JP2015099287A5 - - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 30
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 23
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 21
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 16
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 claims description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 5
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims 1
- 230000000875 corresponding Effects 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Description
本発明の液晶表示パネルは、絶縁性基板と、ゲート電極と、ゲート絶縁膜と、半導体膜と、信号線と、ソース電極と、ドレイン電極と、平坦化絶縁膜と、画素電極と、層間絶縁膜と、共通電極とを有する。ゲート電極は絶縁性基板上に設けられている。ゲート絶縁膜は絶縁性基板上においてゲート電極を覆っている。半導体膜は、ゲート絶縁膜上に部分的に設けられており、ゲート絶縁膜を介してゲート電極に対向している。信号線は絶縁性基板上に設けられている。ソース電極は、半導体膜上に部分的に設けられており、信号線とつながっている。ドレイン電極は半導体膜上にソース電極から離れて設けられている。ソース電極およびドレイン電極のそれぞれはソース電極側面およびドレイン電極側面を有する。ソース電極側面およびドレイン電極側面は半導体膜上で対向方向において間隔を空けて互いに対向している。平坦化絶縁膜は絶縁性基板上において信号線を覆い表面を平坦化している。平坦化絶縁膜はドレイン電極を部分的に露出する開口部を有する。開口部はドレイン電極上から延びる側壁を有する。画素電極は、平坦化絶縁膜の開口部でドレイン電極に接触する接触部分と、接触部分から直接平坦化絶縁膜の側壁上に延びる配線部分と、配線部分につながり平坦化絶縁膜上に設けられた本体部分とを有する。画素電極は透明導電体から作られている。層間絶縁膜は画素電極を覆っている。層間絶縁膜は、ソース電極を覆っており、かつソース電極側面およびドレイン電極側面の間において半導体膜を直接覆っている。共通電極は、層間絶縁膜上に配置されており、層間絶縁膜を介して画素電極に対向するフリンジが設けられている。
絶縁性基板上において信号線を覆い表面を平坦化するとともに、電極膜を部分的に露出する開口部を有する平坦化絶縁膜が形成される。開口部は電極膜上から延びる側壁を有する。
平坦化絶縁膜を覆い、平坦化絶縁膜の開口部で電極膜に接触する透明導電膜が成膜される。
フォトレジスト膜の第1および第2のフォトレジストパターンをエッチングマスクとして用いて透明導電膜をパターニングすることによって、透明導電体から作られた画素電極が形成される。画素電極は、平坦化絶縁膜の開口部で電極膜に接触する接触部分と、接触部分から直接平坦化絶縁膜の側壁上に延びる配線部分と、配線部分につながり平坦化絶縁膜上に設けられた本体部分とを有する。
本発明によれば、画素電極は、平坦化絶縁膜の開口部でドレイン電極に接触する接触部分と、接触部分から直接平坦化絶縁膜の側壁上に延びる配線部分と、配線部分につながり平坦化絶縁膜上に設けられた本体部分とを有する。この構成により、製造工程のばらつきなどに起因して画素電極が途中で途切れることが抑制される。これにより製造歩留まりが向上する。
図3〜図5と図6(A)および(B)とを参照して、アレイ基板201は、絶縁性基板100と、ゲート電極11と、コンタクト電極12と、ゲート絶縁膜2と、半導体膜3および31と、ソース電極51と、ドレイン電極52と、有機絶縁膜6と、ダミー電極71と、画素電極72と、導電膜74と、層間絶縁膜8と、コンタクト層4、41および42と、共通電極91と、信号線103と、走査線104と、共通配線105とを有する。
特に有機絶縁膜6にテーパ角TA(図21)が設けられることにより、接触部分72aと本体部分72cとをつなぐ配線部分72bをより確実に形成することができる。有機絶縁膜6に対するテーパ角TAの十分な付与は、有機絶縁膜6が有機物からなることから、加熱処理によって容易に行い得る。
Claims (11)
- 絶縁性基板と、
前記絶縁性基板上に設けられたゲート電極と、
前記絶縁性基板上において前記ゲート電極を覆うゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に部分的に設けられ、前記ゲート絶縁膜を介して前記ゲート電極に対向する半導体膜と、
前記絶縁性基板上に設けられた信号線と、
前記半導体膜上に部分的に設けられ、前記信号線とつながるソース電極と、
前記半導体膜上に前記ソース電極から離れて設けられたドレイン電極とを備え、前記ソース電極および前記ドレイン電極のそれぞれはソース電極側面およびドレイン電極側面を有し、前記ソース電極側面および前記ドレイン電極側面は前記半導体膜上で対向方向において間隔を空けて互いに対向し、さらに
前記絶縁性基板上において前記信号線を覆い表面を平坦化する平坦化絶縁膜を備え、前記平坦化絶縁膜は前記ドレイン電極を部分的に露出する開口部を有し、前記開口部は前記ドレイン電極上から延びる側壁を有し、さらに
