JP2018053301A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2018053301A5
JP2018053301A5 JP2016189742A JP2016189742A JP2018053301A5 JP 2018053301 A5 JP2018053301 A5 JP 2018053301A5 JP 2016189742 A JP2016189742 A JP 2016189742A JP 2016189742 A JP2016189742 A JP 2016189742A JP 2018053301 A5 JP2018053301 A5 JP 2018053301A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate holder
box
contact
substrate
holder
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2016189742A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6723889B2 (ja
JP2018053301A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from JP2016189742A external-priority patent/JP6723889B2/ja
Priority to JP2016189742A priority Critical patent/JP6723889B2/ja
Priority to US15/661,817 priority patent/US10508355B2/en
Priority to KR1020170100941A priority patent/KR102297135B1/ko
Priority to TW106127082A priority patent/TWI721205B/zh
Priority to CN201710763259.5A priority patent/CN107868975B/zh
Publication of JP2018053301A publication Critical patent/JP2018053301A/ja
Publication of JP2018053301A5 publication Critical patent/JP2018053301A5/ja
Publication of JP6723889B2 publication Critical patent/JP6723889B2/ja
Application granted granted Critical
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

昨今、めっき装置を含む基板処理装置では、基板の大型化が顕著な傾向となっている。基板が大型化すると、基板ホルダ1個当たりの大きさが増加し、重量も重くなる。そして、従来は、装置外部にあるメンテナンスエリアまで基板ホルダを運んで基板ホルダのメンテナンスを行っていたが、上記のような重量が増加した基板ホルダを装置外部にあるメンテナンスエリアまで運ぶのは、作業者の負荷(時間的な負荷と作業的な負荷)が増えることになる。
図6は箱体36の底面39を示す図である。図6に示すように、箱体36の底面39は勾配形状を有している。より具体的には、箱体36の底面39は制御部103側からメンテナンスエリア21側に向かって下方に傾斜する傾斜面である。この底面39の最も低い位置には、開口39aが形成されており、この開口39aにはドレンライン49が接続されている。したがって、基板ホルダ11に付着した処理液が箱体36に落下すると、処理液は、箱体36の底面39を流下し、開口39aおよびドレンライン49を通じて移送される。なお、箱体36の底面39の傾斜角度は、基板ホルダ11が箱体36に収容されたときに基板ホルダ11が底面39に接触しない角度である。
図8に示すように、基板ホルダ11が基板ホルダキャリヤ25に支持されたとき、ホルダ受け部30bは、給電接点114が基板ホルダキャリヤ25の台座30に接触しない高さを有している。ホルダ受け部30bを設けることにより、給電接点114の台座30への接触を防止することができる。結果として、給電接点114に異物が付着することを防止することができる。ホルダ受け部30bおよび突起部113の合計の高さが、給電接点114が台座30に接触しない高さであってもよい。
JP2016189742A 2016-09-28 2016-09-28 めっき装置 Active JP6723889B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016189742A JP6723889B2 (ja) 2016-09-28 2016-09-28 めっき装置
US15/661,817 US10508355B2 (en) 2016-09-28 2017-07-27 Plating apparatus
KR1020170100941A KR102297135B1 (ko) 2016-09-28 2017-08-09 도금 장치
TW106127082A TWI721205B (zh) 2016-09-28 2017-08-10 鍍覆裝置
CN201710763259.5A CN107868975B (zh) 2016-09-28 2017-08-30 镀覆装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016189742A JP6723889B2 (ja) 2016-09-28 2016-09-28 めっき装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2018053301A JP2018053301A (ja) 2018-04-05
JP2018053301A5 true JP2018053301A5 (ja) 2019-05-09
JP6723889B2 JP6723889B2 (ja) 2020-07-15

Family

ID=61688310

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016189742A Active JP6723889B2 (ja) 2016-09-28 2016-09-28 めっき装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US10508355B2 (ja)
JP (1) JP6723889B2 (ja)
KR (1) KR102297135B1 (ja)
CN (1) CN107868975B (ja)
TW (1) TWI721205B (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7460504B2 (ja) 2020-10-20 2024-04-02 株式会社荏原製作所 めっき装置
JP2023084493A (ja) 2021-12-07 2023-06-19 株式会社荏原製作所 基板ホルダ、めっき装置、および基板ホルダの管理方法

