JP2018070641A - 含フッ素フェノールの製造法 - Google Patents
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Abstract
Description
「 撹拌機、滴下漏斗、温度計を備えた反応容器にp−メトキシフェノール130g、ジメチルホルムアミド900mlおよびトリエチルアミン318gを入れ、20℃以下に冷却した。このものに20℃に保ちながらヘキサフルオロプロペン3量体450gを10分間で滴下し、20℃以下に保ちながら2時間撹拌した。反応後、多量の希塩酸中に反応液を投入し、沈澱した黄色の油状物を回収し、水層が酸性を示さなくなるまで水による洗浄を繰り返した。得られた油状物を蒸留し、4−パーフルオロノネニロキシフェニルメチルエーテル443g得た。bp86〜87℃/4mmHg。
と開示されている。
かかる反応混合物の抽出処理工程は、工程が煩雑で生産性が優れないこと及び該抽出残廃水溶液には大量の水を含み、更に反応溶媒、ハロゲン処理残渣物を含んでおり、廃棄時には健康、環境を著しく害する問題があること、またこれらを分離、回収することは技術的、経済的に非常に難しいこと等の欠陥を有する。
れて、以降の操作に対するフッ酸の影響をなくすことができ、蒸留等の操作により三級アミン、非プロトン性極性溶媒、未反応オリゴマーを簡易、安全に且つ目的化合物のロスも少なく分離回収できることを見出して発明を完成し、上記した該前段製造方法による問題を解決して、すでに上記の該公報にて提供した。
尚、該文献にて開示された新規物質の同定物性値は、本発明者の実施によれば、測定誤差範囲を著しく超えて乖離した値であり、信頼性に欠け、検定値として用いることができないものであり、更に、他に該物質を確認同定する物性値の記載も見当たらない。
(イ) 一般式(1)(C3nF6n−1O)k(RO)mAr(式中、nは2又は3の整数、kは1又は2の整数、mは1〜3の中から選ばれる整数、Rは炭素数が1〜4の中から選ばれる整数のアルキル基、Arは置換基を有することもある芳香族単環及び多環式炭化水素基の中から選ばれる種であることを示す。)で表される含フッ素エーテルを非プロトン性極性溶媒にて溶解させて得られる該含フッ素エーテルの溶解液に、スチレンスルホン酸重合物0.1重量部〜50.0重量部(対該溶解液100重量部)を存在させ水1.0モル〜30.0モル(対該含フッ素エーテル中のRO基1当量)を加えて温度60℃〜120℃にて反応を行い、一般式(2)(C3nF6n−1O)k(HO)mAr(式中、n、k、m及びArは、前記と同じ意味を示す。)で表される含フッ素フェノールの該重合物分散反応生成混合物を得る工程と、
(ロ) 上記(イ)工程で得られる該重合物分散反応生成混合物より水を留去、該重合物固形分を分離し、続いて反応溶媒を留去して該含フッ素フェノール成分を得る工程と、
を含むことを特徴とする含フッ素フェノールの製造法である。
該スチレンスルホン酸重合物は、該重合物が親水性に優れるほど本発明に係る反応が良好に進み操作が簡易であること等により該重合物のスルホン化度が80%以上であることがより好ましい。
(a) 該含フッ素エーテル溶解液に、該スチレンスルホン酸重合物を存在させ別途に水を加えて製造を行う方法、
(b) 該含フッ素エーテル溶解液に、該含水スチレンスルホン酸重合物を存在させ場合により水を添加して製造を行う方法、
等の方法が有用である。
該反応は、該スチレンスルホン酸重合物と水との親和により生成するイオンにより進むため、上記(b)の実施形態がより好ましい。
尚、該固形状の含水スチレンスルホン酸重合物は、n−ヘキサン、クロロホルム、キシレン等の有機溶媒中に、滴下ロートより該スチレンスルホン酸重合物の水溶液を滴下し、場合により部分脱水して粒状物を得る方法等により簡易に得ることでき、より有用である。
又、該溶解液に水を添加する方法は、該反応を良好に行うため水を一括して添加するよりも分割添加することがより好ましい。
更に、該反応系は、大気雰囲気下あるいは不活性ガス雰囲気下で行うことができるが、該重合物分散反応生成混合物の着色を少なくするうえから不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。かかる不活性ガスとしては、具体的には、窒素、ヘリウム、アルゴン、キセノン等が挙げられるが、特に、経済性の面から窒素が好ましい。
尚、上記の(ロ)工程において、上記の(イ)工程で得られる該重合物分散反応生成混
等により簡易に行うことができるが、これらの方法に限定されるものではない。
尚、本発明においては、上記の具体的実施形態に示すものに限らず、目的、用途に応じて、本発明の範囲以内で種々変更した実施形態とすることもできる。
本発明は、
(イ) 一般式(1)(C3nF6n−1O)k(RO)mAr(式中、nは2又は3の整数、kは1又は2の整数、mは1〜3の中から選ばれる整数、Rは炭素数が1〜4の中から選ばれる整数のアルキル基、Arは置換基を有することもある芳香族単環及び多環式炭化水素基の中から選ばれる種であることを示す。)で表される含フッ素エーテルを非プロトン性極性溶媒にて溶解させて得られる該含フッ素エーテルの溶解液に、スチレンスルホン酸重合物0.1重量部〜50.0重量部(対該溶解液100重量部)を存在させ水1.0モル〜30.0モル(対該含フッ素エーテル中のRO基1当量)を加えて温度60℃〜120℃にて反応を行い、一般式(2)(C3nF6n−1O)k(HO)mAr(式中、n、k、m及びArは、前記と同じ意味を示す。)で表される含フッ素フェノールの該重合物分散反応生成混合物を得る工程と、