前記平坦化絶縁膜の前記開口部で前記ドレイン電極に接触する接触部分と、前記接触部分から直接前記平坦化絶縁膜の前記側壁上に延びる配線部分と、前記配線部分につながり前記平坦化絶縁膜上に設けられた本体部分とを有し、透明導電体から作られた画素電極と、
前記画素電極を覆う層間絶縁膜とを備え、前記層間絶縁膜は、前記ソース電極を覆いかつ前記ソース電極側面および前記ドレイン電極側面の間において前記半導体膜を直接覆い、さらに
前記層間絶縁膜上に配置され、前記層間絶縁膜を介して前記画素電極に対向するフリンジが設けられた共通電極と
を備える、液晶表示パネル。 - 前記平坦化絶縁膜の前記開口部は前記絶縁性基板に向かってテーパ形状を有する、請求項1に記載の液晶表示パネル。
- 前記平坦化絶縁膜は感光性を有する樹脂から作られている、請求項1または2に記載の液晶表示パネル。
- 前記画素電極は前記平坦化絶縁膜の前記開口部内での前記対向方向における端部として画素電極端部を有し、前記画素電極端部は前記ドレイン電極上において前記ドレイン電極側面よりも内側に位置する、請求項1〜3のいずれか1項に記載の液晶表示パネル。
- 前記ソース電極上に設けられ前記画素電極と同じ材料から作られたダミー電極をさらに備え、前記ダミー電極は、前記平坦化絶縁膜の前記開口部内で前記画素電極端部に対向するダミー電極端部を有し、前記ダミー電極端部は前記ソース電極側面よりも内側に位置する、請求項4に記載の液晶表示パネル。
- 前記層間絶縁膜はスピンオングラス膜である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の液晶表示パネル。
- 絶縁性基板上にゲート電極を形成する工程と、
前記絶縁性基板上において前記ゲート電極を覆うゲート絶縁膜を形成する工程と、
前記ゲート絶縁膜上に部分的に設けられ前記ゲート絶縁膜を介して前記ゲート電極に対向する半導体膜と、前記絶縁性基板上に設けられた信号線と、前記信号線とつながり前記半導体膜上に設けられた電極膜とを形成する工程と、
前記絶縁性基板上において前記信号線を覆い表面を平坦化するとともに、前記電極膜を部分的に露出する開口部を有する平坦化絶縁膜を形成する工程とを備え、前記開口部は前記電極膜上から延びる側壁を有し、さらに
前記平坦化絶縁膜を覆い、前記平坦化絶縁膜の前記開口部で前記電極膜に接触する透明導電膜を成膜する工程と、
前記透明導電膜上に、開口パターンと、第1の厚さを有する第1のフォトレジストパターンと、前記第1の厚さよりも大きい厚さを有する第2のフォトレジストパターンと、を含むフォトレジスト膜を形成する工程と、
前記フォトレジスト膜の前記第1および第2のフォトレジストパターンをエッチングマスクとして用いて前記透明導電膜をパターニングすることによって、前記平坦化絶縁膜の前記開口部で前記電極膜に接触する接触部分と、前記接触部分から直接前記平坦化絶縁膜の前記側壁上に延びる配線部分と、前記配線部分につながり前記平坦化絶縁膜上に設けられた本体部分とを有し、透明導電体から作られた画素電極を形成する工程と、
前記フォトレジスト膜の前記第1および第2のフォトレジストパターンをエッチングマスクとして用いて前記電極膜をパターニングする工程とを備え、前記電極膜をパターニングする工程は、前記電極膜から、前記信号線とつながるソース電極と、前記ソース電極から離れて設けられ前記画素電極の前記接触部分と接触するドレイン電極とを形成する工程を含み、前記ソース電極および前記ドレイン電極のそれぞれはソース電極側面およびドレイン電極側面を有し、前記ソース電極側面および前記ドレイン電極側面は前記半導体膜上で対向方向において間隔を空けて互いに対向し、さらに
前記第1のフォトレジストパターンを除去しかつ平面レイアウトにおいて前記第2のフォトレジストパターンの少なくとも一部を残存させることによって、前記フォトレジスト膜を狭小化する工程と、
前記フォトレジスト膜を狭小化する工程の後に、前記フォトレジスト膜を用いて前記画素電極をパターニングする工程と、
前記画素電極を覆う層間絶縁膜を形成する工程を備え、前記層間絶縁膜は、前記ソース電極を覆いかつ前記ソース電極側面および前記ドレイン電極側面の間において前記半導体膜を直接覆い、さらに
前記層間絶縁膜上に、前記層間絶縁膜を介して前記画素電極に対向するフリンジが設けられた共通電極を形成する工程と
を備える、液晶表示パネルの製造方法。 - 前記フォトレジスト膜を形成する工程は、多階調マスクを用いて前記フォトレジスト膜を露光する工程を含む、請求項7に記載の液晶表示パネルの製造方法。
- 前記フォトレジスト膜を露光する工程は、第1の透過率を有する第1のマスクパターンと、前記第1の透過率よりも高い第2の透過率を有する第2のマスクパターンと、前記第2の透過率よりも高い第3の透過率を有する第3のマスクパターンとを有する前記多階調マスクを準備する工程を含み、
前記フォトレジスト膜を露光する工程において、前記第2のマスクパターンは、前記フォトレジスト膜のうち前記平坦化絶縁膜の前記開口部の外側に位置する部分のみに対して投影される、請求項8に記載の液晶表示パネルの製造方法。 - 前記フォトレジスト膜を狭小化する工程は、平面レイアウトにおいて前記第2のフォトレジストパターンを狭小化する工程を含む、請求項7〜9のいずれか1項に記載の液晶表示パネルの製造方法。
- 前記フォトレジスト膜を形成する工程は、前記透明導電膜のうち前記平坦化絶縁膜上の部分に前記第1および第2のフォトレジストパターンの各々を形成する工程を含む、請求項7〜10のいずれか1項に記載の液晶表示パネルの製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013239443A JP6308757B2 (ja) | 2013-11-20 | 2013-11-20 | 液晶表示パネルおよび液晶表示パネルの製造方法 |
