JP2020143259A - シリコーンゴム系硬化性組成物、およびそれを用いたウェアラブルデバイス - Google Patents
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Abstract
Description
しかしながら、繰り返し屈曲時の特性については、十分な検討がなされていなかった。
ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)と、
シリカ粒子(C)と、を含む、シリコーンゴム系硬化性組成物であって、
当該シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物からなる試験片を用いて、JIS K 6260に準拠したデマチャ式耐屈曲試験を行い、下記の手順に基づいて測定される、屈曲回数が5万回のときの前記試験片における切り込み長さ変化率(L5/L0)が、1.1以上11.5以下である、
シリコーンゴム系硬化性組成物が提供される。
(手順)
当該シリコーンゴム系硬化性組成物を、170℃、10MPaで15分間プレスし、続いて、200℃で4時間加熱し、JIS K 6260に準拠して所定形状の試験片を作製する。
得られた試験片の中央において、幅方向に対して平行に、前記試験片を貫通する所定長さの切り込みを入れる。初期の切り込み長さをL0とする。
続いて、切り込み付きの前記試験片を試験機のつかみ具間に設置し、下記の試験条件に基づいて、デマチャ式耐屈曲試験を行い、所定の屈曲回数後の前記試験片における切り込み長さ(mm)を測定する。
切り込み長さは、デマチャ式耐屈曲試験を3回行ったときの平均値とする。この切り込み長さの平均値をL5とする。
切り込み長さ変化率を、式:L5/L0に基づいて算出する。
(試験条件)
・試験規格:JIS K 6260準拠
・試験機:デマチャ屈曲き裂試験機
・試験温度:23±2℃
・つかみ具間最大距離:75mm
・往復運動距離:57mm
・試験速度:300±10回/分
・試験数:n=3
当該シリコーンゴム系硬化性組成物を、170℃、10MPaで15分間プレスし、続いて、200℃で4時間加熱し、JIS K 6260に準拠して所定形状の溝付き試験片を作製する。
得られた試験片の溝の中央において、幅方向に対して平行に、前記試験片を貫通する所定長さ(2.03mm)の切り込みを入れる。初期の切り込み長さをL0とする。
続いて、切り込み付きの前記試験片を試験機のつかみ具間に設置し、下記の試験条件に基づいて、デマチャ式耐屈曲試験を行い、所定の屈曲回数後の前記試験片における切り込み長さ(mm)を測定する。
切り込み長さは、デマチャ式耐屈曲試験を3回行ったときの平均値とする。この切り込み長さの平均値をL5とする。
切り込み長さ変化率を、式:L5/L0に基づいて算出する。
(試験条件)
・試験規格:JIS K 6260準拠
・試験機:デマチャ屈曲き裂試験機
・試験温度:23±2℃
・つかみ具間最大距離:75mm
・往復運動距離:57mm
・試験速度:300±10回/分
・試験数:n=3
しかしながら、適当な指標を設定しないと、評価に時間がかかる上、評価にバラツキが生じる恐れがある。例えば、上記特許文献1の100%伸長疲労寿命のように、破断までの変形回数を指標とした場合、破断までの時間が長くなり、変形回数にバラツキが生じることがあった。また、試験片として切り込み無し品を使用し、破断状態を指標とした場合、破断状態に差が出るまで相当の屈曲回数が必要であり、差が出たとしても破断状態のバラツキが大きくなってしまうことが分かった。
このとき、上記屈曲回数が5万回のときの試験片における切り込み長さ変化率(L5/L0)の上限は、11.5以下、好ましくは10.7以下、より好ましくは8.0以下、さらに好ましくは6.0以下である。これにより、繰り返しの屈曲変形に対する耐久性に優れ、部材としての機械的強度を有する成形体を実現できる。なお、切り込み長さ変化率(L5/L0)の下限は、1.0以上であればよく、1.1以上としてもよい。
本明細書中、「〜」は、特に明示しない限り、上限値と下限値を含むことを表す。
上記シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物を用いてクレセント形試験片を作製し、得られたクレセント形試験片について、25℃、JIS K6252(2001)に準拠して、引裂強度を測定する。
上記シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物を用いてダンベル状3号形試験片を作製し、得られたダンベル状3号形試験片について、25℃、JIS K6251(2004)に準拠して、破断伸びを測定する。
上記シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物を用いてシート状試験片を作製し、得られたシート状試験片について、25℃、JIS K6253(1997)に準拠して、デュロメータ硬さAを測定する。
一方、上記デュロメータ硬さAの下限は、特に限定されないが、例えば、10以上、好ましくは20以上、より好ましくは25以上でもよい。これにより、シリコーンゴムの機械的強度を高められる。
