JP2018053301A - めっき装置 - Google Patents

Abstract

【課題】運転を継続しながら基板ホルダのメンテナンスを行うことができるめっき装置を提供する。【解決手段】めっき装置は、基板Ｗをめっきするプロセス部１７０Ｃと、基板Ｗを保持するための基板ホルダ１１を保管する保管容器２０と、プロセス部１７０Ｃと保管容器２０との間で基板ホルダ１１を搬送する搬送機１４０と、保管容器２０に隣接するメンテナンスエリア２１と、保管容器２０に支持された基板ホルダキャリヤ２５とを備える。基板ホルダキャリヤ２５は、基板ホルダ１１を支持した状態で、保管容器２０とメンテナンスエリア２１との間を移動可能に構成されている。【選択図】図１

Description

本発明は、めっき装置に関するものである。

基板ホルダに保持された基板をめっきするめっき装置が知られている。このようなめっき装置においては、基板ホルダは、めっき装置の運転前には保管容器に収容されており、めっき装置の運転が開始されたときに保管容器から取り出される。ウェハなどの基板は基板ホルダにセットされ、基板ホルダは、基板を保持した状態で、搬送機によってプロセス部に搬送される。その後、基板はプロセス部においてめっきされる。

基板が基板ホルダにセットされるとき、基板は、基板が基板ホルダに正常にセットされているかどうか検査される。基板が基板ホルダに正常にセットされていない場合、基板ホルダはプロセス部に搬送されずに保管容器に戻され、作業者は基板ホルダのメンテナンスを行う。

特開２０１２−１１２０２６号公報 特開２００３−２４３４７３号公報 特開２００８−６８９６４号公報 特開２００９−６８０２号公報 米国特許出願公開第２０１２／０３０８３４４号明細書

昨今、めっき装置を含む基板処理装置では、基板の大型化が顕著な傾向となっている。基板が大型化すると、基板ホルダ１個当たりの大きさが増加し、重量も重くなる。そして、従来は、装置外部にあるメンテナンスエリアまで基板ホルダを運んでメンテナンスを行っていたが、上記のような重量が増加した基板ホルダを装置外部にあるメンテナンスエリアまで運ぶのは、作業者の負荷（時間的な負荷と作業的な負荷）が増えることになる。

他方で、装置運転中は、基板ホルダを搬送する搬送機が保管容器の直上を連続的に通過している。そのような状況下において、基板ホルダのメンテナンスのために、作業者が保管容器から基板ホルダを取り出そうとすると、作業者は移動する基板ホルダあるいは搬送機に衝突するおそれがある。そのため、基板ホルダのメンテナンス作業時では、装置の運転を停止せざるをえなかった。しかしながら、基板ホルダのメンテナンスのためにめっき装置の運転を停止すると、装置稼働率が低下し、生産性が下がる。

本発明は、上述した従来の問題点に鑑みてなされたもので、運転を継続しながら基板ホルダのメンテナンスを行うことができるめっき装置を提供することを目的とする。

上述した目的を達成するために、本発明の一態様は、基板をめっきするプロセス部と、前記基板を保持するための基板ホルダを保管する保管容器と、前記プロセス部と前記保管容器との間で前記基板ホルダを搬送する搬送機と、前記保管容器に隣接するメンテナンスエリアと、前記保管容器に支持された基板ホルダキャリヤとを備え、前記基板ホルダキャリヤは、前記基板ホルダを支持した状態で、前記保管容器と前記メンテナンスエリアとの間を移動可能に構成されていることを特徴とするめっき装置である。

本発明の好ましい態様は、前記メンテナンスエリアと前記保管容器との間に配置された隔壁をさらに備えており、前記隔壁は、前記保管容器よりも高い位置にあることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記基板ホルダキャリヤは、前記基板ホルダが載置される台座と、前記台座に取り付けられた転動体とを備えており、前記転動体は前記保管容器に接触していることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記メンテナンスエリア内に配置され、かつ前記基板ホルダおよび前記基板ホルダキャリヤを受け取ることが可能なメンテナンス構造体をさらに備え、前記保管容器は、前記転動体を支持する第１ガイドレールを備えており、前記メンテナンス構造体は、前記転動体を支持する第２ガイドレールを備えており、前記第２ガイドレールは、前記第１ガイドレールと直線状に並ぶことが可能に構成されていることを特徴とする。

本発明の好ましい態様は、前記メンテナンス構造体は、前記第２ガイドレールに固定され、前記第２ガイドレールから下方に延びる作業台と、前記作業台を回転可能に支持する支持部材とを備えていることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記保管容器上には、複数の基板ホルダキャリヤが配列されており、前記メンテナンスエリアは、前記複数の基板ホルダキャリヤの配列方向と平行に延びていることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記メンテナンス構造体は、前記複数の基板ホルダキャリヤの配列方向と平行に移動可能であることを特徴とする。

本発明の好ましい態様は、前記メンテナンス構造体は、前記複数の基板ホルダキャリヤの配列方向と平行に前記メンテナンス構造体を移動可能とする車輪を有していることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記保管容器は、前記メンテナンスエリアに面する扉を有しており、前記扉には、施錠機構が取り付けられていることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記保管容器には、前記保管容器上の所定位置に前記基板ホルダキャリヤが存在するか否かを検知する検知センサが設けられていることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記保管容器は、前記基板ホルダが収容される箱体を備えており、前記箱体の底面は勾配形状を有していることを特徴とする。

基板ホルダキャリヤは、基板ホルダを支持した状態で、保管容器とメンテナンスエリアとの間を移動可能に構成されているため、作業者は、装置内におけるメンテナンスエリアにおいて、負荷（時間的な負荷と作業的な負荷）の増加を抑制しながら、基板ホルダのメンテナンスを実行することができる。
さらに、基板ホルダのメンテナンス作業時において、作業者と搬送機との衝突を防止することができる。結果として、作業者は、めっき装置の運転を継続しながら基板ホルダのメンテナンスを行うことができる。

