ビフェノラト、ピロメコナト、オキシナフトキノナト、オキシアントラキノナト、トロポロナト、ビノキチラト、グリシナト、アラニナト、アントロニナト、ピコリナト、アミノフェノラト、エタノールアミナト、メルカプトエチルアミナト、８−オキシキノリナト、サリチルアルジミナト、ベンゾインオキシマト、サリチルアルドキシマト、オキシアゾベンゼナト、フェニルアゾナフトラト、β−ニトロソ−α−ナフトラト、ジアゾアミノベンゼナト、ビウレタト、ジフェニルカルバゾナト、ジフェニルチオカルバゾナト、ビグアニダト、ジメチルグリオキシマトなどが挙げられる。

金属キレート化合物としては、下記一般式（２）で表される化合物が好ましい。
Ｍ^１（Ｌｉ）_ｋ（Ｘ）_ｍ−ｋ ・・・（２）
式（２）中、Ｍ^１はチタン、ジルコニウム、アルミニウム、スズ、ニオブ、タンタルまたは鉛であり、Ｌｉは二座配位子であり、Ｘは１価の基であり、ｍはＭ^１の原子価であり、ｋはＭ^１の原子価を超えない範囲で１以上の数である。

Ｍ^１としては、チタン、ジルコニウム、アルミニウムが好ましい。
Ｘとしては、加水分解可能な基が好ましく、その中でも特にアルコキシ基が好ましい。

式（２）で表される金属キレート化合物としては、例えば、Ｔｉキレート化合物、Ｚｒキレート化合物、Ａｌキレート化合物などが挙げられる。
Ｔｉキレート化合物の具体例としては、トリエトキシ・モノ（アセチルアセトナト）チタン、トリ−ｎ−プロポキシ・モノ（アセチルアセトナト）チタン、トリ−ｉ−プロポキシ・モノ（アセチルアセトナト）チタン、トリ−ｎ−ブトキシ・モノ（アセチルアセトナト）チタン、トリ−ｓｅｃ−ブトキシ・モノ（アセチルアセトナト）チタン、トリ−ｔ−ブトキシ・モノ（アセチルアセトナト）チタン、ジエトキシ・ビス（アセチルアセトナト）チタン、ジ−ｎ−プロポキシ・ビス（アセチルアセトナト）チタン、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセトナト）チタン、ジ−ｎ−ブトキシ・ビス（アセチルアセトナト）チタン、ジ−ｓｅｃ−ブトキシ・ビス（アセチルアセトナト）チタン、ジ−ｔ−ブトキシ・ビス（アセチルアセトナト）チタン、モノエトキシ・トリス（アセチルアセトナト）チタン、モノ−ｎ−プロポキシ・トリス（アセチルアセトナト）チタン、モノ−ｉ−プロポキシ・トリス（アセチルアセトナト）チタン、モノ−ｎ−ブトキシ・トリス（アセチルアセトナト）チタン、モノ−ｓｅｃ−ブトキシ・トリス（アセチルアセトナト）チタン、モノ−ｔ−ブトキシ・トリス（アセチルアセトナト）チタン、テトラキス（アセチルアセトナト）チタン、トリエトキシ・モノ（エチルアセトアセタト）チタン、トリ−ｎ−プロポキシ・モノ（エチルアセトアセタト）チタン、トリ−ｉ−プロポキシ・モノ（エチルアセトアセタト）チタン、トリ−ｎ−ブトキシ・モノ（エチルアセトアセタト）チタン、トリ−ｓｅｃ−ブトキシ・モノ（エチルアセトアセタト）チタン、トリ−ｔ−ブトキシ・モノ（エチルアセトアセタト）チタン、ジエトキシ・ビス（エチルアセトアセタト）チタン、ジ−ｎ−プロポキシ・ビス（エチルアセトアセタト）チタン、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（エチルアセトアセタト）チタン、ジ−ｎ−ブトキシ・ビス（エチルアセトアセタト）チタン、ジ−ｓｅｃ−ブトキシ・ビス（エチルアセトアセタト）チタン、ジ−ｔ−ブトキシ・ビス（エチルアセトアセタト）チタン、モノエトキシ・トリス（エチルアセトアセタト）チタン、モノ−ｎ−プロポキシ・トリス（エチルアセトアセタト）チタン、モノ−ｉ−プロポキシ・トリス（エチルアセトアセタト）チタン、モノ−ｎ−ブトキシ・トリス（エチルアセトアセタト）チタン、モノ−ｓｅｃ−ブトキシ・トリス（エチルアセトアセタト）チタン、モノ−ｔ−ブトキシ・トリス（エチルアセトアセタト）チタン、テトラキス（エチルアセトアセタト）チタン、モノ（アセチルアセトナト）トリス（エチルアセトアセタト）チタン、ビス（アセチルアセトナト）ビス（エチルアセトアセタト）チタン、トリス（アセチルアセトナト）モノ（エチルアセトアセタト）チタンなどが挙げられる。
これらは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

Ｚｒキレート化合物の具体例としては、トリエトキシ・モノ（アセチルアセトナト）ジルコニウム、トリ−ｎ−プロポキシ・モノ（アセチルアセトナト）ジルコニウム、トリ−ｉ−プロポキシ・モノ（アセチルアセトナト）ジルコニウム、トリ−ｎ−ブトキシ・モノ（アセチルアセトナト）ジルコニウム、トリ−ｓｅｃ−ブトキシ・モノ（アセチルアセトナト）ジルコニウム、トリ−ｔ−ブトキシ・モノ（アセチルアセトナト）ジルコニウム、ジエトキシ・ビス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、ジ−ｎ−プロポキシ・ビス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシ・ビス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、ジ−ｓｅｃ−ブトキシ・ビス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、ジ−ｔ−ブトキシ・ビス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、モノエトキシ・トリス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、モノ−ｎ−プロポキシ・トリス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、モノ−ｉ−プロポキシ・トリス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、モノ−ｎ−ブトキシ・トリス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、モノ−ｓｅｃ−ブトキシ・トリス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、モノ−ｔ−ブトキシ・トリス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、テトラキス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、トリエトキシ・モノ（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、トリ−ｎ−プロポキシ・モノ（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、トリ−ｉ−プロポキシ・モノ（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、トリ−ｎ−ブトキシ・モノ（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、トリ−ｓｅｃ−ブトキシ・モノ（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、トリ−ｔ−ブトキシ・モノ（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、ジエトキシ・ビス（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、ジ−ｎ−プロポキシ・ビス（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシ・ビス（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、ジ−ｓｅｃ−ブトキシ・ビス（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、ジ−ｔ−ブトキシ・ビス（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、モノエトキシ・トリス（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、モノ−ｎ−プロポキシ・トリス（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、モノ−ｉ−プロポキシ・トリス（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、モノ−ｎ−ブトキシ・トリス（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、モノ−ｓｅｃ−ブトキシ・トリス（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、モノ−ｔ−ブトキシ・トリス（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、テトラキス（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、モノ（アセチルアセトナト）トリス（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、ビス（アセチルアセトナト）ビス（エチルアセトアセタト）ジルコニウム、トリス（アセチルアセトナト）モノ（エチルアセトアセタト）ジルコニウムなどが挙げられる。
これらは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