上記シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物を用いてダンベル状3号形試験片を作製し、得られたダンベル状3号形試験片について、25℃、JIS K6251(2004)に準拠して、引張強度を測定する。
本実施形態のシリコーンゴム系硬化性組成物は、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)を含む。上記ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)は、シリコーンゴム系硬化性組成物の主成分となる重合物である。
本明細書中、式(1−1)で表わされる構造でR1(末端)のみがビニル基であるビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)を(A1−1)、式(1−1)で表わされる構造でR1(末端)およびR2(鎖内)がビニル基であるビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)を(A1−2)と表記する。
また上記ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)としては、ビニル基含有量が分子内に2個以上のビニル基を有し、かつ0.1モル%以下である第1のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1−1)を単独で用いてもよいが、ビニル基含有量が0.1超〜15モル%である第2のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1−2)等を含む2種以上を組み合わせて用いてもよい。
本実施形態のシリコーンゴム系硬化性組成物は、オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)を含んでもよい。
オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)は、直鎖構造を有する直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)と分岐構造を有する分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)とに分類され、これらのうちのいずれか一方または双方を含むことができる。
(Ha(R7)3−aSiO1/2)m(SiO4/2)n
(式(c)において、R7は一価の有機基、aは1〜3の範囲の整数、mはHa(R7)3−aSiO1/2単位の数、nはSiO4/2単位の数である)
本実施形態のシリコーンゴム系硬化性組成物は、シリカ粒子(C)を含む。
また、シリカ粒子(C)の平均一次粒径は、例えば1〜100nmであるのが好ましく、5〜20nm程度であるのがより好ましい。
本実施形態のシリコーンゴム系硬化性組成物は、シランカップリング剤(D)を含んでもよい。
シランカップリング剤(D)は、加水分解性基を有することができる。加水分解基が水により加水分解されて水酸基になり、この水酸基がシリカ粒子(C)表面の水酸基と脱水縮合反応することで、シリカ粒子(C)の表面改質を行うことができる。
上記式(4)中、nは1〜3の整数を表わす。Yは、疎水性基、親水性基またはビニル基を有するもののうちのいずれかの官能基を表わし、nが1の時は疎水性基であり、nが2または3の時はその少なくとも1つが疎水性基である。Xは、加水分解性基を表わす。
上記官能基として疎水性基を有するものとして、例えば、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、n−プロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシランのようなアルコキシシラン;メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、フェニルトリクロロシランのようなクロロシラン;ヘキサメチルジシラザンが挙げられる。この中でも、ヘキサメチルジシラザン、トリメチルクロロシラン、トリメチルメトキシシラン、及びトリメチルエトキシシランからなる群から選択される一種以上を含むトリメチルシリル基を有するシランカップリング剤が好ましい。
本実施形態のシリコーンゴム系硬化性組成物は、白金または白金化合物(E)を含んでもよい。
白金または白金化合物(E)は、硬化の際の触媒として作用する触媒成分である。白金または白金化合物(E)の添加量は触媒量である。
有機過酸化物(H)は、硬化の際の触媒として作用する成分である。有機過酸化物(H)の添加量は触媒量である。有機過酸化物(H)は、オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)および白金または白金化合物(E)に代えて、またはオルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)および白金または白金化合物(E)と有機過酸化物(H)を併用して使用することができる。