めっき装置の一実施形態を示す模式図である。 本実施形態に係るめっき装置で使用される基板ホルダの一例を示す概略図である。 図１のＡ線方向から見た図である。 図３のＢ線方向から見た図である。 保管容器および基板ホルダキャリヤを示す斜視図である。 箱体の底面を示す図である。 基板ホルダキャリヤを示す斜視図である。 保管容器に支持された基板ホルダキャリヤと、基板ホルダキャリヤに支持された基板ホルダとを示す図である。 図８のＣ線方向から見た図である。 図８のＤ線方向から見た図である。 保管容器に設けられた検知センサを示す図である。 保管容器に設けられた検知センサを示す図である。 メンテナンスエリア内に配置されたメンテナンス構造体を示す斜視図である。 メンテナンスエリア内に配置されたメンテナンス構造体を示す斜視図である。 メンテナンスエリア内に配置されたメンテナンス構造体を示す斜視図である。 第１ガイドレールと直線状に並ぶ第２ガイドレールを示す図である。 レール位置決め部材を示す図である。 メンテナンス構造体の正面図である。 縦向き姿勢の作業台を示す図である。 横向き姿勢の作業台を示す図である。 図１８のＥ線方向から見た図である。 図２１のＦ−Ｆ線断面図である。 基板ホルダを保管容器からメンテナンス構造体に移動させる順序を示す図である。

以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。なお、以下で説明する図面において、同一または相当する構成要素には、同一の符号を付して重複した説明を省略する。

図１は、めっき装置の一実施形態を示す模式図である。図２は、本実施形態に係るめっき装置で使用される基板ホルダの一例を示す概略図である。図１に示すように、めっき装置は、架台１０１と、めっき装置の運転を制御する制御部１０３と、基板Ｗ（図２参照）をロードおよびアンロードするロード／アンロード部１７０Ａと、基板ホルダ１１（図２参照）に基板Ｗをセットし、かつ基板ホルダ１１から基板Ｗを取り外す基板セット部（メカ室）１７０Ｂと、基板Ｗをめっきするプロセス部（前処理室、めっき室）１７０Ｃと、基板ホルダ１１を格納するホルダ格納部（ストッカ室）１７０Ｄと、めっきされた基板Ｗを洗浄および乾燥する洗浄部１７０Ｅとを備えている。本実施形態に係るめっき装置は、めっき液に電流を流すことで基板Ｗの表面（被めっき面）を金属でめっきする電解めっき装置である。

図１に示すように、架台１０１は、複数の架台部材１０１ａ〜１０１ｈから構成されており、これら架台部材１０１ａ〜１０１ｈは連結可能に構成されている。ロード／アンロード部１７０Ａの構成要素は第１の架台部材１０１ａ上に配置されており、基板セット部１７０Ｂの構成要素は第２の架台部材１０１ｂ上に配置されており、プロセス部１７０Ｃの構成要素は第３の架台部材１０１ｃ〜第６の架台部材１０１ｆ上に配置されており、ホルダ格納部１７０Ｄの構成要素は第７の架台部材１０１ｇおよび第８の架台部材１０１ｈ上に配置されている。

ロード／アンロード部１７０Ａには、めっき前の基板Ｗを収納したカセット（図示しない）が搭載されるロードステージ１０５と、プロセス部１７０Ｃでめっきされた基板Ｗを受け取るカセット（図示しない）が搭載されるアンロードステージ１０７とが設けられている。さらに、ロード／アンロード部１７０Ａには、基板Ｗを搬送する搬送用ロボットからなる基板搬送装置１２２が配置されている。

基板搬送装置１２２はロードステージ１０５に搭載されたカセットにアクセスし、めっき前の基板Ｗをカセットから取り出し、基板Ｗを基板セット部１７０Ｂに渡すように構成されている。基板セット部１７０Ｂでは、めっき前の基板Ｗが基板ホルダ１１にセットされ、めっき後の基板Ｗが基板ホルダ１１から取り出される。

プロセス部１７０Ｃには、プリウェット槽１２６と、プリソーク槽１２８と、第１リンス槽１３０ａと、ブロー槽１３２と、第２リンス槽１３０ｂと、第１めっき槽１０ａと、第２めっき槽１０ｂと、第３リンス槽１３０ｃと、第３めっき槽１０ｃとが配置されている。これら槽１２６，１２８，１３０ａ，１３２，１３０ｂ，１０ａ，１０ｂ，１３０ｃ，１０ｃは、この順に配置されている。

プリウェット槽１２６では、前処理準備として、基板Ｗが純水に浸漬される。プリソーク槽１２８では、基板Ｗの表面に形成されたシード層などの導電層の表面の酸化膜が薬液によってエッチング除去される。第１リンス槽１３０ａでは、プリソーク後の基板Ｗが洗浄液（例えば、純水）で洗浄される。

第１めっき槽１０ａまたは第２めっき槽１０ｂでは、基板Ｗの表面がめっきされる。本実施形態では、第１めっき槽１０ａの内部および第２めっき槽１０ｂの内部には、同一種類のめっき液が貯留されている。基板Ｗは第１めっき槽１０ａ内のめっき液または第２めっき槽１０ｂ内のめっき液に浸漬され、基板Ｗの表面はめっきされる。第３めっき槽１０ｃの内部には、めっき槽１０ａ，１０ｂの内部に貯留されためっき液と同一種類のめっき液が貯留されてもよく、またはめっき槽１０ａ，１０ｂの内部に貯留されためっき液とは異なる種類のめっき液が貯留されてもよい。

第３めっき槽１０ｃ内のめっき液がめっき槽１０ａ，１０ｂ内のめっき液と同一種類である場合、第１リンス槽１３０ａで洗浄された基板Ｗを第３めっき槽１０ｃ内のめっき液に浸漬して、基板Ｗの表面をめっきしてもよい。第３めっき槽１０ｃ内のめっき液がめっき槽１０ａ，１０ｂ内のめっき液と異なる種類である場合、第１めっき槽１０ａまたは第２めっき槽１０ｂでめっきされた基板Ｗを第３めっき槽１０ｃ内のめっき液に浸漬して基板Ｗの表面をめっきしてもよい。

第２リンス槽１３０ｂでは、第１めっき槽１０ａまたは第２めっき槽１０ｂでめっきされた基板Ｗが基板ホルダ１１とともに洗浄液（例えば、純水）で洗浄される。第３リンス槽１３０ｃでは、第３めっき槽１０ｃでめっきされた基板Ｗが基板ホルダ１１とともに洗浄液（例えば、純水）で洗浄される。ブロー槽１３２では、洗浄後の基板Ｗの液切りが行われる。なお、第３めっき槽１０ｃおよび第３リンス槽１３０ｃは必須の構成要素ではなく、必要に応じて設けられてもよい。

プリウェット槽１２６、プリソーク槽１２８、リンス槽１３０ａ〜１３０ｃ、およびめっき槽１０ａ〜１０ｃは、それらの内部に処理液（液体）を貯留できる処理槽である。これら処理槽は、処理液を貯留する複数の処理セルを備えているが、この実施形態に限定されず、これら処理槽は単一の処理セルを備えてもよい。また、これら処理槽の少なくとも一部が単一の処理セルを備えており、他の処理槽は複数の処理セルを備えてもよい。