Ａｌキレート化合物の具体例としては、ジエトキシ・モノ（アセチルアセトナト）アルミニウム、モノエトキシ・ビス（アセチルアセトナト）アルミニウム、ジ−ｉ−プロポキシ・モノ（アセチルアセトナト）アルミニウム、モノ−ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセトナト）アルミニウム、モノ−ｉ−プロポキシ・ビス（エチルアセトアセタト）アルミニウム、モノエトキシ・ビス（エチルアセトアセタト）アルミニウム、ジエトキシ・モノ（エチルアセトアセタト）アルミニウム、ジ−ｉ−プロポキシ・モノ（エチルアセトアセタト）アルミニウムなどが挙げられる。
これらは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

金属キレート化合物の含有量は、紫外線硬化性樹脂組成物に含まれる全てのウレタンアクリレート１００質量部に対して、０．１〜３．０質量部が好ましく、０．５〜１．５質量部がより好ましい。金属キレート化合物の含有量が上記範囲内であれば、反射防止層１４との密着性が向上する。

シリカ粒子は、反射防止層１４との密着性を高めるとともに、透明基板１０を加圧附形する際の緩衝層１３や反射防止層１４の割れ等を効果的に抑制する成分である。
紫外線硬化性樹脂組成物に含まれるシリカ粒子としては、中実のコロイダルシリカ（中実シリカゾル）を用いることができる。ここで、「中実」とは、密度が１．９ｇ／ｃｍ^３以上を意味する。

中実シリカゾルの平均粒子径は５〜５００ｎｍが好ましい。中実シリカゾルの平均粒子径が上記範囲内であれば、半硬化物層１３ｓの全体にわたって、硬度等の特性を均一に付与できる。
中実シリカゾルの屈折率は、１．４４〜１．５０が好ましい。中実シリカゾルの屈折率が上記範囲内であれば、半硬化物層１３ｓの全体にわたって、硬度等の特性を均一に付与できる。

中実シリカゾルは、例えば中実シリカ粒子をイソプロパノールやメチルイソブチルケトンなどの有機溶媒に分散させたゾルの形で市販されている。

シリカ粒子の含有量は、紫外線硬化性樹脂組成物に含まれる全てのウレタンアクリレート１００質量部に対して、８０質量部以下が好ましく、１０〜６０質量部がより好ましく、２０〜５０質量部がさらに好ましい。シリカ粒子の含有量が上記範囲内であれば、半硬化物層１３ｓの基本特性を維持しつつ、反射防止層１４との密着性を高め、透明基板１０を加圧附形する際の割れ等を有効に防止することができる。

半硬化物層１３ｓの全硬化後の厚さ、すなわち緩衝層１３の厚さは１．０〜１０．０μｍであり、１．２〜８．５μｍが好ましく、１．５〜５．０μｍがより好ましく、１．５〜３．０μｍがさらに好ましい。半硬化物層１３ｓの全硬化後の厚さが１．０μｍ以上であれば、半硬化物層１３ｓの基本的性能（反射防止層１４に加わる外力の吸収）を充分に発揮できる。一方、半硬化物層１３ｓの全硬化後の厚さが１０．０μｍ以下であれば、基材１１との物性差（例えば柔軟性や伸び）が大きくなるのを抑制でき、転写により凹凸を附形する際の割れ等を有効に防止することができる。また、転写モールドの転写面の凹凸構造を充分に転写できる（すなわち、転写率が高い）。

＜反射防止層＞
反射防止層１４は、屈折率が１．４７以下であり、厚さが５０〜２００ｎｍである低屈折率層１４ａを最表層に備える。図１、２に示す反射防止層１４は単層構造であり、低屈折率層１４ａのみで構成されている。

低屈折率層１４ａは、シリカ粒子と、シランカップリング剤またはその加水分解物と、金属キレート化合物とを含有することが好ましい。このような構成とすることで、シランカップリング剤またはその加水分解物がバインダーとなって微細なシリカ粒子を保持する。また、緩衝層１３に使用されているシランカップリング剤またはその加水分解物を用いて低屈折率層１４ａを形成すれば、緩衝層１３との間に高い密着性が確保され、転写により凹凸を附形する際の成形不良を有効に防止することができる。

シリカ粒子は、緩衝層１３との物性調整のために使用されるものである。
低屈折率層１４ａに含まれるシリカ粒子としては、中空のコロイダルシリカ（中空シリカゾル）を用いることができる。ここで、「中空」とは、密度が１．５ｇ／ｃｍ^３以下を意味する。

中空シリカゾルの平均粒子径は１０〜１５０ｎｍが好ましい。中空シリカゾルの平均粒子径が上記範囲内であれば、基材１１の透光性を損なうことなく、一定の強度および硬度を確保し、耐傷付性等の特性を付与できる。
中空シリカゾルの屈折率は、１．４４未満が好ましい。中空シリカゾルの屈折率が上記範囲内であれば、基材１１の透光性を損なうことなく、一定の強度および硬度を確保し、耐傷付性等の特性を付与できる。

中空シリカゾルは、例えばテンプレートとなる界面活性剤の存在下でシリカを合成し、最後に焼成を行って界面活性剤を分解除去することにより製造され、イソプロパノールやメチルイソブチルケトンなどの有機溶媒に分散させたゾルの形で市販されている。

シランカップリング剤および金属キレート化合物としては、半硬化物層１３ｓの説明において先に例示したシランカップリング剤および金属キレート化合物が挙げられる。

シリカ粒子と、シランカップリング剤またはその加水分解物と、金属キレート化合物との合計の総質量に対して、シリカ粒子の含有量は５〜５０質量％が好ましく、シランカップリング剤またはその加水分解物の含有量は１５〜９４質量％が好ましく、金属キレート化合物の含有量は１〜３５質量％が好ましい。

低屈折率層１４ａの厚さは、５０〜２００ｎｍである。低屈折率層１４ａの厚さが上記範囲内であれば、充分な反射防止性が得られる。特に、低屈折率層１４ａの厚さが５０ｎｍ以上であれば、強度等の特性を良好に維持でき、透明基板１０を加圧附形する際に破断等が生じにくい。一方、低屈折率層１４ａの厚さが２００ｎｍ以下であれば、柔軟性を良好に維持できる。よって、例えば基材１１との物性差が大きくなりにくく、転写により凹凸を附形する際の割れ等の成形不良が生じにくくなる。