また、本実施形態のシリコーンゴム系硬化性組成物には、上記成分(A)〜(E)、(H)以外に、水(F)が含まれていてもよい。
次に、本実施形態のシリコーンゴムの製造方法について説明する。
本実施形態のシリコーンゴムの製造方法としては、シリコーンゴム系硬化性組成物を調製し、このシリコーンゴム系硬化性組成物を硬化させることによりシリコーンゴムを得ることができる。
以下、詳述する。
以上のような工程を経ることで、本実施形態のシリコーンゴムが得られる。
(ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A))
・ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1−1a):合成スキーム1により合成したビニル基含有ジメチルポリシロキサン(式(1−1)で表わされる構造でR1(末端)のみがビニル基である構造)
・ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1−1b):合成スキーム2により合成したビニル基含有ジメチルポリシロキサン(式(1−1)で表わされる構造でR1(末端)のみがビニル基である構造)
・ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1−2a):合成スキーム3により合成したビニル基含有ジメチルポリシロキサン(式(1−1)で表わされる構造でR1(末端)およびR2(鎖内)がビニル基である構造)
・ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1−2b):合成スキーム4により合成したビニル基含有ジメチルポリシロキサン(式(1−1)で表わされる構造でR1(末端)およびR2(鎖内)がビニル基である構造)
モメンティブ社製:「TC−25D」
・シリカ粒子(C−1):シリカ微粒子(粒径7nm、比表面積300m2/g)、日本アエロジル社製、「AEROSIL 300」
・シリカ粒子(C−2):シリカ微粒子(粒径16nm、比表面積110m2/g)、日本アエロジル社製、「AEROSIL R972」
・シランカップリング剤(D−1):ヘキサメチルジシラザン(HMDZ)、Gelest社製、「HEXAMETHYLDISILAZANE(SIH6110.1)」
・シランカップリング剤(D−2):ジビニルテトラメチルジシラザン、Gelest社製、「1,3−DIVINYLTETRAMETHYLDISILAZANE(SID4612.0)」
モメンティブ社製:「TC−25A」
下記式(5)にしたがって、低ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1−1a)を合成した。
すなわち、Arガス置換した、冷却管および攪拌翼を有する300mLセパラブルフラスコに、オクタメチルシクロテトラシロキサン74.7g(252mmol)、カリウムシリコネート0.1gを入れ、昇温し、120℃で30分間攪拌した。なお、この際、粘度の上昇が確認できた。
その後、155℃まで昇温し、3時間攪拌を続けた。そして、3時間後、1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサン0.1g(0.6mmol)を添加し、さらに、155℃で4時間攪拌した。
さらに、4時間後、トルエン250mLで希釈した後、水で3回洗浄した。洗浄後の有機層をメタノール1.5Lで数回洗浄することで、再沈精製し、オリゴマーとポリマーを分離した。得られたポリマーを60℃で一晩減圧乾燥し、低ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1−1a)を合成した(Mn=2.2×105、Mw=4.8×105)。また、H−NMRスペクトル測定により算出したビニル基含有量は0.039モル%であった。
上記(A1−1a)の合成工程において、155℃まで昇温した後の反応時間を3.5時間に変えたこと以外は、(A1−1a)の合成工程と同様にすることで低ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1−1b)を合成した(Mn=2.7×105、Mw=5.2×105)。また、H−NMRスペクトル測定により算出したビニル基含有量は0.031モル%であった。
上記(A1−1a)の合成工程において、オクタメチルシクロテトラシロキサン75.3g(254mmol)に加えて2,4,6,8−テトラメチル2,4,6,8−テトラビニルシクロテトラシロキサン0.12g(0.35mmol)を用いたこと以外は、(A1−1a)の合成工程と同様にすることで、下記式(6)のように、ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1−2a)を合成した(Mn=2.5×105、Mw=5.0×105)。また、H−NMRスペクトル測定により算出したビニル基含有量は0.130モル%であった。