めっき装置は、基板ホルダ１１を搬送する搬送機１４０をさらに備えている。搬送機１４０はめっき装置の構成要素の間を移動可能に構成されている。搬送機１４０は、基板セット部１７０Ｂからプロセス部１７０Ｃまで水平方向に延びる固定ベース１４２と、固定ベース１４２に沿って移動可能に構成された複数のトランスポータ１４１とを備えている。

これらトランスポータ１４１は、基板ホルダ１１を保持するための可動部（図示しない）をそれぞれ有しており、基板ホルダ１１を保持するように構成されている。トランスポータ１４１は、基板セット部１７０Ｂ、ホルダ格納部１７０Ｄ、およびプロセス部１７０Ｃとの間で基板ホルダ１１を搬送し、さらに基板ホルダ１１を基板Ｗとともに上下動させるように構成されている。トランスポータ１４１の移動機構として、例えばモータとラックアンドピニオンとの組み合わせが挙げられる。なお、本実施形態では、３つのトランスポータが設けられているが、トランスポータの数は本実施形態に限定されない。

基板ホルダ１１の構成について、図２を参照しつつ説明する。図２に示すように、基板ホルダ１１は、基板Ｗが保持される本体部１１０と、本体部１１０の上端に設けられたアーム部１１２とを備えている。本体部１１０は第１部材１１０ａと第２部材１１０ｂとから構成されている。基板ホルダ１１は、第１部材１１０ａおよび第２部材１１０ｂによって基板Ｗを挟持することにより、基板Ｗを保持する。基板ホルダ１１は、アーム部１１２がトランスポータ１４１に保持された状態で搬送される。

基板ホルダ１１は、基板セット部１７０Ｂ内にある図示しない機構により、鉛直姿勢から水平姿勢、または水平姿勢から鉛直姿勢に変換されうる。これにより、例えば、基板ホルダ１１の第１部材１１０ａは基板Ｗを載置した後、基板Ｗを固定する。その後、この第１部材１１０ａが水平姿勢から鉛直姿勢に変換させられて、鉛直姿勢で固定された状態で待機している基板ホルダ１１の第２部材１１０ｂに、基板Ｗを固定した状態のこの第１部材１１０ａが近接して、第１部材１１０ａと第２部材１１０ｂとで基板Ｗを挟持して基板Ｗを保持するようにしてもよい。

基板ホルダ１１は、めっき液が基板Ｗの外端部および裏面に付着しないように、基板Ｗの外端部をシールし、かつ表面を露出させるように基板Ｗを保持する。なお、本実施形態では、基板Ｗは四角形状を有しているが、基板Ｗの形状はこの実施形態に限定されず、例えば、基板Ｗは丸い形状を有してもよい。

基板ホルダ１１に保持された基板Ｗを各処理槽内の処理液に浸漬するとき、アーム部１１２は各処理槽のアーム受け部材（図示しない）の上に配置される。より具体的には、アーム部１１２の下面には２つの突起部１１３が設けられており、これら突起部１１３がアーム受け部材の上に配置される。突起部１１３は基板ホルダ１１を各処理槽にセットするときに、基板ホルダ１１の自重を支持する部分である。本実施形態では、めっき槽１０ａ〜１０ｃは電解めっき槽であるため、アーム部１１２に設けられた給電接点（コネクタ部）１１４がアーム受け部材に設けられた電気接点（図示しない）に接触すると、外部電源から基板Ｗの表面に電流が供給される。

めっきされた基板Ｗは、基板ホルダ１１とともにトランスポータ１４１によって基板セット部１７０Ｂに搬送され、基板セット部１７０Ｂにおいて基板ホルダ１１から取り出される。この基板Ｗは、基板搬送装置１２２によって洗浄部１７０Ｅまで搬送され、洗浄部１７０Ｅで洗浄および乾燥される。その後、基板Ｗは、基板搬送装置１２２によってアンロードステージ１０７に搭載されたカセットに戻される。

次に、ホルダ格納部１７０Ｄについて説明する。図１に示すように、ホルダ格納部１７０Ｄは基板セット部１７０Ｂとプロセス部１７０Ｃとの間に配置されており、ロード／アンロード部１７０Ａ、基板セット部１７０Ｂ、ホルダ格納部１７０Ｄ、およびプロセス部１７０Ｃはこの順に配列されている。ホルダ格納部１７０Ｄには、基板Ｗを保持するための基板ホルダ１１を保管する保管容器２０と、保管容器２０に隣接するメンテナンスエリア２１とが配置されている。図１の網掛け部分はメンテナンスエリア２１を表している。

図３は図１のＡ線方向から見た図である。保管容器２０に隣接するメンテナンスエリア２１は架台１０１（より具体的には、架台部材１０１ｇ，１０１ｈ）の上方に形成されている。メンテナンスエリア２１は、作業者Ｓがメンテナンスエリア２１内で基板ホルダ１１のメンテナンスを実施できる大きさを有している。保管容器２０およびメンテナンスエリア２１は並列に配置され、かつ互いに隣接しており、さらに、メンテナンスエリア２１はめっき装置の外部にも隣接している。したがって、作業者Ｓは、めっき装置の外部からメンテナンスエリア２１に容易に進入することができ、メンテナンスエリア２１から保管容器２０に容易にアクセスすることができる。

図３に示すように、めっき装置は、保管容器２０に支持された基板ホルダキャリヤ２５をさらに備えている。基板ホルダ１１は基板ホルダキャリヤ２５上に載置されており、基板ホルダキャリヤ２５は保管容器２０に支持されている。基板ホルダキャリヤ２５は、基板ホルダ１１を支持した状態で、保管容器２０とメンテナンスエリア２１との間を移動可能に構成されている。保管容器２０および基板ホルダキャリヤ２５の構成については後述する。

図４は図３のＢ線方向から見た図である。なお、図４では、主要な要素のみが図示されており、ホルダ格納部１７０Ｄの一部が図示されている。図４に示すように、ホルダ格納部１７０Ｄは、メンテナンスエリア２１と保管容器２０との間に配置された隔壁（安全カバー）２４を備えており、隔壁２４は保管容器２０よりも高い位置にある。より具体的には、メンテナンスエリア２１には、フレーム２２が設けられており、隔壁２４はフレーム２２の上部に取り付けられている。なお、隔壁２４の数はこの実施形態に限定されない。

このように、めっき装置のホルダ格納部１７０Ｄは隔壁２４を備えているので、作業者Ｓが誤って保管容器２０の上方を通じて基板ホルダ１１にアクセスすることを防止することができる。したがって、作業者Ｓが保管容器２０の上方を移動するトランスポータ１４１（または基板ホルダ１１）に接触することを回避することができる。