(ロ) 上記(イ)工程で得られる該重合物分散反応生成混合物より水を留去、該重合物固形分を分離し、続いて反応溶媒を留去して該含フッ素フェノール成分を得る工程と、
を含むことを特徴とする含フッ素フェノールの製造法である。
(い) 一般式(3)(C3nF6n−1O)k(RO)mAr(式中、nは3の整数、kは1の整数、mは1又は2の整数、Rはメチル基、Arは置換基を有することもある芳香族単環式炭化水素基の中から選ばれる種であり該芳香族炭化水素がベンゼンであることを示す。)で表される含フッ素エーテルを非プロトン性極性溶媒にて溶解させて得られる該含フッ素エーテルの溶解液に、スチレンスルホン酸重合物0.1重量部〜30.0重量部(対該溶解液100重量部)を存在させ水1.5モル〜20.0モル(対該含フッ素エーテル中のRO基1当量)を加えて温度70℃〜120℃にて反応を行い、一般式(4)(C3nF6n−1O)k(HO)mAr(式中、n、k、m及びArは、前記と同じ意味を示す。)で表される含フッ素フェノールの該重合物分散反応生成混合物を得る工程と、
(ろ) 上記(い)工程で得られる該重合物分散反応生成混合物より水を留去、該重合物固形分を分離し、続いて反応溶媒を留去して該含フッ素フェノール成分を得る工程と、
を含むことを特徴とする含フッ素フェノールの製造法である。
((a)〜(c)工程):
又、トリエチルアミン留分、オリゴマー留分及びN,N−ジメチルホルムアミド留分は、いずれも純度99.9重量%であった。かかるトリエチルアミン留分、オリゴマー留分及びN,N−ジメチルホルムアミド留分は、いずれも高純度であり、上記(a)工程における原材料として用いることができる。
測定値: C: 34.8%、H: 1.2%、F: 58.1%
計算値: C: 34.7%、H: 1.3%、F: 58.3%
(内部標準物質:TMS、溶媒:d6DMSO)
フェニル基のプロトンに基づく吸収 δ値(ppm): 7.021(4H)
メチル基のプロトンに基づく吸収 δ値(ppm): 3.760(3H)
測定値: [M]+ :554
計算値: [M]+ :554
.9重量%(NV測定)の含水ポリスチレンスルホン酸重合物であった。
240.1gを留去して、半固形状の4−ペルフルオロノネニルオキシフェノールの含フッ素フェノール成分53.5g(純度99.1重量%:液体クロマトグラフ検定)を得た。
測定値: C: 33.5%、H: 1.0%、F: 59.7%
計算値: C: 33.4%、H: 0.9%、F: 59.8%
(内部標準物質:TMS、溶媒:d6DMSO)
フェニル基のプロトンに基づく吸収 δ値(ppm): 6.834 (4H)
HO基のプロトンに基づく吸収 δ値(ppm): 9.638 (1H)
測定値: [M]+ : 540
計算値: [M]+ : 540
半固形状の4−ペルフルオロノネニルオキシフェノールの含フッ素フェノール成分53.0g(純度:98.3重量%:液体クロマトグラフ検定)を得た。
次に、該分散液を撹拌しながら室温まで放冷した後、該分散液より遠心分離器を用いて固液分離し、粒状含水スチレンスルホン酸重合物20.9g(含水率5.7重量%:NV測定)を得た。
((イ)及び(ロ)工程):
6.3重量%(NV測定)の含水スチレンスルホン酸重合物であった。
239.1gを留去して、固形状の5−ペルフルオロノネニルオキシレゾルシノールの含フッ素フェノール成分55.1g(純度98.2重量%:液体クロマトグラフ検定)を得た。
測定値: C: 32.5%、H: 1.0%、F: 58.0%
計算値: C: 32.4%、H: 0.9%、F: 58.1%
(内部標準物質:TMS、溶媒:d6DMSO)
フェニル基のプロトンに基づく吸収 δ値(ppm): 6.831 (2H)
δ値(ppm): 7.185 (1H)
HO基のプロトンに基づく吸収 δ値(ppm): 9.216 (2H)
Claims (1)
- (イ) 一般式(1)(C3nF6n−1O)k(RO)mAr(式中、nは2又は3の整数、kは1又は2の整数、mは1〜3の中から選ばれる整数、Rは炭素数が1〜4の中から選ばれる整数のアルキル基、Arは置換基を有することもある芳香族単環及び多環式炭化水素基の中から選ばれる種であることを示す。)で表される含フッ素エーテルを非プロトン性極性溶媒にて溶解させて得られる該含フッ素エーテルの溶解液に、スチレンスルホン酸重合物0.1重量部〜50.0重量部(対該溶解液100重量部)を存在させ水1.0モル〜30.0モル(対該含フッ素エーテル中のRO基1当量)を加えて温度60℃〜120℃にて反応を行い、一般式(2)(C3nF6n−1O)k(HO)mAr(式中、n、k、m及びArは、前記と同じ意味を示す。)で表される含フッ素フェノールの該重合物分散反応生成混合物を得る工程と、