上記(A1−2a)の合成工程において、オクタメチルシクロテトラシロキサンの添加量を73.2g(247mmol)、2,4,6,8−テトラメチル2,4,6,8−テトラビニルシクロテトラシロキサンの添加量を2.61g(7.6mmol)に変えたこと以外は、(A1−2a)の合成工程と同様にすることで、高ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1−2b)を合成した(Mn=2.5×105、Mw=5.4×105)。また、H−NMRスペクトル測定により算出したビニル基含有量は2.826モル%であった。
(試験例1〜5)
下記の表1に示す割合で、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)、シランカップリング剤(D)および水(F)の混合物を予め混練し、その後、混合物にシリカ粒子(C)を加えてさらに混練し、混練物(シリコーンゴムコンパウンド)を得た。
ここで、シリカ粒子(C)添加後の混練は、カップリング反応のために窒素雰囲気下、60〜90℃の条件下で1時間混練する第1ステップと、副生成物(アンモニア)の除去のために減圧雰囲気下、160〜180℃の条件下で2時間混練する第2ステップとを経ることで行い、その後、冷却し、20分間混練した。
続いて、得られた混練物(シリコーンゴムコンパウンド)100重量部に、下記の表1に示す割合で、オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)(TC−25D)および白金または白金化合物(E)(TC−25A)を加えて、ロールで混練し、シリコーンゴム系硬化性組成物を得た。
得られたシリコーンゴム系硬化性組成物について、下記の手順で測定されるデマチャ式耐屈曲試験を行い、屈曲回数が1万回、3万回、5万回のときの試験片における切り込み長さを測定した。評価結果を表2に示す。
JIS K 6260に準拠して、得られたシリコーンゴム系硬化性組成物を図1に示す金型10の成形空間30中に入れ、170℃、10MPaで15分間プレスし、続いて、200℃で4時間加熱して、溝60付きの短冊状の試験片50(幅:25mm、長さ:150mm、厚み:6.3mm)を作製した。得られた試験片50の溝60の中央において、幅方向に対して平行に、刃を用いて、長さ:2.03mmの切り込み70を入れ、切り込み付きの試験片50を得た(図2)。切り込み70は、試験片50を厚み方向に貫通するものであった。
また、図2(a)は、切り込み70が形成された溝60付きの試験片50の上面図、図2(b)は、試験片50のB−B矢視の側面断面図を表す。
図3に示すように、試験機100(デマチャ屈曲き裂試験機)の固定つかみ具102と可動つかみ具104との間に、上記(試験片の作成)で得られた試験片50を保持させた。
具体的には、2つのつかみ具間距離を最大にし、つかみ具間の中心に試験片50の溝60の中心が位置するように、試験片50をつかみ具に取り付けた。このとき、試験片50を、余分なひずみを与えないように平面状に保持させた。
続いて、下記の試験条件に基づいて、固定つかみ具102を基準に、可動つかみ具104を上下方向に往復運動させた。可動つかみ具104が、最大距離から往復運動距離まで固定つかみ具102に近づき(試験片50が屈曲し)、その後、可動つかみ具104が最大距離まで離れる(試験片50が平面状)まで、を1往復運動(1サイクル)とし、そのサイクルの回数(回)を屈曲回数とした。
屈曲回数が1万回、3万回、5万回のときの試験片50における切り込み70の長さ(mm)を、デジタルノギス(ミツトヨ社製)を用いて測定した。
なお、切り込み70の長さは、上記デマチャ式耐屈曲試験を3回行って測定された、3つの測定値の平均値とした。結果を表2に示す。
切り込み長さ変化率を式:L5/L0に基づいて算出した。
L0は、デマチャ式耐屈曲試験前の初期の切り込み長さとし、L1、L3、L5は、それぞれ、デマチャ式耐屈曲試験後、屈曲回数が1万回、3万回、5万回のときの切り込み長さの平均値とした。
・試験規格:JIS K 6260(2017)準拠
・試験機:低温槽付きデマチャ屈曲き裂試験機(安田製作所製)
・試験温度:23±2℃
・つかみ具間最大距離:75mm(図3中のDmax)
・往復運動距離:57mm(図3中のDmv)
・状態調節:1回目の試験開始前、23℃10分静置した。2回目、3回目の試験開始前、同じ条件の環境中に5分間静置した。
・試験速度:300±10回/分
・試験数:n=3
得られたシリコーンゴム系硬化性組成物を、170℃、10MPaで15分間プレスし、厚さ1mmのシート状に成形すると共に、1次硬化した。続いて、200℃で4時間加熱し、2次硬化した。
以上により、シート状シリコーンゴム(シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物)を得た。
それぞれの平均値を表2に示す。
得られた厚さ1mmのシート状シリコーンゴムを6枚積層し、6mmの試験片を作製した。得られた試験片に対して、25℃において、JIS K6253(1997)に準拠してタイプAデュロメータ硬さを測定した。
得られた厚さ1mmのシート状シリコーンゴムを用いて、JIS K6252(2001)に準拠して、クレセント形試験片を作製し、25℃で、得られたクレセント形試験片の引裂強度を測定した。単位は、N/mmである。