＜中間積層体＞
中間積層体１の伸び率は、１０５〜１５０％であり、１１０〜１３０％がより好ましい。中間積層体１の伸び率が１０５％以上であれば、転写により反射防止層１４の表面に凹凸を附形しても、転写処理時に反射防止層１４に加わる外力を半硬化物層１３ｓが効果的に吸収するので、反射防止層１４が損傷するのを防止でき、反射防止層１４の本来の機能（反射防止性）を良好に維持できる。一方、中間積層体１の伸び率が１５０％以下であれば、充分な凹凸形状の附形が可能である。
中間積層体１の伸び率は、半硬化物層１３ｓの伸び率や、後述する工程（ｂ）における紫外線の積算光量などにより調整できる。
中間積層体１の伸び率は、以下のようにして求められる。
すなわち、中間積層体について、基材のＴｇ付近まで加温した後、Ｌ字曲げ雄雌型の間に、基材面が凹部側となるように挟み、雄雌型を押し合い冷却する。冷却後、曲げた凸面をマイクロスコープで観察し、クラックの有無を確認する。曲げ半径（曲げＲ）を変えて同様の操作を行い、クラックが発生しなかったときの曲げＲまでの伸び率を算出する。

＜製造方法＞
図１に示す透明基板１０の製造方法の一例について、図２を参照しながら説明する。
本実施形態の透明基板１０の製造方法は、下記工程（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）を有する。
工程（ａ）：透光性を有する基材の一方の面に、４官能以上のウレタンアクリレートを含み、厚さが５０〜２００ｎｍであるバリア層を形成する工程。
工程（ｂ）：透光性を有する基材の一方の面に形成されたバリア層上に、全硬化後の厚さが１．０〜１０．０μｍとなるように紫外線硬化性樹脂組成物を塗布して半硬化し、基材上に半硬化物層を形成する工程。
工程（ｃ）：前記半硬化物層上に反射防止層を形成し、中間積層体を得る工程。
工程（ｄ）：転写面に不規則な凹凸構造を有し、かつ前記転写面の算術平均粗さＲａが０．０１〜１．２５μｍであり、平均凹凸周期ＲＳｍが１〜３０μｍである転写モールドを用いて、その転写面の凹凸構造を前記中間積層体の反射防止層の表面に転写する工程。
工程（ｅ）：工程（ｄ）の後に、前記半硬化物層を全硬化する工程。

（工程（ａ））
工程（ａ）は、透光性を有する基材１１の一方の面に、４官能以上のウレタンアクリレートを含み、厚さが５０〜２００ｎｍであるバリア層１２を形成する工程である。
バリア層１２は、バリア層用のコーティング液を基材１１の一方の面に塗布し、硬化することで形成される。

バリア層用のコーティング液の塗布は、薄膜形成の容易なディッピング法が好適に使用できる。
バリア層用のコーティング液の硬化は、紫外線の照射により行われる。紫外線の積算光量は、１５０〜５００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましい。

バリア層用のコーティング液は、４官能以上のウレタンアクリレートを含み、必要に応じて、光重合開始剤と、溶剤とを含有してもよい。
光重合開始剤としては、例えば１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、キサントン、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベゾフェノン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オンなどが挙げられる。
溶剤としては、例えばメタノール、イソプロパノール等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；酢酸イソブチル等のエステル類；トルエン等の芳香族炭化水素類などが挙げられる。
これら光重合開始剤および溶剤は、それぞれ１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

（工程（ｂ））
工程（ｂ）は、透光性を有する基材１１の一方の面に形成されたバリア層１２上に、全硬化後の厚さが１．０〜１０．０μｍとなるように紫外線硬化性樹脂組成物を塗布して半硬化し、基材１１上に半硬化物層１３ｓを形成する工程である。
工程（ｂ）においては、基材１１上の紫外線硬化性樹脂組成物に、紫外線を１５０〜５００ｍＪ／ｃｍ^２の積算光量で照射して紫外線硬化性樹脂組成物を半硬化することが好ましい。なお、紫外線硬化性樹脂組成物を「緩衝層用のコーティング液」ともいう。

紫外線硬化性樹脂組成物は、３官能以下のウレタンアクリレート、シランカップリング剤および金属キレート化合物を含むことが好ましく、シリカ粒子（特に中実シリカゾルが好ましい。）や４官能以上のウレタンアクリレートをさらに含むことがより好ましい。また、紫外線硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、光重合開始剤、紫外線吸収剤、溶剤などを含有してもよい。
紫外線吸収剤としては、例えば２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシ、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（１−メチル−１−フェニルエチル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール等のベンゾトリアゾール系；２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（オクチルオキシ）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系；２−［４，６−ジ（２，４−キシリル）−１，３，５−トリアジン−２−イル］−５−オクチルオキシフェノール、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル］−６−（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３−５−トリアジン等のトリアジン系；上記紫外線吸収剤とアクリルモノマーと共重合させた３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシフェネチル＝メタクリラート、２−［２−ヒドロキシ−５−［２−（メタクリロイルオキシ）エチル］フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール等の高分子型；酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化チタン等の無機系などが挙げられる。これらは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
光重合開始剤および溶剤としては、バリア層用のコーティング液の説明において先に例示した光重合開始剤および溶剤が挙げられる。

また、紫外線硬化性樹脂組成物は、例えばシランカップリング剤等の加水分解を促進するために、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸等の酸の水溶液を含有してもよい。

工程（ｂ）により形成された半硬化物層１３ｓのヤング率が０．１〜２．５ＧＰａである。また、半硬化物層１３ｓの伸び率は１０５〜２００％が好ましい。

（工程（ｃ））
工程（ｃ）は、半硬化物層１３ｓ上に反射防止層１４を形成し、中間積層体１を得る工程である。工程（ｃ）は、下記工程（ｃ−３）を含む。
工程（ｃ−３）：半硬化物層１３ｓ上に、屈折率が１．４７以下であり、厚さが５０〜２００ｎｍである低屈折率層１４ａを形成する工程。

低屈折率層１４ａは、低屈折率層用のコーティング液を半硬化物層１３ｓ上に塗布し、硬化することで形成される。
低屈折率層用のコーティング液の硬化は、加熱処理により行われる。加熱温度は、７０〜１１０℃が好ましい。

低屈折率層用のコーティング液は、シリカ粒子（特に中空シリカゾルが好ましい。）、シランカップリング剤および金属キレート化合物を含むことが好ましく、必要に応じて溶剤を含有してもよい。
溶剤としては、バリア層用のコーティング液の説明において先に例示した溶剤が挙げられる。

