JP2018070866A - シリコーンゴム系硬化性組成物および成形体 - Google Patents
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Abstract
Description
(A)ビニル基含有オルガノポリシロキサンと、
(B)無機充填材と、
を含む、シリコーンゴム系硬化性組成物であって、
当該シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物の引裂強度が20N/mm以上であり、
当該シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物のデュロメータ硬さAが50以下であり、
以下の引張り繰り返し試験で得られた応力比をX(%)としたとき、Xが60以上90以下である、シリコーンゴム系硬化性組成物が提供される。
(引張り繰り返し試験)
当該シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物からなるダンベル試験片を用い、前記ダンベル試験片を500%まで伸張する伸張操作を10回繰り返し、前記ダンベル試験片にかかる応力を測定する。初回の前記伸張操作において測定される応力を100としたとき、8、9、及び10回目の前記伸張操作において測定される応力の比率の平均値をX(%)とする。
本実施形態のシリコーンゴム系硬化性組成物の概要について説明する。
さらに、当該シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物の引裂強度が20N/mm以上であり、当該シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物のデュロメータ硬さAが50以下であり、以下の引張り繰り返し試験で得られた応力比をX(%)としたとき、Xが60以上90以下である。
(引張り繰り返し試験)
当該シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物からなるダンベル試験片を用い、前記ダンベル試験片を500%まで伸張する伸張操作を10回繰り返し、前記ダンベル試験片にかかる応力を測定する。初回の前記伸張操作において測定される応力を100としたとき、8、9、及び10回目の前記伸張操作において測定される応力の比率の平均値をX(%)とする。
成分(A)は、本実施形態のシリコーンゴム系硬化性組成物の主成分となる重合物である。
本実施形態のシリコーンゴム系硬化性組成物は、(B)無機充填材を含むものである。
本実施形態のシリコーンゴム系硬化性組成物は、(C)オルガノハイドロジェンポリシロキサンを含むことができる。
(C)オルガノハイドロジェンポリシロキサンは、(C1)直鎖構造を有する直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサンと(C2)分岐構造を有する分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサンとに分類され、これらのうちのいずれか一方または双方を含むことができる。
(Ha(R7)3−aSiO1/2)m(SiO4/2)n
(式(c)において、R7は一価の有機基、aは1〜3の範囲の整数、mはHa(R7)3−aSiO1/2単位の数、nはSiO4/2単位の数である)
本実施形態のシリコーンゴム系硬化性組成物は、(D)白金または白金化合物を含むことができる。
(D)白金または白金化合物は、硬化の際の触媒として作用する触媒成分である。(D)白金または白金化合物の添加量は触媒量である。
本実施形態のシリコーンゴム系硬化性組成物は、(E)シランカップリング剤を含むことができる。
(E)シランカップリング剤は、加水分解性基を有することができる。加水分解基が水により加水分解されて水酸基になり、この水酸基が(B)無機充填材の表面の水酸基と脱水縮合反応することで、(B)無機充填材の表面改質を行うことができる。
上記式(4)中、nは1〜3の整数を表わす。Yは、疎水性基、親水性基またはビニル基を有するもののうちのいずれかの官能基を表わし、nが1の時は疎水性基であり、nが2または3の時はその少なくとも1つが疎水性基である。Xは、加水分解性基を表わす。
また、本実施形態のシリコーンゴム系硬化性組成物には、上記成分(A)〜(E)以外に、(F)水が含まれていてもよい。
次に、本実施形態のシリコーンゴムの製造方法について説明する。
本実施形態のシリコーンゴムの製造方法としては、シリコーンゴム系硬化性組成物を調製し、このシリコーンゴム系硬化性組成物を硬化させることによりシリコーンゴムを得ることができる。
以下、詳述する。
以上のような工程を経ることで、本実施形態のシリコーンゴムが得られる。
(A)ビニル基含有オルガノポリシロキサン
低ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1−1a):合成スキーム1により合成した鎖内ビニル基含有ジメチルポリシロキサン(式(1−1)で表わされる構造でR2(鎖内)のみがビニル基である構造)
低ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1−1b):合成スキーム2により合成した末端ビニル基含有ジメチルポリシロキサン(式(1−1)で表わされる構造でR1(末端)のみがビニル基である構造)
高ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1−2a):合成スキーム3により合成したビニル基含有ジメチルポリシロキサン(式(1−1)で表わされる構造でR1およびR2がビニル基である構造)
シリカ粒子(B):シリカ微粒子(粒径7nm、比表面積300m2/g)、日本アエロジル社製、「AEROSIL300」
オルガノハイドロジェンポリシロキサン(C):モメンティブ社製、「TC−25D」
白金または白金化合物(D):白金化合物、モメンティブ社製、「TC−25A」
シランカップリング剤(E−1):ヘキサメチルジシラザン(HMDZ)、Gelst社製、「HEXAMETHYLDISILAZANE(SIH6110.1)」
シランカップリング剤(E−2):ジビニルテトラメチルジシラザン、Gelst社製、「1,3−DIVINYLTETRAMETHYLDISILAZANE(SID4612.0)」
有機過酸化物・加硫剤、モメンティブ社製、「TC−8」
[合成スキーム1:低ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1−1a)の合成]
下記式(6)にしたがって、低ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1−1a)を合成した。
すなわち、Arガス置換した、冷却管および攪拌翼を有する300mLセパラブルフラスコに、オクタメチルシクロテトラシロキサン74.7g(252mmol)、2,4,6,8−テトラメチル2,4,6,8−テトラビニルシクロテトラシロキサン0.086g(0.25mmol)およびカリウムシリコネート0.1gを入れ、昇温し、120℃で30分間攪拌した。なお、この際、粘度の上昇が確認できた。
その後、155℃まで昇温し、3時間攪拌を続けた。そして、3時間後、ヘキサメチルジシロキサン0.1g(0.6mmol)を添加し、さらに、155℃で4時間攪拌した。
さらに、4時間後、トルエン250mLで希釈した後、水で3回洗浄した。洗浄後の有機層をメタノール1.5Lで数回洗浄することで、再沈精製し、オリゴマーとポリマーを分離した。得られたポリマーを60℃で一晩減圧乾燥し、低ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1−1a)を得た(Mn=2.5×105、Mw=5.0×105)。また、H−NMRスペクトル測定により算出したビニル基含有量は0.18モル%であった。
上記(A1−1a)の合成工程において、2,4,6,8−テトラメチル2,4,6,8−テトラビニルシクロテトラシロキサンを用いず、ヘキサメチルジシロキサンの代わりに1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサン0.1g(0.6mmol)用いたこと以外は、(A1−1a)の合成工程と同様にして、下記式(7)にしたがって、低ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1−1b)を得た。(Mn=2.2×105、Mw=4.8×105)。また、H−NMRスペクトル測定により算出したビニル基含有量は0.04モル%であった。
上記(A1−1a)の合成工程において、2,4,6,8−テトラメチル2,4,6,8−テトラビニルシクロテトラシロキサンを、0.86g(2.5mmol)用い、ヘキサメチルジシロキサンの代わりに1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサン0.1g(0.6mmol)用いたこと以外は、前記と同様にすることで、下記式にしたがって、高ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1−2a)を合成した(Mn=2.3×105、Mw=5.0×105)。また、H−NMRスペクトル測定により算出したビニル基含有量は0.93モル%であった。
実施例および比較例において、次のようにしてシリコーンゴム系硬化性組成物を調整した。まず、表1に示す割合で、(A)ビニル基含有オルガノポリシロキサン、(E)シランカップリング剤および(F)水の混合物を予め混練し、その後、混合物に(B)無機充填材を加えてさらに混練し、混練物(シリコーンゴムコンパウンド)を得た。
ここで、(B)無機充填材添加後の混練は、カップリング反応のために窒素雰囲気下、60〜90℃の条件下で1時間混練する第1ステップと、副生成物(アンモニア)の除去のために減圧雰囲気下、160〜180℃の条件下で2時間混練する第2ステップとを経ることで行った。
続いて、得られた混練物(シリコーンゴムコンパウンド)に、(C)オルガノハイドロジェンポリシロキサンおよび(D)白金または白金化合物、あるいは過酸化物架橋剤を加えて、ロールで混練し、シリコーンゴム系硬化性組成物を得た。
得られたシリコーンゴム系硬化性組成物を、150℃、10MPaで20分間プレスし、1mmのシート状に成形すると共に、1次硬化した。続いて、200℃で4時間加熱し、2次硬化した。以上により、シート状シリコーンゴム(シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物)を得た。