隔壁２４には、隔壁２４を取り外すためのつまみ２４ａが取り付けられているが、作業者Ｓの安全の確保のため、隔壁２４は、容易に取り外すことができないようにフレーム２２に取り付けられている。本実施形態では、隔壁２４には図示しないセンサが設けられており、装置稼働中に隔壁２４を取り外すと、搬送機１４０は停止する。

図４に示すように、保管容器２０には、複数の基板ホルダキャリヤ２５がメンテナンスエリア２１の延びる方向に沿って配列されている。つまり、メンテナンスエリア２１は、複数の基板ホルダキャリヤ２５の配列方向と平行に延びている。各基板ホルダキャリヤ２５には、作業者Ｓとトランスポータ１４１（または基板ホルダ１１）との衝突を防止するためのガード２６が設けられている。

保管容器２０は、メンテナンスエリア２１に面する扉３７を備えている。扉３７には、施錠機構６７が取り付けられており、扉３７は容易に取り外すことができないように構成されている。本実施形態では、施錠機構６７は自動ロック機構（例えば、電磁ロック機構）である。

基板ホルダ１１のメンテナンスが不要であるとき、作業者Ｓの基板ホルダ１１へのアクセスを制限するために、扉３７は施錠機構６７によって施錠されている。基板ホルダ１１のメンテナンスが必要である場合、作業者Ｓは、施錠機構６７が解錠可能な状態になった後、扉３７を解錠し、扉３７を取り外す。このようにして、作業者Ｓは基板ホルダ１１にアクセスすることができる。基板ホルダ１１のメンテナンスが必要である場合とは、例えば、基板Ｗが基板ホルダ１１に正常にセットされない場合を意味する。

ここで、一実施形態においては、基板ホルダ１１のメンテナンスが必要である場合、制御部１０３で扉３７を解錠するための信号が生成され、次いで、施錠機構６７を解錠モードにするための信号が入力されて、施錠機構６７が解錠可能な状態になる。さらに、作業者Ｓが、扉３７を解錠するための操作器１０２（図１参照）の画面を操作し、扉３７が解錠されるように構成されてもよい。操作器１０２は、例えばタッチパネル式の操作画面を有する操作器であり、制御部１０３に接続されている。

他の実施形態においては、基板ホルダ１１のメンテナンスが必要である場合、制御部１０３で扉３７を解錠するための信号が生成され、次いで、施錠機構６７を解錠モードにするための信号が入力されて、施錠機構６７が解錠可能な状態になる。さらに、制御部１０３が、扉３７を解錠するための信号を生成し、この信号が、不図示の扉３７の解錠機構に入力されて、解錠機構が駆動することにより、扉３７が解錠されるように構成してもよい。

さらに他の実施形態においては、基板ホルダ１１のメンテナンスが必要である場合、作業者Ｓは操作器１０２の画面を操作して、施錠機構６７を解錠モードにするボタンを押す。このような作業者Ｓが入力した解錠信号が、制御部１０３に入力され、ここで扉３７を解錠するための信号が生成されて、施錠機構６７を解錠モードにするための信号が入力されて、施錠機構６７が解錠可能な状態になる。さらに、作業者Ｓが、扉３７を解錠するための操作器１０２の画面を操作し、扉３７が解錠されるようにしてもよい。

作業者Ｓは、扉３７の解錠後、扉３７を取り外し、基板ホルダ１１が支持された基板ホルダキャリヤ２５を保管容器２０からメンテナンスエリア２１（より具体的には、図３に示すメンテナンス構造体５０）に移動させる。その後、作業者Ｓはメンテナンスエリア２１において、基板ホルダ１１のメンテナンスを行う。メンテナンス構造体５０の詳細については後述する。

保管容器２０および基板ホルダキャリヤ２５の構造について説明する。図５は保管容器２０および基板ホルダキャリヤ２５を示す斜視図である。なお、図５において、基板ホルダ１１の図示は省略されており、ホルダ格納部１７０Ｄの一部が図示されている。図５に示すように、保管容器２０には、複数の基板ホルダキャリヤ２５が支持されている。

保管容器２０は、保管容器２０の壁および底を構成する箱体３６と、箱体３６を覆うように配置される容器フレーム３５とから基本的に構成されている。容器フレーム３５は、強固な材料（例えば金属）から構成されており、架台１０１の長手方向に沿って延びている。容器フレーム３５上には、基板ホルダキャリヤ２５が支持される複数の第１ガイドレール３８が配置されている。第１ガイドレール３８は容器フレーム３５と一体的に構成されてもよい。第１ガイドレール３８は架台１０１の幅方向と平行に延びている。なお、架台１０１の長手方向はロード／アンロード部１７０Ａ、基板セット部１７０Ｂ、ホルダ格納部１７０Ｄ、およびプロセス部１７０Ｃの配列方向と平行な方向と定義され、架台１０１の幅方向は架台１０１の長手方向と直交する方向と定義される。

箱体３６は、基板ホルダ１１を収容するように構成されている。基板ホルダ１１には処理液（液体）が付着していることがあり、この処理液は箱体３６に落下することがある。したがって、箱体３６は、処理液に対する耐性を有する材料（例えば樹脂）から構成されている。箱体３６は仕切り板（図示しない）によって複数の空間に区画されており、複数の基板ホルダ１１は、複数の空間内にそれぞれ配置される。

本実施形態では、保管容器２０は複数の（５個の）箱体３６を備えており、各箱体３６は１枚の仕切り板によって仕切られている。図１に示すように、ホルダ格納部１７０Ｄには２つの保管容器２０が配置されているため、ホルダ格納部１７０Ｄには合計１０個の箱体３６が配置されている。したがって、ホルダ格納部１７０Ｄには、２０個の基板ホルダ１１を格納することができる。ただし、保管容器２０の数および箱体３６の数はこの実施形態に限定されず、めっき装置の稼働条件に応じて、保管容器２０の数および箱体３６の数を変更してもよい。

一実施形態では、保管容器２０は、格納される基板ホルダ１１と同じ数の箱体３６を備えてもよい。例えば、２０個の基板ホルダ１１をホルダ格納部１７０Ｄに格納する場合、２０個の箱体３６をホルダ格納部１７０Ｄに配置してもよい。他の実施形態では、保管容器２０は単一の箱体３６を備えており、複数の基板ホルダ１１がこの箱体３６内に収容されてもよい。