また、低屈折率層用のコーティング液は、例えばシランカップリング剤等の加水分解を促進するために、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸等の酸の水溶液を含有してもよい。

工程（ｃ）により得られる中間積層体１の伸び率は１０５〜１５０％である。

（工程（ｄ））
工程（ｄ）は、転写面３０ａに不規則な凹凸構造を有し、かつ前記転写面３０ａの算術平均粗さＲａが０．０１〜１．２５μｍであり、平均凹凸周期ＲＳｍが１〜３０μｍである転写モールド３０を用いて、その転写面３０ａの凹凸構造を前記中間積層体１の反射防止層１４の表面に転写する工程である。
転写モールド３０の転写面の算術平均高さＳａは０．０１〜１．６μｍが好ましい。
転写に際しては、圧力４〜３８ＭＰａ、温度６０〜１５０℃で、中間積層体１の反射防止層１４の表面を加圧処理することが好ましい。転写時の圧力や温度が上記範囲内であれば、転写モールドの転写面の凹凸構造を充分に転写できる（すなわち、転写率が高い）。その結果、表面の算術平均粗さＲａが０．０１〜１．００μｍであり、平均凹凸周期ＲＳｍが１〜３０μｍである凹凸構造を有する透明基板１０が得られやすくなる。特に、基材１１の材質がポリカーボネート樹脂の場合、転写時の温度は９０〜１５０℃が好ましく、ポリメチルメタクリレートの場合は９０〜１２０℃が好ましい。転写時の圧力は１０〜３５ＭＰａが好ましい。

転写モールド３０は、例えば以下のようにして製造できる。
銀粒子を含むポジ型フォトレジストをガラス基板上に塗布した後、焼成し、室温まで冷却して紫外線を照射する。次いで、無機アルカリ溶液を用いて現像した後、ニッケルにより導電化し、さらに電気鋳造を行い、モールド基型を得る。モールド基型をガラス基板から剥離して、表面に付着している銀粒子を除去し、電気鋳造により形状を反転させ、転写モールド３０を得る。
転写面３０ａの算術平均粗さＲａおよび平均凹凸周期ＲＳｍは、ポジ型フォトレジストに含まれる銀粒子の粒子径や含有量などにより調整できる。

また、転写モールド３０は、上述した方法以外にも、例えばブラスト法、放電加工法、エッチング法などによっても製造できる。

工程（ｄ）により、反射防止層１４の表面に転写モールド３０の転写面３０ａの凹凸構造が転写される。転写時の圧力が高いほど、図２に示すように、反射防止層１４に加えて、半硬化物層１３ｓ、バリア層１２および基材１１の表面も凹凸構造となりやすい。

（工程（ｅ））
工程（ｅ）は、工程（ｄ）の後に、前記半硬化物層１３ｓを全硬化する工程である。
半硬化物層１３ｓの全硬化は、紫外線の照射により行われる。紫外線の積算光量は、８００〜１２００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましい。

工程（ｅ）により、半硬化物層１３ｓが緩衝層１３となり、透明基板１０が得られる。

＜作用効果＞
以上説明した本発明の透明基板は、最表層に上述した低屈折率層を有する反射防止層を備えるので、反射防止性を有する。しかも、本発明の透明基板は、反射防止層の表面に不規則な凹凸構造を有し、かつ前記凹凸構造の表面の算術平均粗さＲａが０．０１〜１．００μｍであり、平均凹凸周期ＲＳｍが１〜３０μｍであることから、防眩性も有する。
本発明の透明基板は、防眩性の指標であるグロス値が大きくなりにくく、具体的にはグロス値が５．０〜３８．５ＧＵとなりやすく、かつ反射防止性の指標であるヘイズ値が０．５〜１０．０％となりやすい。透明基板のグロス値は５．０〜３５．０ＧＵが好ましく、透明基板のヘイズ値は０．８〜８．０％が好ましい。

また、本発明の透明基板の製造方法によれば、伸び率が１０５〜１２０％である中間積層体の反射防止層の表面に、転写モールドを用いて凹凸構造を転写し、凹凸を附形する。中間積層体は、基材と反射防止層との間に、反射防止層に隣接して半硬化物層が設けられているため、転写処理時に反射防止層に加わる外力を半硬化物層が効果的に吸収する。よって、反射防止層が損傷するのを防止しつつ、反射防止層の表面に凹凸構造を形成できるので、反射防止層の本来の機能（反射防止性）を良好に維持しつつ、防眩性も有する透明基板が得られる。
加えて、本発明の透明基板の製造方法であれば、工程（ｄ）において転写時の温度や圧力等の条件を変更することでも、転写により附形される凹凸構造の表面の算術平均粗さＲａ、算術平均高さＳａ、平均凹凸周期ＲＳｍを調整できる。よって、同一の転写モールドから凹凸構造の異なる透明基板を複数製造できる。

＜用途＞
本発明の透明基板は、例えば、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）等の画像表示装置の表示面の全面パネル、自動車のメーターパネル、ナビゲーションパネルなどに設けられる反射防止基材として好適である。

「他の実施形態」
本発明の透明基板は、上述したものに限定されない。
図１、２に示す透明基板１０の反射防止層１４は、低屈折率層１４ａからなる単層構造であるが、例えば図３に示すように、反射防止層１４は、基材１１側から順に、屈折率が１．４７超、１．６５未満であり、厚さが５０〜１２０ｎｍである中屈折率層１４ｃと、屈折率が１．６０以上であり、かつ中屈折率層の屈折率よりも高く、厚さが５０〜１２０ｎｍである高屈折率層１４ｂと、低屈折率層１４ａとを備えた多層構造（３層構造）であってもよい。反射防止層１４が低屈折率層１４ａに加えて中屈折率層１４ｃおよび高屈折率層１４ｂを併有すれば、反射防止性がより高まる。

中屈折率層１４ｃおよび高屈折率層１４ｂは、所定の屈折率を確保するために、コロイド状金属酸化物（金属酸化物ゾル）を含有することが好ましく、さらに、金属酸化物微粒子を結着固定するバインダー成分として、シランカップリング剤またはその加水分解物や金属酸化物を形成する金属アルコキシド、緩衝層１３や低屈折率層１４ａの形成に使用されている金属キレート化合物を含有してもよい。

コロイド状金属酸化物（金属酸化物ゾル）としては、酸化チタンゾル、アルミナゾル、酸化ジルコニウムゾル、酸化アンチモンゾルなどが挙げられる。これらの中でも、屈折率の調整の点や有機溶媒への分散性、コーティング液の安定性、さらには基材１１への密着性を考慮すると、ルチル型の酸化チタン（チタニア）ゾル、酸化ジルコニウムゾルが好ましい。