得られた厚さ1mmのシート状シリコーンゴムを用いて、JIS K6251(2004)に準拠して、ダンベル状3号形試験片を作製し、25℃で、得られたダンベル状3号形試験片の引張強度を測定した。単位はMPaである。
得られた厚さ1mmのシート状シリコーンゴムを用いて、JIS K6251(2004)に準拠して、ダンベル状3号形試験片を作製し、25℃で、得られたダンベル状3号形試験片の破断伸びを測定した。破断伸びは、[チャック間移動距離(mm)]÷[初期チャック間距離(60mm)]×100で計算した。単位は%である。
各実施例および各比較例で得られたシリコーンゴム系硬化性組成を用いて、170℃で5分、200℃で4時間の条件で硬化し、厚み:1mm×内径:2mmを有する筒状部材(チューブ)を作成した。得られた筒状部材にスチール針金(TRUSCO製 スチール針金 小巻タイプ 線径1.6mm×15m)を挿入した耐久性試験サンプルを準備して、耐久試験を行った。具体的には、耐久性試験サンプルの90°曲げ試験を100回繰り返して実施し、耐久性を判断した。試験後に外観異常がなかった筒状部材を○、試験後に亀裂や破損があるものを×とした。
20 凸部
30 成形空間
50 試験片
60 溝
70 切り込み
100 試験機
102 固定つかみ具
104 可動つかみ具
配線または配線基板を有するウェアラブルデバイスの一部を構成する、繰り返し屈曲可能な屈曲性部材を形成するために用いる、シリコーンゴム系硬化性組成物であって、
ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)と、
シリカ粒子(C)と、を含み、
前記シリカ粒子(C)の含有量が、前記ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)の全体100重量部に対して、50重量部以下であり、
下記の条件で測定される、当該シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物の引張強度が、8.3MPa以上であり、
当該シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物からなる試験片を用いて、JIS K 6260に準拠したデマチャ式耐屈曲試験を行い、下記の手順に基づいて測定される、屈曲回数が5万回のときの前記試験片における切り込み長さ変化率(L5/L0)が、1.1以上5.4以下である、
シリコーンゴム系硬化性組成物が提供される。
(手順)
当該シリコーンゴム系硬化性組成物を、170℃、10MPaで15分間プレスし、続いて、200℃で4時間加熱し、JIS K 6260に準拠して所定形状の試験片を作製する。
得られた試験片の中央において、幅方向に対して平行に、前記試験片を貫通する所定長さの切り込みを入れる。初期の切り込み長さをL0とする。
続いて、切り込み付きの前記試験片を試験機のつかみ具間に設置し、下記の試験条件に基づいて、デマチャ式耐屈曲試験を行い、所定の屈曲回数後の前記試験片における切り込み長さ(mm)を測定する。
切り込み長さは、デマチャ式耐屈曲試験を3回行ったときの平均値とする。この切り込み長さの平均値をL5とする。
切り込み長さ変化率を、式:L5/L0に基づいて算出する。
(試験条件)
・試験規格:JIS K 6260準拠
・試験機:デマチャ屈曲き裂試験機
・試験温度:23±2℃
・つかみ具間最大距離:75mm
・往復運動距離:57mm
・試験速度:300±10回/分
・試験数:n=3
(引張強度の測定条件)
当該シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物を用いてダンベル状3号形試験片を作製し、得られたダンベル状3号形試験片について、25℃、JIS K6251(2004)に準拠して、引張強度を測定する。
以下、参考形態の例を付記する。
1. ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)と、
シリカ粒子(C)と、を含む、シリコーンゴム系硬化性組成物であって、
当該シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物からなる試験片を用いて、JIS K 6260に準拠したデマチャ式耐屈曲試験を行い、下記の手順に基づいて測定される、屈曲回数が5万回のときの前記試験片における切り込み長さ変化率(L 5 /L 0 )が、1.1以上11.5以下である、
シリコーンゴム系硬化性組成物。
(手順)
当該シリコーンゴム系硬化性組成物を、170℃、10MPaで15分間プレスし、続いて、200℃で4時間加熱し、JIS K 6260に準拠して所定形状の試験片を作製する。
得られた試験片の中央において、幅方向に対して平行に、前記試験片を貫通する所定長さの切り込みを入れる。初期の切り込み長さをL 0 とする。
続いて、切り込み付きの前記試験片を試験機のつかみ具間に設置し、下記の試験条件に基づいて、デマチャ式耐屈曲試験を行い、所定の屈曲回数後の前記試験片における切り込み長さ(mm)を測定する。
切り込み長さは、デマチャ式耐屈曲試験を3回行ったときの平均値とする。この切り込み長さの平均値をL 5 とする。