図６は箱体３６の底面を示す図である。図６に示すように、箱体３６の底面３９は勾配形状を有している。より具体的には、箱体３６の底面３９は制御部１０３側からメンテナンスエリア２１側に向かって下方に傾斜する傾斜面である。この底面３９の最も低い位置には、開口３９ａが形成されており、この開口３９ａにはドレンライン４９が接続されている。したがって、基板ホルダ１１に付着した処理液が箱体３６に落下すると、処理液は、箱体３６の底面３９を流下し、開口３９ａおよびドレンライン４９を通じて移送される。なお、箱体３６の底面３９の傾斜角度は、基板ホルダ１１が箱体３６に収容されたときに基板ホルダ１１が底面３９に接触しない角度である。

次に、基板ホルダキャリヤ２５について図７を参照しつつ説明する。図７は基板ホルダキャリヤ２５を示す斜視図である。基板ホルダキャリヤ２５は、基板ホルダ１１が載置される矩形状の台座３０と、台座３０に取り付けられた複数の転動体３１とを備えている。台座３０には、その中央において開口する開口３０ａと、基板ホルダ１１（より具体的には、基板ホルダ１１の突起部１１３）が支持されるホルダ受け部３０ｂとが設けられている。

転動体３１は台座３０の下面に取り付けられており、保管容器２０の第１ガイドレール３８に接触している。例えば、転動体３１は、ローラーと、ローラーを回転自在に保持する保持具とから構成される車輪である。本実施形態では、８個の転動体３１が取り付けられているが、転動体３１の数はこの実施形態に限定されない。台座３０のメンテナンスエリア２１側には、ハンドル３２が取り付けられており、作業者Ｓはハンドル３２を把持して基板ホルダキャリヤ２５を移動させることができる。

基板ホルダキャリヤ２５の台座３０の上面には、基板ホルダ１１の位置を決定（固定）するためのホルダ位置決め部材（位置決めピン）３３が取り付けられている。基板ホルダ１１のアーム部１１２の両端には、位置決め具１１５（図２参照）が設けられており、位置決め具１１５には、ホルダ位置決め部材３３が挿入される位置決め穴１１５ａ（図２参照）が形成されている。ホルダ位置決め部材３３が位置決め具１１５の位置決め穴１１５ａに挿入されることにより、基板ホルダ１１と基板ホルダキャリヤ２５との相対位置が決定（固定）される。

開口３０ａは基板ホルダ１１が挿入される大きさを有しており、ホルダ受け部３０ｂは、開口３０ａの両側において台座３０に固定されている。トランスポータ１４１は、基板ホルダキャリヤ２５の上方の所定位置まで基板ホルダ１１を搬送し、その後、基板ホルダ１１を下降させる。すると、基板ホルダ１１の本体部１１０は、基板ホルダキャリヤ２５の開口３０ａを通じて保管容器２０（より具体的には、箱体３６）内に挿入され、基板ホルダキャリヤ２５のホルダ位置決め部材３３は位置決め具１１５の位置決め穴１１５ａに挿入される。このようにして、基板ホルダ１１は、基板ホルダキャリヤ２５に鉛直姿勢に支持された状態で、かつ基板ホルダキャリヤ２５との相対位置が決定された状態で、保管容器２０に収容される。

図８は、保管容器２０に支持された基板ホルダキャリヤ２５と、基板ホルダキャリヤ２５に支持された基板ホルダ１１とを示す図である。図９は図８のＣ線方向から見た図である。図１０は図８のＤ線方向から見た図である。基板ホルダキャリヤ２５は、第１ガイドレール３８上に載置されており、基板ホルダ１１を支持した状態で、第１ガイドレール３８が延びる方向に沿って移動可能である（図９の矢印参照）。保管容器２０は架台１０１（より具体的には、架台部材１０１ｇ，１０１ｈ）に支持されており、基板ホルダキャリヤ２５は保管容器２０とは独立して移動可能である。したがって、保管容器２０を移動させることなく、基板ホルダキャリヤ２５（および基板ホルダ１１）を保管容器２０とメンテナンスエリア２１（より具体的には、メンテナンス構造体５０）との間で移動させることができる。

図８に示すように、基板ホルダ１１が基板ホルダキャリヤ２５に支持されたとき、ホルダ受け部３０ｂは、給電接点１１４がホルダキャリヤ２５の台座３０に接触しない高さを有している。ホルダ受け部３０ｂを設けることにより、給電接点１１４の台座３０への接触を防止することができる。結果として、給電接点１１４に異物が付着することを防止することができる。ホルダ受け部３０ｂおよび突起部１１３の合計の高さが、給電接点１１４が台座３０に接触しない高さであってもよい。

図８乃至図１０に示すように、１つの基板ホルダ１１は、１つの基板ホルダキャリヤ２５に支持される。保管容器２０には、複数の基板ホルダキャリヤ２５が支持されており、これら複数の基板ホルダキャリヤ２５は、それぞれ、個別的に移動可能である。したがって、メンテナンス作業の対象でない基板ホルダ１１を保管容器２０に収容させたまま、メンテナンス作業の対象である基板ホルダ１１を保管容器２０からメンテナンスエリア２１（より具体的には、メンテナンス構造体５０）に移動させることができる。

次に、保管容器２０の所定位置に基板ホルダキャリヤ２５が存在するか否かを検知する検知センサ４０について、図１１および図１２を参照しつつ説明する。図１１および図１２は保管容器２０に設けられた検知センサ４０を示す図である。図１１および図１２では、図面を見やすくするために、ハンドル３２の図示は省略されている。

上述したように、基板ホルダキャリヤ２５は保管容器２０とは独立に移動可能に構成されているため、基板ホルダキャリヤ２５は、めっき装置の運転中において、メンテナンスエリア２１（より具体的には、メンテナンス構造体５０）に移動し、保管容器２０上の所定位置に存在しないことがある。したがって、制御部１０３が保管容器２０上の所定位置に存在する基板ホルダキャリヤ２５を認識できるように、保管容器２０上の所定位置に基板ホルダキャリヤ２５が存在するか否かを検知する検知センサ４０が設けられている。

検知センサ４０は、基板ホルダキャリヤ２５が保管容器２０上に存在していることを示す検知信号を制御部１０３に送信するように構成されている。制御部１０３は、検知センサ４０から送られた検知信号に基づいて、基板ホルダキャリヤ２５が保管容器２０上の所定位置に存在していることを認識することができる。

検知センサ４０は保管容器２０（より具体的には、第１ガイドレール３８）に取り付けられており、検知センサ４０のセンサ部４０ａは第１ガイドレール３８の上方に位置している。基板ホルダキャリヤ２５の台座３０には、検知ピン４１が取り付けられている。本実施形態では、検知センサ４０は検知ピン４１のピン部４１ａの先端とセンサ部４０ａとの距離に反応して基板ホルダキャリヤ２５の有無を検知する反射式センサである。