また、シランカップリング剤またはその加水分解物としては、前記一般式（１）で表される化合物またはその加水分解物を挙げることができる。特に、他の層に対する密着性や耐溶剤性に優れているという観点から、下記一般式（３）で表される化合物またはその加水分解物が好ましい。
Ｅｐ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−Ｒ^３−Ｓｉ（ＯＲ^４）_３ ・・・（３）
式（３）中、Ｅｐはエポキシ基であり、Ｒ^３はアルキレン基であり、Ｒ^４はアルキル基またはアルコキシアルキル基である。

式（３）で表される化合物としては、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。

金属アルコキシドとしては、下記一般式（４）で表される化合物が挙げられる。
Ｍ^２（ＯＲ^５）_ｓ ・・・（４）
式（４）中、Ｍ^２は３価または４価の金属であり、Ｒ^５は炭素数１〜５の炭化水素基であり、ｓはＭ^２の原子価（３または４）である。

式（４）で表される化合物としては、例えば、チタン、アルミニウム、ジルコニウム、スズのアルコキシドが好適であり、具体的には、チタンメトキサイド、チタンエトキサイド、チタンｎ−プロポキサイド、チタンイソプロポキサイド、チタンｎ−ブトキサイド、チタンイソブトキサイド、アルミニウムエトキサイド、アルミニウムイソプロポキシド、アルミニウムプトキシド、アルミニウムｔ−プトキサイド、スズｔ−プトキサイド、ジルコニウムエトキサイド、ジルコニウムｎ−プロポキサイド、ジルコニウムイソプロポキサイド、ジルコニウムｎ−ブトキサイドなどが挙げられる。
これらは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

中屈折率層１４ｃおよび高屈折率層１４ｂ（特に、高屈折率層１４ｂ）には、屈折率を高める目的で、金属ハライドを含有させることもできる。
金属ハライドとしては、例えば、金属塩化物、金属臭化物が使用され、具体的には、三塩化アンチモン、四塩化ジルコニウム、三塩化ビスマス、四臭化チタン、四塩化ゲルマニウム、三臭化アンチモン、五塩化タンタルなどが挙げられるが、高屈折率化の点や有機溶媒への分散性、コーティング液の安定性を考慮すると、三塩化アンチモン、三塩化ビスマス、三臭化アンチモンが好ましい。

さらに、中屈折率層１４ｃおよび高屈折率層１４ｂには、バインダーとして熱硬化性樹脂を適宜含有させることができる。
熱硬化性樹脂としては、例えば、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、フラン−ホルムアルデヒド樹脂、キシレン−ホルムアルデヒド樹脂、ケトン−ホルムアルデヒド樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂、アルキド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ビスマレイミド樹脂、トリアリルシアヌレート樹脂、熱硬化性アクリル樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられる。
これらは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

中屈折率層１４ｃおよび高屈折率層１４ｂの厚さは、それぞれ５０〜１２０ｎｍが好ましい。

図３に示す透明基板２０は、例えば、上述した透明基板１０の製造方法の前記工程（ｃ）において、前記工程（ｃ−３）の前に下記工程（ｃ−１）および工程（ｃ−２）を行うことで製造できる。すなわち、透明基板２０の製造方法は、前記工程（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）を有し、工程（ｃ）は、工程（ｃ−１）、工程（ｃ−２）および工程（ｃ−３）を含む。
工程（ｃ−１）：前記半硬化物層上に、屈折率が１．４７超、１．６５未満であり、厚さが５０〜１２０ｎｍである中屈折率層を形成する工程。
工程（ｃ−２）：前記中屈折率層上に、屈折率が１．６０以上であり、かつ中屈折率層の屈折率よりも高く、厚さが５０〜１２０ｎｍである高屈折率層を形成する工程。

中屈折率層１４ｃは、中屈折率層用のコーティング液を半硬化物層１３ｓ上に塗布し、硬化することで形成される。
高屈折率層１４ｂは、高屈折率層用のコーティング液を中屈折率層１４ｃ上に塗布し、硬化することで形成される。
低屈折率層１４ａは、低屈折率層用のコーティング液を高屈折率層１４ｂ上に塗布し、硬化することで形成される。
中屈折率層用のコーティング液、高屈折率層用のコーティング液および低屈折率層用のコーティング液の硬化は、加熱処理により行われる。加熱温度は、７０〜１１０℃が好ましい。

中屈折率層用のコーティング液および高屈折率層用のコーティング液は、それぞれコロイド状金属酸化物（金属酸化物ゾル）、シランカップリング剤またはその加水分解物、金属アルコキシド、金属キレート化合物を含むことが好ましく、必要に応じて金属ハライド、熱硬化性樹脂、溶剤等を含有してもよい。
溶剤としては、バリア層用のコーティング液の説明において先に例示した溶剤が挙げられる。

また、中屈折率層用のコーティング液および高屈折率層用のコーティング液は、例えばシランカップリング剤等の加水分解を促進するために、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸等の酸の水溶液を含有してもよい。

なお、反射防止層１４は、基材１１側から順に、高屈折率層１４ｂと低屈折率層１４ａとを備えた２層構造でもよいし、中屈折率層１４ｃと低屈折率層１４ａとを備えた２層構造でもよい。

また、図１、２に示す透明基板１０および図３に示す透明基板２０は、基材１１と緩衝層１３との間にバリア層１２が設けられているが、バリア層１２はなくてもよい。
さらに、透明基板１０、２０は、各層の表面に凹凸構造が形成されているが、少なくとも低屈折率層１４ａの表面に凹凸構造が形成されていれば、残りの層の表面には凹凸構造が形成されていなくてもよい。
また、透明基板１０、２０は、基材１１の一方の面に反射防止層１４が形成されているが、反射防止層１４は緩衝層１３を介して基材１１の他方の面にも形成されていてもよい。

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。
各種測定および評価方法、転写モールドの製造方法、各コーティング液の調製方法は以下の通りである。

「測定・評価」
＜ヤング率の測定＞
紫外線硬化性樹脂組成物をガラス基板上に塗布し、紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ^２の積算光量で照射し、紫外線硬化性樹脂組成物を半硬化させた。得られた半硬化物をガラス基板から剥がして試験片とした。
得られた試験片について、ＪＩＳ Ｋ ７１７１に準拠して温度２３℃、速度１ｍｍ／ｍｉｎの条件で曲げ試験を行い、歪み−応力曲線を描いた。この歪み−応力曲線の直線部分の傾きを求め、ヤング率とした。

＜屈折率の測定＞
低屈折率層用のコーティング液をガラス基板上に１００ｎｍの厚さで塗布し、硬化させて低屈折率層を形成した。分光光度計（日本分光株式会社製、「Ｖ−５５０」）を用いて、低屈折率層の反射率を測定し、屈折率を算出した。
中屈折率層および高屈折率層についても同様にして測定した。