US14/534,513 US9564459B2 (en) | 2013-11-20 | 2014-11-06 | Liquid crystal display panel and method for manufacturing liquid crystal display panel |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013239443A JP6308757B2 (ja) | 2013-11-20 | 2013-11-20 | 液晶表示パネルおよび液晶表示パネルの製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015099287A JP2015099287A (ja) | 2015-05-28 |
JP2015099287A5 true JP2015099287A5 (ja) | 2016-12-28 |
JP6308757B2 JP6308757B2 (ja) | 2018-04-11 |
Family
ID=53172972
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013239443A Active JP6308757B2 (ja) | 2013-11-20 | 2013-11-20 | 液晶表示パネルおよび液晶表示パネルの製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9564459B2 (ja) |
JP (1) | JP6308757B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6208555B2 (ja) * | 2013-11-18 | 2017-10-04 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示装置 |
US10115746B2 (en) * | 2014-01-08 | 2018-10-30 | Sakai Display Products Corporation | Manufacturing method for active matrix substrate, active matrix substrate and display apparatus |
CN105511188A (zh) * | 2016-02-01 | 2016-04-20 | 昆山龙腾光电有限公司 | 阵列基板和阵列基板的制作方法以及液晶显示装置 |
JP6775325B2 (ja) | 2016-05-13 | 2020-10-28 | 三菱電機株式会社 | 薄膜トランジスタ基板および液晶表示装置 |
CN108735762B (zh) * | 2017-04-24 | 2021-06-15 | 瀚宇彩晶股份有限公司 | 画素结构 |
JP2019101243A (ja) | 2017-12-04 | 2019-06-24 | 三菱電機株式会社 | 液晶表示パネルおよびその製造方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007226175A (ja) | 2006-01-26 | 2007-09-06 | Epson Imaging Devices Corp | 液晶装置及び電子機器 |
JP4544251B2 (ja) * | 2007-02-27 | 2010-09-15 | ソニー株式会社 | 液晶表示素子および表示装置 |
JP5285280B2 (ja) * | 2008-01-07 | 2013-09-11 | 株式会社ジャパンディスプレイウェスト | 液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法 |
KR101881020B1 (ko) * | 2010-12-02 | 2018-07-24 | 삼성디스플레이 주식회사 | 액정 표시 장치 및 그 형성 방법 |
US9064962B2 (en) * | 2010-12-09 | 2015-06-23 | Sharp Kabushiki Kaisha | Thin film transistor array substrate |
US8760595B2 (en) | 2011-09-09 | 2014-06-24 | Lg Display Co., Ltd. | Array substrate for fringe field switching mode liquid crystal display device and method for fabricating the same |
KR101905757B1 (ko) * | 2011-11-17 | 2018-10-10 | 엘지디스플레이 주식회사 | 에프에프에스 방식 액정표시장치용 어레이기판 및 그 제조방법 |
JP6291950B2 (ja) * | 2014-03-25 | 2018-03-14 | セイコーエプソン株式会社 | 印刷媒体、印刷装置および印刷装置の印刷方法 |
-
2013
- 2013-11-20 JP JP2013239443A patent/JP6308757B2/ja active Active
-
2014
- 2014-11-06 US US14/534,513 patent/US9564459B2/en active Active
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