作業者Ｓが基板ホルダキャリヤ２５を保管容器２０上の所定位置まで移動させ（図１１参照）、検知ピン４１を押し込むと、検知ピン４１のピン部４１ａが検知センサ４０のセンサ部４０ａに近接する（図１２参照）。結果として、検知センサ４０は基板ホルダキャリヤ２５が保管容器２０上の所定位置に存在していることを検知し、検知信号を制御部１０３に送信し、制御部１０３は基板ホルダキャリヤ２５の存在を認識する。一実施形態では、基板ホルダキャリヤ２５が保管容器２０上の所定位置に存在していることが操作器１０２（図１参照）の操作画面に表示される。

検知センサ４０の上方には、基板ホルダキャリヤ２５と保管容器２０との相対位置を決定（固定）するキャリヤ位置決め部材４２が設けられている。キャリヤ位置決め部材４２には、検知ピン４１のピン部４１ａが挿入される穴が形成されている。検知ピン４１のピン部４１ａがキャリヤ位置決め部材４２の穴に挿入されると、検知ピン４１が取り付けられた基板ホルダキャリヤ２５と検知センサ４０が取り付けられた保管容器２０との相対位置が決定される。本実施形態では、検知ピン４１を押し込むことにより、基板ホルダキャリヤ２５と保管容器２０との相対位置が決定され、さらに、検知センサ４０が基板ホルダキャリヤ２５の存在を検知することができる。

メンテナンス構造体５０について図面を参照しつつ説明する。図１３乃至図１５はメンテナンスエリア２１内に配置されたメンテナンス構造体５０を示す斜視図である。図１３乃至図１５では、基板ホルダ１１、保管容器２０、基板ホルダキャリヤ２５、およびメンテナンス構造体５０は模式的に図示されており、ホルダ格納部１７０Ｄの一部が図示されている。

メンテナンス構造体５０は、基板ホルダ１１および基板ホルダキャリヤ２５を受け取ることが可能に構成されている。メンテナンス構造体５０は、メンテナンスエリア２１内に配置されており、保管容器２０に隣接しており、さらに、架台１０１（より具体的には、架台部材１０１ｇまたは架台部材１０１ｈ）に支持されている。以下、架台部材１０１ｇ，１０１ｈをまとめて架台１０１と呼ぶことがある。

メンテナンス構造体５０は、複数の基板ホルダキャリヤ２５の配列方向と平行に移動可能である。具体的には、架台１０１には、メンテナンス構造体５０の移動をガイドするベースガイド６０が設けられている。ベースガイド６０は複数の基板ホルダキャリヤ２５の配列方向と平行に延びており、メンテナンス構造体５０はベースガイド６０が延びる方向に沿って移動することができる（図１３参照）。本実施形態では、ベースガイド６０は架台１０１に形成された溝であるが、ベースガイド６０は架台１０１に敷設されたレールであってもよい。

メンテナンス構造体５０は、基板ホルダキャリヤ２５の転動体３１（図７参照）を支持する第２ガイドレール５１と、第２ガイドレール５１に固定され、第２ガイドレール５１から下方に延びる作業台５５と、作業台５５を回転可能に支持する支持部材５６とを備えている。第２ガイドレール５１は、第１ガイドレール３８と直線状に並ぶことが可能に構成されている。つまり、第２ガイドレール５１は、第１ガイドレール３８と同様に、架台１０１の幅方向と平行に延びている。

図１６は第１ガイドレール３８と直線状に並ぶ第２ガイドレール５１を示す図である。図１６に示すように、メンテナンス構造体５０は、第２ガイドレール５１が第１ガイドレール３８と直線状に並ぶようにメンテナンスエリア２１内を移動する（図１６の矢印Ｍ１参照）。第１ガイドレール３８と第２ガイドレール５１との間には僅かな隙間が形成されているため、メンテナンス構造体５０がメンテナンスエリア２１内を移動しても第２ガイドレール５１は第１ガイドレール３８に接触しない。

基板ホルダ１１が支持された基板ホルダキャリヤ２５は、第２ガイドレール５１が第１ガイドレール３８と直線状に並んだ状態で、保管容器２０からメンテナンス構造体５０に移動する（図１６の矢印Ｍ２参照）。結果として、図１４に示すように、基板ホルダ１１が支持された基板ホルダキャリヤ２５は、メンテナンスエリア２１内に配置されたメンテナンス構造体５０に支持される。このようにして、基板ホルダキャリヤ２５は、基板ホルダ１１を支持した状態で、保管容器２０からメンテナンスエリア２１内のメンテナンス構造体５０に移動することができる。

第２ガイドレール５１が第１ガイドレール３８と直線状に並んでいない場合、基板ホルダキャリヤ２５は保管容器２０からメンテナンス構造体５０に移動できないおそれがある。そこで、第１ガイドレール３８および第２ガイドレール５１には、第１ガイドレール３８と第２ガイドレール５１との相対位置を決定（固定）するレール位置決め部材５２が設けられている。図１７はレール位置決め部材５２を示す図である。本実施形態では、レール位置決め部材５２はスライドラッチであるが、第１ガイドレール３８と第２ガイドレール５１との相対位置を決定することができれば、レール位置決め部材５２はスライドラッチに限定されない。

図１７に示すように、レール位置決め部材５２は、第２ガイドレール５１に固定された本体５２ａと、第１ガイドレール３８に固定された受座５２ｂと、施錠位置と解錠位置との間を直線往復運動するように本体５２ａに取り付けられた棒体５２ｃとを備えている。第１ガイドレール３８が第２ガイドレール５１と直線状に並んだ状態において、棒体５２ｃが受座５２ｂに形成された穴に挿入されると、第１ガイドレール３８と第２ガイドレール５１との相対位置は決定（固定）される。このようにして、第２ガイドレール５１の第１ガイドレール３８からのずれを防止することができるため、基板ホルダキャリヤ２５を保管容器２０からメンテナンス構造体５０に、安全に、かつ確実に移動させることができる。

図１８はメンテナンス構造体５０の正面図である。図１８において、メンテナンス構造体５０には、基板ホルダ１１が支持された基板ホルダキャリヤ２５が支持されている。図１８に示すように、メンテナンス構造体５０は、複数の基板ホルダキャリヤ２５の配列方向と平行にメンテナンス構造体５０を移動可能とする車輪５９を有している。車輪５９は支持部材５６の下端に取り付けられている。