(ロ) 上記(イ)工程で得られる該重合物分散反応生成混合物より水を留去、該重合物固形分を分離し、続いて反応溶媒を留去して該含フッ素フェノール成分を得る工程と、を含むことを特徴とする含フッ素フェノールの製造法。
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Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5373530A (en) * | 1976-12-09 | 1978-06-30 | Haarmann & Reimer Gmbh | Process for preparing alkylaryl ethers |
JPS61161235A (ja) * | 1985-01-09 | 1986-07-21 | シエル・インターナシヨネイル・リサーチ・マーチヤツピイ・ベー・ウイ | 新規な置換フエニルエーテルおよびその製法 |
JPS63233940A (ja) * | 1987-03-24 | 1988-09-29 | Daikin Ind Ltd | パ−フルオロアルケニロキシフエノ−ル及びその誘導体 |
JPH0344349A (ja) * | 1989-07-13 | 1991-02-26 | Hokko Chem Ind Co Ltd | p―又はm―ヒドロキシベンズアルデヒドの製造法 |
JPH07179384A (ja) * | 1993-12-21 | 1995-07-18 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | 新規含フッ素フェノール誘導体及びその製造法 |
JP2013047193A (ja) * | 2011-08-29 | 2013-03-07 | Osaka Prefecture Univ | レスベラトロールおよびその誘導体の製造方法 |
JP2016135803A (ja) * | 2016-04-05 | 2016-07-28 | 大石 哲也 | ペルフルオロアルケニルオキシ基含有アレーン化合物の製造法 |
-
2017
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5373530A (en) * | 1976-12-09 | 1978-06-30 | Haarmann & Reimer Gmbh | Process for preparing alkylaryl ethers |
JPS61161235A (ja) * | 1985-01-09 | 1986-07-21 | シエル・インターナシヨネイル・リサーチ・マーチヤツピイ・ベー・ウイ | 新規な置換フエニルエーテルおよびその製法 |
JPS63233940A (ja) * | 1987-03-24 | 1988-09-29 | Daikin Ind Ltd | パ−フルオロアルケニロキシフエノ−ル及びその誘導体 |
JPH0344349A (ja) * | 1989-07-13 | 1991-02-26 | Hokko Chem Ind Co Ltd | p―又はm―ヒドロキシベンズアルデヒドの製造法 |
JPH07179384A (ja) * | 1993-12-21 | 1995-07-18 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | 新規含フッ素フェノール誘導体及びその製造法 |
JP2013047193A (ja) * | 2011-08-29 | 2013-03-07 | Osaka Prefecture Univ | レスベラトロールおよびその誘導体の製造方法 |
JP2016135803A (ja) * | 2016-04-05 | 2016-07-28 | 大石 哲也 | ペルフルオロアルケニルオキシ基含有アレーン化合物の製造法 |
Non-Patent Citations (3)
Title |
---|
GREENE'S PROTECTIVE GROUPS IN ORGANIC SYNTHESIS, JPN7018003079, 2007, pages 372 - 382 * |
MENGSHEN, CAI ET AL.: "Studies on C‐glycosides. V. Protection and deprotection of phenolic hydroxy group in the synthesis", ACTA CHIMICA SINICA, vol. 46, no. 10, JPN7018003081, 1988, pages 887 - 894 * |
PETCHMANEE, THANINEE ET AL.: "Solid-supported acids for debenzylation of aryl benzyl ethers", JOURNAL OF ORGANIC CHEMISTRY, vol. 71, no. 7, JPN7018003080, 2006, pages 2892 - 2895 * |
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