＜伸び率の測定＞
基材としてポリカーボネート層（厚さ４４０μｍ）と、ポリメチルメタクリレート層（６０μｍ）とが積層した積層シートのポリメチルメタクリレート層側の表面に、紫外線硬化性樹脂組成物を塗布し、紫外線を２００ｍＪ／ｃｍ^２の積算光量で照射して紫外線硬化性樹脂組成物を半硬化させ、試験片とした。
得られた試験片または中間積層体について、基材のＴｇ付近まで加温した後、Ｌ字曲げ雄雌型の間に、基材面が凹部側となるように挟み、雄雌型を押し合い冷却した。冷却後、曲げた凸面をマイクロスコープで観察し、クラックの有無を確認した。曲げ半径（曲げＲ）を変えて同様の操作を行い、クラックが発生しなかったときの曲げＲまでの伸び率を算出した。

＜算術平均粗さＲａ、算術平均高さＳａおよび平均凹凸周期ＲＳｍの測定＞
形状解析レーザ顕微鏡（ＫＥＹＥＮＣＥ社製、「ＶＫ−Ｘ１５０」）を用い、ＩＳＯ ２５１７８に準拠して、対物レンズ５０倍倍率、カットオフλｃ０．０８で粗さ曲線を作成し、２０本の複数線粗さから算術平均粗さＲａと平均凹凸周期ＲＳｍを測定した。また、任意の範囲に対して算術平均高さＳａを測定した。

＜転写率の測定＞
下記式（ｉ）より、転写率を求めた。
転写率（％）＝（透明基板の算術平均粗さＲａ／転写モールドの算術平均粗さＲａ）×１００ ・・・（ｉ）

＜防眩性の評価＞
グロス計（コニカミノルタ株式会社製、「ＧＭ−２６８Ｐｌｕｓ」）を用い、ＪＩＳ Ｚ ８７４１に準拠して、６０°入出射の条件でグロス値を測定した。グロス値が小さいほど、防眩性に優れる。

＜反射防止性の測定＞
分光光度計（日本分光株式会社製、「Ｖ−５５０」）を用い、走査速度１０００ｎｍ／ｍｉｎの条件で波長５５０ｎｍの範囲における全光線透過率および拡散透過率を測定し、下記式（ii）よりヘイズ値を求めた。ヘイズ値が大きいほど、反射防止性に優れる。
ヘイズ値（％）＝（拡散透過率／全光線透過率）×１００ ・・・（ii）

「転写モールドの製造」
＜転写モールドＴ１の製造＞
平均粒子径１μｍの銀粒子を濃度が５質量％になるようにポジ型フォトレジストへ添加し、混合撹拌し、加圧しながら脱泡した。次いで、銀粒子を含むポジ型フォトレジストを清浄で平坦度の高いガラス基板上に膜厚が３μｍとなるように塗布した後、クリーンオーブン内にて８０℃で６０分焼成した。焼成後、室温まで冷却し、高圧水銀ランプにより紫外線を５５ｍＪ／ｃｍ^２の積算光量で照射した。次いで、無機アルカリ溶液を用いて現像した後、ニッケルにより導電化し、さらに厚さが０．５ｍｍとなるように電気鋳造を行い、モールド基型を得た。モールド基型をガラス基板から剥離して、表面に付着している銀粒子をアンモニアと過酸化水素水との混合溶液で溶解して除去した後、電気鋳造により形状を反転させ、転写モールドＴ１を得た。
得られた転写モールドＴ１の算術平均粗さＲａは０．１５μｍであり、算術平均高さＳａは０．１８μｍであり、平均凹凸周期ＲＳｍは５．５μｍであった。

＜転写モールドＴ２の製造＞
平均粒子径が８μｍの銀粒子を用いた以外は、転写モールドＴ１と同様にして、転写モールドＴ２を得た。
得られた転写モールドＢの算術平均粗さＲａは１．２０μｍであり、算術平均高さＳａは１．４０μｍであり、平均凹凸周期ＲＳｍは４４．５μｍであった。

「コーティング液の調製」
＜コーティング液に含まれる成分＞
コーティング液に含まれる成分として、以下に示す化合物を用いた。
・ＡｆＯＩ２ＦＡ：脂肪族有機イソシアネート系２官能アクリレート。
・ＡｆＯＩ４ＦＡ：脂肪族有機イソシアネート系４官能アクリレート。
・ＡｆＯＩ６ＦＡ：脂肪族有機イソシアネート系６官能アクリレート。
・ＡｃＯＩ３ＦＡ：脂環族有機イソシアネート系３官能アクリレート。
・ＧＰＴＭＳ：γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン。
・ＡＰＴＭＳ：３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン。
・７ｎｍＳＳＳ：平均粒子径が７ｎｍの中実シリカゾル（平均粒子径が７ｎｍの中実シリカ粒子を濃度が２０質量％になるようにイソプロパノール（ＩＰＡ）に分散させた分散液）。
・３００ｎｍＳＳＳ：平均粒子径が３００ｎｍの中実シリカゾル（平均粒子径が３００ｎｍの中実シリカ粒子を濃度が２０質量％になるようにＩＰＡに分散させた分散液）。
・６０ｎｍＨＳＳ：平均粒子径が６０ｎｍの中空シリカゾル（平均粒子径が６０ｎｍの中空シリカ粒子を濃度が２０質量％になるようにＩＰＡに分散させた分散液）。
・ＡＡＡＡＤＩ：アルキルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート。
・ＡＴＡＡ：アルミニウムトリスアセチルアセトネート。
・ＺＤＢＢ（ＥＡＡ）：ジルコニウムジブトキシビス（エチルアセトアセテート）。
・光重合開始剤：１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン。
・紫外線吸収剤：２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール。
・有機溶剤：酢酸ｓｅｃ−ブチル（ＳＢＡＣ）とＩＰＡの混合溶媒（ＳＢＡＣ：ＩＰＡ＝６：４（質量比））。

＜バリア層用のコーティング液Ｂ１の調製＞
４官能以上のウレタンアクリレートとして脂肪族有機イソシアネート系６官能アクリレート１００質量部と、光重合開始剤３質量部と、有機溶剤６０００質量部とを混合し、バリア層用のコーティング液Ｂ１を得た。配合組成を表１に示す。

＜紫外線硬化性樹脂組成物（緩衝層用のコーティング液）Ｕ１の調製＞
３官能以下のウレタンアクリレートとして脂環族有機イソシアネート系３官能アクリレート５質量部と、４官能以上のウレタンアクリレートとして脂肪族有機イソシアネート系６官能アクリレート９５質量部と、シランカップリング剤としてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン１０質量部と、シリカ粒子として平均粒子径７ｎｍの中実シリカゾル２０質量部と、金属キレート化合物としてアルミニウムトリスアセチルアセトネート０．５質量部と、紫外線吸収剤１０質量部と、光重合開始剤６質量部と、酢酸水溶液（濃度０．０１質量％）２質量部と、有機溶剤５００質量部とを混合し、紫外線硬化性樹脂組成物Ｕ１を得た。配合組成を表２に示す。