支持部材５６の下部には、固定ピン５８が挿入される挿入穴が形成された固定プレート５７が取り付けられている。固定ピン５８はメンテナンス構造体５０を架台１０１に固定するためのピンである。架台１０１の所定位置には、固定ピン５８が挿入されるピン穴が形成されている。固定プレート５７は架台１０１の上方に位置しており、固定プレート５７と架台１０１との間には、僅かな隙間が形成されている。したがって、固定ピン５８を取り外し、メンテナンス構造体５０を移動する場合、固定プレート５７は架台１０１に接触しない。

作業台５５は、保管容器２０からメンテナンス構造体５０に移動する基板ホルダ１１の通過を許容するように構成されている。一実施形態では、作業台５５の周壁の一部に基板ホルダ１１の通過を許容するスリットが形成されている。

図１８に示すように、作業台５５には開口６９が形成されており、作業台５５の内部には、基板ホルダ１１が収容される空間が形成されている。作業台５５内の空間は開口６９を介して作業台５５の外部（すなわち、メンテナンスエリア２１）に連通している。したがって、作業者Ｓは作業台５５の開口６９を通じて作業台５５の内部の空間に収容された基板ホルダ１１にアクセスすることができる。

作業台５５は軸部材６６を介して支持部材５６に回転可能に支持されている。軸部材６６は作業台５５の両側から支持部材５６まで延びている。作業台５５は、軸部材６６を支点として、縦向き姿勢から横向き姿勢に転換される。このとき、メンテナンス構造体５０を固定ピン５８によって架台１０１に固定することにより、メンテナンス構造体５０の移動を防止することができる。したがって、作業者Ｓは安全に作業台５５を縦向き姿勢から横向き姿勢に転換することができる。

図１９は縦向き姿勢の作業台５５を示す図であり、図２０は横向き姿勢の作業台５５を示す図である。基板ホルダ１１が支持された基板ホルダキャリヤ２５がメンテナンス構造体５０上の所定位置まで移動すると、作業台５５は、時計回り方向に回転して、縦向き姿勢から横向き姿勢に転換される。作業台５５の転換により、メンテナンス構造体５０に支持された基板ホルダキャリヤ２５および基板ホルダ１１も縦向き姿勢から横向き姿勢に転換される。このような作業台５５の転換により、作業台５５の開口６９および基板ホルダ１１のメンテナンス面は上向きになるため、作業者Ｓは作業台５５の開口６９を通じて基板ホルダ１１のメンテナンス面にアクセスすることができる。結果として、作業者Ｓは、安定した姿勢で基板ホルダ１１のメンテナンスを容易に行うことができる。

支持部材５６には、作業台５５の回転を制限するストッパー６１が固定されている。作業台５５が横向き姿勢に転換されると、作業台５５はストッパー６１に接触し、作業台５５の時計回り方向の回転が制限される。作業台５５をストッパー６１に接触させた状態で、作業台５５と架台１０１との間に脚部材６２（図１５および図２０参照）を配置すると、作業台５５の反時計回り方向の回転が制限される。このように、ストッパー６１および脚部材６２は、作業台５５の支持部材５６に対する両方向の回転を制限することができるので、作業台５５の姿勢を安定させることができる。

図２１は図１８のＥ線方向から見た図であり、図２２は図２１のＦ−Ｆ線断面図である。作業台５５が縦向き姿勢から横向き姿勢に転換されたとき、基板ホルダ１１および／または基板ホルダキャリヤ２５が作業台５５から落下するおそれがある。そこで、図２１および図２２に示すように、メンテナンス構造体５０は、基板ホルダキャリヤ２５の落下を防止するためのキャリヤサポーター６５Ａと、基板ホルダ１１の落下を防止するためのホルダサポーター６５Ｂとを備えている。

キャリヤサポーター６５Ａは、逆Ｌ字形状を有する２つのサポート要素から構成されており、作業台５５の上部に固定されている。これらサポート要素は、それぞれ、第２ガイドレール５１に支持された基板ホルダキャリヤ２５に向かって屈曲している。キャリヤサポーター６５Ａの屈曲部は基板ホルダキャリヤ２５の上方に位置しており、基板ホルダキャリヤ２５の作業台５５から離間する方向への移動を制限している。したがって、作業台５５が縦向き姿勢から横向き姿勢に転換されても、基板ホルダキャリヤ２５の作業台５５からの落下を防止することができる。

ホルダサポーター６５Ｂは、コの字形状を有しており、作業台５５の上部に固定されている。ホルダサポーター６５Ｂは、基板ホルダキャリヤ２５に支持された基板ホルダ１１の上方を横断するように延びており、基板ホルダ１１の作業台５５から離間する方向への移動を制限している。したがって、作業台５５が縦向き姿勢から横向き姿勢に転換されても、基板ホルダ１１の作業台５５からの落下を防止することができる。

次に、基板ホルダキャリヤ２５に支持された基板ホルダ１１を保管容器２０からメンテナンス構造体５０に移動させる順序について図２３を参照しつつ説明する。図２３は基板ホルダ１１を保管容器２０からメンテナンス構造体５０に移動させる順序を示す図である。

まず、メンテナンスを行うべき基板ホルダ１１が支持された基板ホルダキャリヤ２５をメンテナンス構造体５０に移動させるために、移動すべき基板ホルダキャリヤ２５に対応する扉３７が解錠される（図２３のＪ１参照）。その後、作業者Ｓは、解錠された扉３７を取り外し、第２ガイドレール５１が第１ガイドレール３８と直線状に並ぶように、メンテナンス構造体５０を移動させる（図２３のＪ２参照）。次いで、作業者Ｓは、レール位置決め部材５２により第１ガイドレール３８と第２ガイドレール５１との相対位置を決定し、基板ホルダ１１が支持された基板ホルダキャリヤ２５を、第１ガイドレール３８および第２ガイドレール５１を通じて保管容器２０からメンテナンス構造体５０に移動させる（図２３のＪ３参照）。

作業者Ｓは、基板ホルダキャリヤ２５をメンテナンス構造体５０上の所定位置まで移動させた後、作業台５５が縦向き姿勢から横向き姿勢に転換することができる位置まで、メンテナンス構造体５０を移動し、固定ピン５８によりメンテナンス構造体５０を架台１０１に固定する（図２３のＪ４参照）。その後、作業者Ｓは、作業台５５を縦向き姿勢から横向き姿勢に転換する（図２３のＪ５参照）。この状態で、作業者Ｓは、作業台５５と架台１０１との間に脚部材６２を配置し、作業台５５を横向き姿勢に維持する。その後、作業者Ｓはメンテナンスエリア２１内において基板ホルダ１１のメンテナンスを行う（図２３のＪ６参照）。