切り込み長さ変化率を、式:L 5 /L 0 に基づいて算出する。
(試験条件)
・試験規格:JIS K 6260準拠
・試験機:デマチャ屈曲き裂試験機
・試験温度:23±2℃
・つかみ具間最大距離:75mm
・往復運動距離:57mm
・試験速度:300±10回/分
・試験数:n=3
2. 1.に記載のシリコーンゴム系硬化性組成物であって、
上記の手順に基づいたデマチャ式耐屈曲試験を行い、屈曲回数が1万回のときの前記試験片における切り込み長さをL 1 としたとき、L 1 /L 0 が、1.0以上10.0以下を満たす、
シリコーンゴム系硬化性組成物。
3. 1.または2.に記載のシリコーンゴム系硬化性組成物であって、
前記シリカ粒子(C)の含有量が、前記ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)の全体100重量部に対して、10重量部以上35重量部以下である、シリコーンゴム系硬化性組成物。
4. 1.〜3.のいずれか一つに記載のシリコーンゴム系硬化性組成物であって、
下記の条件で測定される、当該シリコーンゴム系硬化性組成物の引裂強度が、25N/mm以上である、シリコーンゴム系硬化性組成物。
(引裂強度の測定条件)
当該シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物を用いてクレセント形試験片を作製し、得られたクレセント形試験片について、25℃、JIS K6252(2001)に準拠して、引裂強度を測定する。
5. 1.〜4.のいずれか一つに記載のシリコーンゴム系硬化性組成物であって、
下記の条件で測定される、当該シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物の破断伸びが、500%以上であるシリコーンゴム系硬化性組成物。
(破断伸びの測定条件)
当該シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物を用いてJIS K6251(2004)に準拠してダンベル状3号形試験片を作製し、25℃における、得られたダンベル状3号形試験片の破断伸びを測定する。破断伸びは、[チャック間移動距離(mm)]÷[初期チャック間距離(60mm)]×100で計算する。単位は%である。
6. 1.〜5.のいずれか一つに記載のシリコーンゴム系硬化性組成物であって、
下記の条件で測定される、当該シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物の、デュロメータ硬さAが、10以上70以下である、シリコーンゴム系硬化性組成物。
(デュロメータ硬さAの測定条件)
当該シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物を用いてシート状試験片を作製し、得られたシート状試験片について、25℃、JIS K6253(1997)に準拠して、デュロメータ硬さAを測定する。
7. 1.〜6.のいずれか一つに記載のシリコーンゴム系硬化性組成物であって、
下記の条件で測定される、当該シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物の引張強度が、5.0MPa以上である、シリコーンゴム系硬化性組成物。
(引張強度の測定条件)
当該シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物を用いてダンベル状3号形試験片を作製し、得られたダンベル状3号形試験片について、25℃、JIS K6251(2004)に準拠して、引張強度を測定する。
8. 1.〜7.のいずれか一つに記載のシリコーンゴム系硬化性組成物であって、
BET法で測定された前記シリカ粒子(C)比表面積は、200m 2 /g以上500m 2 /g以下である、シリコーンゴム系硬化性組成物。
9. 1.〜8.のいずれか一つに記載のシリコーンゴム系硬化性組成物であって、
屈曲性部材用の成形体を形成するために用いる、シリコーンゴム系硬化性組成物。
10. 1.〜9.のいずれか一つに記載のシリコーンゴム系硬化性組成物であって、
ウェアラブルデバイス用の成形体を形成するために用いる、シリコーンゴム系硬化性組成物。
11. 1.〜10.のいずれか一つに記載のシリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物を備える構造体。
Claims (11)
- ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)と、
シリカ粒子(C)と、を含む、シリコーンゴム系硬化性組成物であって、
当該シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物からなる試験片を用いて、JIS K 6260に準拠したデマチャ式耐屈曲試験を行い、下記の手順に基づいて測定される、屈曲回数が5万回のときの前記試験片における切り込み長さ変化率(L5/L0)が、1.1以上11.5以下である、
シリコーンゴム系硬化性組成物。
(手順)