＜紫外線硬化性樹脂組成物（緩衝層用のコーティング液）Ｕ２〜Ｕ７の調製＞
配合組成を表２、３に示すように変更した以外は、紫外線硬化性樹脂組成物Ｕ１と同様にして紫外線硬化性樹脂組成物Ｕ２〜Ｕ７を得た。

＜低屈折率層用のコーティング液Ｌ１の調製＞
シリカ粒子として平均粒子径６０ｎｍの中空シリカゾル１０質量部と、シランカップリング剤としてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン８９質量部と、金属キレート化合物としてアルミニウムトリスアセチルアセトネート１質量部と、酢酸水溶液（濃度０．０１質量％）２０質量部と、有機溶剤３０００質量部とを混合し、低屈折率層用のコーティング液Ｌ１を得た。配合組成を表４に示す。

＜低屈折率層用のコーティング液Ｌ２〜Ｌ４の調製＞
配合組成を表４に示すように変更した以外は、低屈折率層用のコーティング液Ｌ１と同様にして低屈折率層用のコーティング液Ｌ２〜Ｌ４を得た。

＜高屈折率層用のコーティング液Ｈ１の調製＞
コロイド状金属酸化物として酸化ジルコニウムゾル５９質量部と、シリカ粒子として平均粒子径３００ｎｍの中実シリカゾル１質量部と、シランカップリング剤としてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン２０質量部と、金属キレート化合物としてジルコニウムジブトキシビス（エチルアセトアセテート）２０質量部と、酢酸水溶液（濃度０．０１質量％）５質量部と、有機溶剤２５００質量部とを混合し、高屈折率層用のコーティング液Ｌ１を得た。配合組成を表５に示す。

＜中屈折率層用のコーティング液Ｍ１の調製＞
コロイド状金属酸化物として酸化ジルコニウムゾル３６質量部と、シランカップリング剤としてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン１５質量部およびシラン変性エポキシ樹脂４８質量部と、金属キレート化合物としてアルミニウムトリスアセチルアセトネート１質量部と、酢酸水溶液（濃度０．０１質量％）５質量部と、有機溶剤２５００質量部とを混合し、中屈折率層用のコーティング液Ｍ１を得た。配合組成を表６に示す。

「実施例１」
基材としてポリカーボネート層（厚さ４４０μｍ）と、ポリメチルメタクリレート層（６０μｍ）とが積層した積層シートを用いた。この積層シートの全光線透過率は９１％であった。
この積層シートのポリメチルメタクリレート層側の表面に、紫外線硬化性樹脂組成物Ｕ１を全硬化後の厚さが２．０μｍとなるように塗布し、紫外線を２００ｍＪ／ｃｍ^２の積算光量で照射して紫外線硬化性樹脂組成物Ｕ１を半硬化させ、基材上に半硬化物層を形成した。
次いで、半硬化物層上に、低屈折率層用のコーティング液Ｌ１を硬化後の厚さが１００ｎｍになるように塗布し、１００℃で加熱処理して、半硬化物層上に低屈折率層からなる反射防止層が形成された中間積層体を得た。
半硬化物層のヤング率および伸び率と、低屈折率層の屈折率と、中間積層体の伸び率を表７に示す。

得られた中間積層体の反射防止層の表面に転写モールドＴ１の転写面を押し当て、温度９０℃、圧力３０ＭＰａの条件で、転写面の凹凸構造を反射防止層の表面に転写し、凹凸を附形した。
次いで、紫外線を１０００ｍＪ／ｃｍ^２の積算光量で照射して半硬化物層を全硬化させ、透明基板を得た。
得られた透明基板の反射防止層の表面の算術平均粗さＲａ、算術平均高さＳａおよび平均凹凸周期ＲＳｍを測定し、転写率を求め、防眩性および反射防止性を評価した。結果を表７に示す。

「実施例３〜５、９〜１２、比較例１〜５」
紫外線硬化性樹脂組成物の種類、半硬化物層の全硬化後の厚さ、半硬化時の紫外線の積算光量、低屈折率層用のコーティング液の種類、転写モールドの種類と転写条件（温度および圧力）について、表７〜１０に示すように変更した以外は、実施例１と同様にして透明基板を製造し、各種測定および評価を行った。結果を表７〜１０に示す。

「実施例２、６」
積層シートのポリメチルメタクリレート層側の表面に、バリア層用のコーティング液Ｂ１を硬化後の厚さが１００ｎｍとなるように塗布し、紫外線を２００ｍＪ／ｃｍ^２の積算光量で照射してバリア層用のコーティング液Ｂ１を全硬化させ、基材上にバリア層を形成した。
次いで、バリア層上に、表７、８に示す種類の紫外線硬化性樹脂組成物を全硬化後の厚さが表７、８に示す値となるように塗布し、紫外線を２００ｍＪ／ｃｍ^２の積算光量で照射して紫外線硬化性樹脂組成物を半硬化させ、バリア上に半硬化物層を形成した以外は、実施例１と同様にして中間積層体を得た。
得られた中間積層体を用い、転写モールドの種類と転写条件（温度および圧力）を表７、８に示すように変更した以外は、実施例１と同様にして透明基板を製造し、各種測定および評価を行った。結果を表７、８に示す。

「実施例７」
積層シートのポリメチルメタクリレートフィルム側の表面に、紫外線硬化性樹脂組成物Ｕ２を全硬化後の厚さが１．５μｍとなるように塗布し、紫外線を２００ｍＪ／ｃｍ^２の積算光量で照射して紫外線硬化性樹脂組成物Ｕ２を半硬化させ、基材上に半硬化物層を形成した。
次いで、半硬化物層上に、中屈折率層用のコーティング液Ｍ１を硬化後の厚さが８５ｎｍとなるように塗布し、１００℃で加熱処理して、半硬化物層上に中屈折率層を形成した。
次いで、中屈折率層上に、低屈折率層用のコーティング液Ｌ１を硬化後の厚さが１００ｎｍになるように塗布し、１００℃で加熱処理して、半硬化物層上に中屈折率層および低屈折率層からなる反射防止層が形成された中間積層体を得た。
得られた中間積層体を用い、転写モールドの種類と転写条件（温度および圧力）を表８に示すように変更した以外は、実施例１と同様にして透明基板を製造し、各種測定および評価を行った。結果を表８に示す。