得られた厚さ1mmのシート状シリコーンゴムを積層し、6mmの試験片を作製した。得られた試験片に対して、JIS K6253(1997)に準拠してタイプAデュロメータ硬さ(−)を測定した。
得られた厚さ1mmのシート状シリコーンゴムを用いて、JIS K6252(2001)に準拠して、クレセント形試験片を作製し、得られたクレセント形試験片の引裂き強度を測定した。
得られた厚さ1mmのシート状シリコーンゴムを用いて、JIS K6251(2004)に準拠して、ダンベル状3号形試験片を作製し、得られた試験片の引張強度を測定した。
図1(a)に示すように、得られた1mmのシート状シリコーンゴムを用いて、JIS K6251(2004)に準拠して、ダンベル状3号形試験片10を作製した。
次に、図1(a)、(b)に示すように、試験片10を用い、試験片10を500%まで伸張する伸張操作を10回繰り返し、試験片10にかかる応力を測定した。初回の前記伸張操作において測定される応力を100としたとき、8、9、及び10回目の前記伸張操作において測定される応力の比率の平均値をX(%)とした。また、前記引張り繰り返し試験において、10回目の前記伸張操作において測定される応力をZ(MPa)とした。
かかる引張り繰り返し試験をN回(N=3)行い、平均値を採用した。
試験機:オートグラフAG5kNX(株式会社島津製作所製、「型番AG−5kNX」)
初期値:60mm(チャック間距離)、0%伸長率
伸長時:360mm(チャック間距離)、500%伸長率
伸張速度:最大速度1,000mm/min
伸張時間:36秒/1サイクル(1サイクルは、初期値→伸長時→初期値)
得られた上記シリコーンゴム系硬化性組成物を、圧縮成形機を用いて、10MPaの圧力下で170℃×5分で処理し内径6.0mm×厚み約0.6mm×長さ30mmの1次硬化物を作製した。次に、得られた1次硬化物を成形型に入れて200℃で4時間処理することによってバルーンを得た(外径7.2mm、長さ30mm)。
別途、シリコーンゴム(品名:KE−571−U、信越化学工業株式会社製)を用いて、押出成形機にてメインルーメンおよびバルーン膨張用ルーメンを有する外径が6mmのカテーテル本体を成形し、240℃で一次加硫後にライン速度は3.5m/minで処理し、次に2次加硫として200℃のオーブンで4時間処理し、カテーテル本体を得た。
得られたカテーテル本体と、上記で得られたバルーンとを組み立て、シリコーン系接着剤を用いて接合し、1昼夜養生し、バルーンカテーテルを作成した。
当該バルーンカテーテルにエアーを注入し、最大外径30mmまで膨張させた。その後エアーを抜き取り収縮させた。かかる膨張、収縮を10回繰返しテストを行い、テスト後のバルーン部分のたるみを確認し、以下の基準で評価した。
◎:テスト後、バルーンの変形はなかった。
○:テスト後、バルーンがわずかに変形した。
×:テスト後、バルーンが著しく変形した。
Claims (8)
- (A)ビニル基含有オルガノポリシロキサンと、
(B)無機充填材と、
を含む、シリコーンゴム系硬化性組成物であって、
当該シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物の引裂強度が20N/mm以上であり、
当該シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物のデュロメータ硬さAが50以下であり、
以下の引張り繰り返し試験で得られた応力比をX(%)としたとき、Xが60以上90以下である、シリコーンゴム系硬化性組成物。
(引張り繰り返し試験)
当該シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物からなるダンベル試験片を用い、前記ダンベル試験片を500%まで伸張する伸張操作を10回繰り返し、前記ダンベル試験片にかかる応力を測定する。初回の前記伸張操作において測定される応力を100としたとき、8、9、及び10回目の前記伸張操作において測定される応力の比率の平均値をX(%)とする。 - 成分(A)の合計量100重量部に対して、成分(B)の含有量は20〜60重量部である、請求項1に記載のシリコーンゴム系硬化性組成物。
- 前記引張り繰り返し試験において、10回目の前記伸張操作において測定される応力をZ(MPa)としたとき、2≦Z≦6である、請求項1または2に記載のシリコーンゴム系硬化性組成物。
- (C)オルガノハイドロジェンポリシロキサンをさらに含む、請求項1乃至3いずれか一項に記載のシリコーンゴム系硬化性組成物。
- 成分(B)がシリカ粒子である、請求項1乃至4いずれか一項に記載のシリコーンゴム系硬化性組成物。
- (D)白金又は白金化合物である触媒をさらに含む、請求項1乃至5いずれか一項に記載のシリコーンゴム系硬化性組成物。
- 請求項1乃至6のいずれか一項に記載のシリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物を備える、成形体。
- 請求項7に記載の成形体であって、医療の用途に供する、成形体。
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