本実施形態によれば、基板ホルダキャリヤ２５は、基板ホルダ１１を支持した状態で保管容器２０とメンテナンスエリア２１（より具体的には、メンテナンス構造体５０）との間を移動可能に構成されており、メンテナンスエリア２１はトランスポータ１４１が走行する走行エリアの外部に位置している（図３参照）。つまり、メンテナンスエリア２１はトランスポータ１４１の走行エリアとは隔離されている。したがって、メンテナンスエリア２１内の作業者Ｓは、走行するトランスポータ１４１に接触することなく、基板ホルダキャリヤ２５を基板ホルダ１１とともにメンテナンスエリア２１（より具体的には、メンテナンス構造体５０）に移動させることができる。結果として、作業者Ｓは、めっき装置の運転を継続しながら基板ホルダ１１のメンテナンスを安全に行うことができる。このようにして、めっき装置の信頼性および生産性を向上することができる。

基板Ｗが保持された基板ホルダ１１は処理槽内の処理液に浸漬されるため、トランスポータ１４１によって保管容器２０の直上を移動する基板ホルダ１１に処理液が付着していることがある。本実施形態によれば、基板ホルダキャリヤ２５は保管容器２０とは独立して移動可能であるため、基板ホルダキャリヤ２５がメンテナンスエリア２１（より具体的には、メンテナンス構造体５０）に移動しても、保管容器２０は移動せず、所定の位置に常に存在している。したがって、保管容器２０の直上を搬送される基板ホルダ１１に付着した処理液が落下しても、処理液を確実に回収することができる。

近年、基板の大型化に伴い、基板ホルダのサイズも大きくなり、その重量も増加している。したがって、このような大型の基板ホルダをめっき装置の外部まで移動させて、メンテナンス作業を行うよりも装置の内部でメンテナンス作業を行うことにより、作業者Ｓの作業の負担軽減につながり、望ましい。本実施形態によれば、作業者Ｓは、めっき装置内のメンテナンスエリア２１内において基板ホルダ１１のメンテナンスを行うことができるため、基板ホルダ１１をめっき装置の外部に移動させる必要はない。結果として、基板ホルダ１１のメンテナンスに要する時間を短縮することができる。

上述した実施形態は、本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者が本発明を実施できることを目的として記載されたものである。上記実施形態の種々の変形例は、当業者であれば当然になしうることであり、本発明の技術的思想は他の実施形態にも適用しうることである。したがって、本発明は、記載された実施形態に限定されることはなく、特許請求の範囲によって定義される技術的思想に従った最も広い範囲に解釈されるものである。

１１ 基板ホルダ
２０ 保管容器
２１ メンテナンスエリア
２２ フレーム
２４ 隔壁
２５ 基板ホルダキャリヤ
３０ 台座
３１ 転動体
３３ ホルダ位置決め部材
３５ 容器フレーム
３６ 箱体
３７ 扉
３８ 第１ガイドレール
３９ 底面
４０ 検知センサ
４１ 検知ピン
４１ａ ピン部
４２ キャリヤ位置決め部材
５０ メンテナンス構造体
５１ 第２ガイドレール
５２ レール位置決め部材
５５ 作業台
５６ 支持部材
５９ 車輪
６０ ベースガイド
６５Ａ キャリヤサポーター
６５Ｂ ホルダサポーター
６６ 軸部材
６７ 施錠機構
１０１ 架台
１０２ 操作器
１０３ 制御部
１４０ 搬送機
１４１ トランスポータ
１４２ 固定ベース
１７０Ａ ロード／アンロード部
１７０Ｂ 基板セット部
１７０Ｃ プロセス部
１７０Ｄ ホルダ格納部
１７０Ｅ 洗浄部

Claims (11)

1. 基板をめっきするプロセス部と、
   前記基板を保持するための基板ホルダを保管する保管容器と、
   前記プロセス部と前記保管容器との間で前記基板ホルダを搬送する搬送機と、
   前記保管容器に隣接するメンテナンスエリアと、
   前記保管容器に支持された基板ホルダキャリヤとを備え、
   前記基板ホルダキャリヤは、前記基板ホルダを支持した状態で、前記保管容器と前記メンテナンスエリアとの間を移動可能に構成されていることを特徴とするめっき装置。
2. 前記メンテナンスエリアと前記保管容器との間に配置された隔壁をさらに備えており、
   前記隔壁は、前記保管容器よりも高い位置にあることを特徴とする請求項１に記載のめっき装置。
3. 前記基板ホルダキャリヤは、
   前記基板ホルダが載置される台座と、
   前記台座に取り付けられた転動体とを備えており、
   前記転動体は前記保管容器に接触していることを特徴とする請求項１に記載のめっき装置。
4. 前記メンテナンスエリア内に配置され、かつ前記基板ホルダおよび前記基板ホルダキャリヤを受け取ることが可能なメンテナンス構造体をさらに備え、
   前記保管容器は、前記転動体を支持する第１ガイドレールを備えており、
   前記メンテナンス構造体は、前記転動体を支持する第２ガイドレールを備えており、
   前記第２ガイドレールは、前記第１ガイドレールと直線状に並ぶことが可能に構成されていることを特徴とする請求項３に記載のめっき装置。
5. 前記メンテナンス構造体は、
   前記第２ガイドレールに固定され、前記第２ガイドレールから下方に延びる作業台と、
   前記作業台を回転可能に支持する支持部材とを備えていることを特徴とする請求項４に記載のめっき装置。
6. 前記保管容器上には、複数の基板ホルダキャリヤが配列されており、
   前記メンテナンスエリアは、前記複数の基板ホルダキャリヤの配列方向と平行に延びていることを特徴とする請求項４に記載のめっき装置。
7. 前記メンテナンス構造体は、前記複数の基板ホルダキャリヤの配列方向と平行に移動可能であることを特徴とする請求項６に記載のめっき装置。
8. 前記メンテナンス構造体は、前記複数の基板ホルダキャリヤの配列方向と平行に前記メンテナンス構造体を移動可能とする車輪を有していることを特徴とする請求項７に記載のめっき装置。
9. 前記保管容器は、前記メンテナンスエリアに面する扉を有しており、
   前記扉には、施錠機構が取り付けられていることを特徴とする請求項１に記載のめっき装置。
10. 前記保管容器には、前記保管容器上の所定位置に前記基板ホルダキャリヤが存在するか否かを検知する検知センサが設けられていることを特徴とする請求項１に記載のめっき装置。
11. 前記保管容器は、前記基板ホルダが収容される箱体を備えており、
    前記箱体の底面は勾配形状を有していることを特徴とする請求項１に記載のめっき装置。

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