JP2018066819A5 - - Google Patents

Claims (10)

1. 表示領域と、該表示領域の外側に位置し、少なくとも一部が曲げ領域である周辺領域とを有する基材と、
   前記基材上に配置され、前記表示領域から前記周辺領域の一部まで延び、且つ前記基材の端部から離間して位置する絶縁層と、
   前記絶縁層の下層に、前記絶縁層の端部から前記曲げ領域側に延び出るように配置される段差緩和層と、
   前記絶縁層および前記段差緩和層上に配置される配線と、
   を有する、表示装置。
2. 前記段差緩和層が前記配線に沿って形成される、請求項１に記載の表示装置。
3. 前記段差緩和層が半導体材料と金属の少なくともいずれかを含む、請求項１または２に記載の表示装置。
4. 前記絶縁層が無機絶縁材料を含む、請求項１から３のいずれかに記載の表示装置。
5. 前記基材上に形成され、前記絶縁層および前記段差緩和層の前記基材側に配置され、無機絶縁材料を含む下地層を有する、請求項１から４のいずれかに記載の表示装置。
6. 前記下地層は、前記段差緩和層と重畳する領域よりも、前記段差緩和層と重畳しない領域においてその膜厚が小さい、請求項５に記載の表示装置。
7. 前記絶縁層が、第１の絶縁層と第２の絶縁層とを含む積層構造を有し、
   前記段差緩和層が、前記第１の絶縁層と第２の絶縁層の少なくともいずれかの端部から前記曲げ領域側に延び出るように配置される、請求項１から６のいずれかに記載の表示装置。
8. 前記配線は、複数本配置され、
   前記段差緩和層は、互いに離間して複数個配置され、
   前記複数個の前記段差緩和層の各々は、前記複数本の前記配線の各々の下に位置する、請求項１から７のいずれかに記載の表示装置。
9. 表示領域と、該表示領域の外側に位置し、少なくとも一部が曲げ領域である周辺領域とを有する基材上で、該周辺領域の一部で、且つ前記表示領域から離間した位置に、段差緩和層を形成する工程と、
   前記段差緩和層を覆うように絶縁層形成用膜を形成する工程と、
   前記絶縁層形成用膜をエッチングによりパターニングして、前記段差緩和層の前記表示領域側の端部のみを覆うように絶縁層を形成する工程と、
   前記絶縁層および前記段差緩和層上に配線を配置する工程と、を含み、
   前記段差緩和層を、前記絶縁層形成用膜よりもエッチングレートが低い材料で形成する、
   表示装置の製造方法。
10. 前記基材には前記段差緩和層の形成前に予め下地層が形成されており、前記エッチングの際に、前記段差緩和層から露出した下地層の少なくとも一部をエッチングする、請求項９に記載の製造方法。