当該シリコーンゴム系硬化性組成物を、170℃、10MPaで15分間プレスし、続いて、200℃で4時間加熱し、JIS K 6260に準拠して所定形状の試験片を作製する。
得られた試験片の中央において、幅方向に対して平行に、前記試験片を貫通する所定長さの切り込みを入れる。初期の切り込み長さをL0とする。
続いて、切り込み付きの前記試験片を試験機のつかみ具間に設置し、下記の試験条件に基づいて、デマチャ式耐屈曲試験を行い、所定の屈曲回数後の前記試験片における切り込み長さ(mm)を測定する。
切り込み長さは、デマチャ式耐屈曲試験を3回行ったときの平均値とする。この切り込み長さの平均値をL5とする。
切り込み長さ変化率を、式:L5/L0に基づいて算出する。
(試験条件)
・試験規格:JIS K 6260準拠
・試験機:デマチャ屈曲き裂試験機
・試験温度:23±2℃
・つかみ具間最大距離:75mm
・往復運動距離:57mm
・試験速度:300±10回/分
・試験数:n=3 - 請求項1に記載のシリコーンゴム系硬化性組成物であって、
上記の手順に基づいたデマチャ式耐屈曲試験を行い、屈曲回数が1万回のときの前記試験片における切り込み長さをL1としたとき、L1/L0が、1.0以上10.0以下を満たす、
シリコーンゴム系硬化性組成物。 - 請求項1または2に記載のシリコーンゴム系硬化性組成物であって、
前記シリカ粒子(C)の含有量が、前記ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)の全体100重量部に対して、10重量部以上35重量部以下である、シリコーンゴム系硬化性組成物。 - 請求項1〜3のいずれか一項に記載のシリコーンゴム系硬化性組成物であって、
下記の条件で測定される、当該シリコーンゴム系硬化性組成物の引裂強度が、25N/mm以上である、シリコーンゴム系硬化性組成物。
(引裂強度の測定条件)
当該シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物を用いてクレセント形試験片を作製し、得られたクレセント形試験片について、25℃、JIS K6252(2001)に準拠して、引裂強度を測定する。 - 請求項1〜4のいずれか一項に記載のシリコーンゴム系硬化性組成物であって、
下記の条件で測定される、当該シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物の破断伸びが、500%以上であるシリコーンゴム系硬化性組成物。
(破断伸びの測定条件)
当該シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物を用いてJIS K6251(2004)に準拠してダンベル状3号形試験片を作製し、25℃における、得られたダンベル状3号形試験片の破断伸びを測定する。破断伸びは、[チャック間移動距離(mm)]÷[初期チャック間距離(60mm)]×100で計算する。単位は%である。 - 請求項1〜5のいずれか一項に記載のシリコーンゴム系硬化性組成物であって、
下記の条件で測定される、当該シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物の、デュロメータ硬さAが、10以上70以下である、シリコーンゴム系硬化性組成物。
(デュロメータ硬さAの測定条件)
当該シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物を用いてシート状試験片を作製し、得られたシート状試験片について、25℃、JIS K6253(1997)に準拠して、デュロメータ硬さAを測定する。 - 請求項1〜6のいずれか一項に記載のシリコーンゴム系硬化性組成物であって、
下記の条件で測定される、当該シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物の引張強度が、5.0MPa以上である、シリコーンゴム系硬化性組成物。
(引張強度の測定条件)
当該シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物を用いてダンベル状3号形試験片を作製し、得られたダンベル状3号形試験片について、25℃、JIS K6251(2004)に準拠して、引張強度を測定する。 - 請求項1〜7のいずれか一項に記載のシリコーンゴム系硬化性組成物であって、
BET法で測定された前記シリカ粒子(C)比表面積は、200m2/g以上500m2/g以下である、シリコーンゴム系硬化性組成物。 - 請求項1〜8のいずれか一項に記載のシリコーンゴム系硬化性組成物であって、
屈曲性部材用の成形体を形成するために用いる、シリコーンゴム系硬化性組成物。 - 請求項1〜9のいずれか一項に記載のシリコーンゴム系硬化性組成物であって、
ウェアラブルデバイス用の成形体を形成するために用いる、シリコーンゴム系硬化性組成物。 - 請求項1〜10のいずれか一項に記載のシリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物を備える構造体。
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