「実施例８」
積層シートのポリメチルメタクリレートフィルム側の表面に、紫外線硬化性樹脂組成物Ｕ２を全硬化後の厚さが１．５μｍとなるように塗布し、紫外線を２００ｍＪ／ｃｍ^２の積算光量で照射して紫外線硬化性樹脂組成物Ｕ２を半硬化させ、基材上に半硬化物層を形成した。
次いで、半硬化物層上に、中屈折率層用のコーティング液Ｍ１を硬化後の厚さが８５ｎｍとなるように塗布し、１００℃で加熱処理して、半硬化物層上に中屈折率層を形成した。
次いで、中屈折率層上に、高屈折率層用のコーティング液Ｈ１を硬化後の厚さが８０ｎｍとなるように塗布し、１００℃で加熱処理して、中屈折率層上に高屈折率層を形成した。
次いで、高屈折率層上に、低屈折率層用のコーティング液Ｌ１を硬化後の厚さが１００ｎｍになるように塗布し、１００℃で加熱処理して、半硬化物層上に中屈折率層、高屈折率層および低屈折率層からなる反射防止層が形成された中間積層体を得た。
得られた中間積層体を用い、転写モールドの種類と転写条件（温度および圧力）を表８に示すように変更した以外は、実施例１と同様にして透明基板を製造し、各種測定および評価を行った。結果を表８に示す。

表７〜９の結果から明らかなように、各実施例で得られた透明基板は、防眩性および反射防止性を有していた。
一方、表１０の結果から明らかなように、各比較例で得られた透明基板は、防眩性と反射防止性の両方を兼ね備えたものではなかった。

本発明の透明基板は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）等の画像表示装置の表示面の全面パネル、自動車のメーターパネル、ナビゲーションパネルなどに設けられる反射防止基材に適している。

１ 中間積層体
１０ 透明基板
１１ 基材
１２ バリア層
１３ｓ 半硬化物層
１３ 緩衝層
１４ 反射防止層
１４ａ 低屈折率層
１４ｂ 高屈折率層
１４ｃ 中屈折率層
２０ 透明基板
３０ 転写モールド
３０ａ 転写面

Claims (11)

1. 透光性を有する基材と、該基材の少なくとも一方の面に設けられた反射防止層と、前記基材と反射防止層との間に設けられた、紫外線硬化性樹脂組成物の半硬化物からなる半硬化物層とを備えた中間積層体の、前記半硬化物層が全硬化した透明基板であって、
   前記反射防止層の表面に不規則な凹凸構造を有し、かつ前記凹凸構造の表面の算術平均粗さＲａが０．０１〜１．００μｍであり、平均凹凸周期ＲＳｍが１〜３０μｍであり、
   前記反射防止層は、屈折率が１．４７以下であり、厚さが５０〜２００ｎｍである低屈折率層を最表層に備え、
   前記半硬化物層のヤング率が０．１〜２．５ＧＰａであり、全硬化後の厚さが１．０〜１０．０μｍであり、
   前記中間積層体の伸び率が１０５〜１５０％である、透明基板。
2. 前記紫外線硬化性樹脂組成物は、３官能以下のウレタンアクリレート、シランカップリング剤および金属キレート化合物を含む、請求項１に記載の透明基板。
3. 前記紫外線硬化性樹脂組成物は、シリカ粒子をさらに含む、請求項２に記載の透明基板。
4. 前記紫外線硬化性樹脂組成物は、４官能以上のウレタンアクリレートをさらに含む、請求項２または３に記載の透明基板。
5. 前記反射防止層は、前記基材側から順に、屈折率が１．４７超、１．６５未満であり、厚さが５０〜１２０ｎｍである中屈折率層と、屈折率が１．６０以上であり、かつ中屈折率層の屈折率よりも高く、厚さが５０〜１２０ｎｍである高屈折率層と、前記低屈折率層とを備えた多層構造である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の透明基板。
6. 前記基材と半硬化物層との間に、４官能以上のウレタンアクリレートを含み、厚さが５０〜２００ｎｍであるバリア層をさらに備える、請求項１〜５のいずれか一項に記載の透明基板。
7. 工程（ｂ）：透光性を有する基材の少なくとも一方の面に、全硬化後の厚さが１．０〜１０．０μｍとなるように紫外線硬化性樹脂組成物を塗布して半硬化し、基材上に半硬化物層を形成する工程と、
   工程（ｃ）：前記半硬化物層上に反射防止層を形成し、中間積層体を得る工程と、
   工程（ｄ）：転写面に不規則な凹凸構造を有し、かつ前記転写面の算術平均粗さＲａが０．０１〜１．２５μｍであり、平均凹凸周期ＲＳｍが１〜３０μｍである転写モールドを用いて、その転写面の凹凸構造を前記中間積層体の反射防止層の表面に転写する工程と、
   工程（ｅ）：工程（ｄ）の後に、前記半硬化物層を全硬化する工程と、
   を有し、
   前記半硬化物層のヤング率が０．１〜２．５ＧＰａであり、
   前記中間積層体の伸び率が１０５〜１５０％であり、
   前記工程（ｃ）は、少なくとも下記工程（ｃ−３）を含む、透明基板の製造方法。
   工程（ｃ−３）：前記半硬化物層上に、屈折率が１．４７以下であり、厚さが５０〜２００ｎｍである低屈折率層を形成する工程。
8. 前記工程（ｂ）において、基材上の紫外線硬化性樹脂組成物に、紫外線を１５０〜５００ｍＪ／ｃｍ^２の積算光量で照射して紫外線硬化性樹脂組成物を半硬化する、請求項７に記載の透明基板の製造方法。
9. 前記工程（ｄ）において、前記転写モールドを用い、圧力４〜３８ＭＰａ、温度６０〜１５０℃で、前記中間積層体の反射防止層の表面を加圧処理して転写する、請求項７または８に記載の透明基板の製造方法。
10. 前記工程（ｃ）は、前記工程（ｃ−３）の前に下記工程（ｃ−１）および工程（ｃ−２）をさらに含む、請求項７〜９のいずれか一項に記載の透明基板の製造方法。
    工程（ｃ−１）：前記半硬化物層上に、屈折率が１．４７超、１．６５未満であり、厚さが５０〜１２０ｎｍである中屈折率層を形成する工程。
    工程（ｃ−２）：前記中屈折率層上に、屈折率が１．６０以上であり、かつ中屈折率層の屈折率よりも高く、厚さが５０〜１２０ｎｍである高屈折率層を形成する工程。
11. 前記工程（ｂ）の前に、下記工程（ａ）をさらに有する、請求項７〜１０のいずれか一項に記載の透明基板の製造方法。
    工程（ａ）：前記基材上に、４官能以上のウレタンアクリレートを含み、厚さが５０〜２００ｎｍであるバリア層を形成する工程。

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