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5516732A (en) * 1992-12-04 1996-05-14 Sony Corporation Wafer processing machine vacuum front end method and apparatus
JP2000301082A (ja) * 1999-04-20 2000-10-31 Tokyo Electron Ltd 処理装置
JP2001242631A (ja) * 2000-02-28 2001-09-07 Marugo Giken:Kk 露光装置
US20030143837A1 (en) * 2002-01-28 2003-07-31 Applied Materials, Inc. Method of depositing a catalytic layer
JP2003243473A (ja) 2002-02-15 2003-08-29 Nec Electronics Corp 半導体基板用キャリアの搬送台車
JP4330380B2 (ja) * 2003-05-29 2009-09-16 株式会社荏原製作所 めっき装置及びめっき方法
JP2004162129A (ja) * 2002-11-13 2004-06-10 Ebara Corp めっき装置及びめっき方法
US20050205209A1 (en) * 2004-03-18 2005-09-22 Aelan Mosden Replacing chamber components in a vacuum environment
US20050274603A1 (en) * 2004-06-01 2005-12-15 Glassman Steven P Plating process enhanced by squeegee roller apparatus
JP4458057B2 (ja) * 2005-07-28 2010-04-28 Tdk株式会社 めっき装置及びめっき方法
JP4807579B2 (ja) 2006-09-13 2011-11-02 株式会社ダイフク 基板収納設備及び基板処理設備
DE102007026634B4 (de) * 2007-06-06 2009-04-16 Atotech Deutschland Gmbh Vertikalanlage zur galvanotechnischen Behandlung eines Werkstückes und Verfahren zum Befördern des Werkstückes
JP2009006802A (ja) 2007-06-27 2009-01-15 Miura Co Ltd 親子台車
JP5155755B2 (ja) * 2008-07-10 2013-03-06 株式会社荏原製作所 磁性体膜めっき装置及びめっき処理設備
JP2011142141A (ja) * 2010-01-05 2011-07-21 Nikon Corp ホルダメンテナンス装置
JP5642517B2 (ja) * 2010-11-29 2014-12-17 株式会社荏原製作所 めっき装置及びめっき方法
JP5750327B2 (ja) * 2010-10-21 2015-07-22 株式会社荏原製作所 めっき装置、めっき処理方法及びめっき装置用基板ホルダの姿勢変換方法
JP5741834B2 (ja) * 2011-05-13 2015-07-01 株式会社ニコン 物体の搬出方法、物体の交換方法、物体保持装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法
JP6010613B2 (ja) 2011-06-03 2016-10-19 ティーイーエル ネックス,インコーポレイテッド 基板枚葉式並列処理システム
JP2015179747A (ja) * 2014-03-19 2015-10-08 株式会社荏原製作所 湿式処理装置
TW201502315A (zh) * 2013-07-10 2015-01-16 Ebara Corp 濕式處理裝置及鍍覆裝置
JP2015018894A (ja) * 2013-07-10 2015-01-29 株式会社荏原製作所 めっき装置
JP6186000B2 (ja) * 2013-08-27 2017-08-23 株式会社日立国際電気 基板処理装置のメンテナンス方法、半導体装置の製造方法、基板処理装置、及び基板処理装置のメンテナンスプログラム

Similar Documents

Publication Publication Date Title
USD836760S1 (en) Air cleaner
USD880954S1 (en) Beverage container flotation device
USD781150S1 (en) Bottle
USD786673S1 (en) Bottle splash guard
CA158519S (en) Closure for a container
USD839982S1 (en) Recreational flotation device
EP3070739A3 (en) Semiconductor device and wafer level package including such semiconductor device
SA519401604B1 (ar) نظام شمسي أو فلطائي ضوئي
JP2014017499A5 (ja)
JP2018053301A5 (ja)
MX2017006527A (es) Tapa para dispositivo de abertura.
JP2016124004A5 (ja)
ITMI20070631A1 (it) Dispositivo per separare gli uni dagli altri peduncoli di frutta raggruppati in grappoli
MX2020013812A (es) Dispositivo mezclador.
USD748593S1 (en) Boat for use in a material deposition apparatus
MY194274A (en) Impact pad
MY188662A (en) Hinge device and storage provided with same
USD779005S1 (en) Ball tee
RU2016116783A (ru) Устройство подачи, технологический картридж и устройство формирования изображения
CN205740324U (zh) 一种灌装阀阀口束流装置
CN203865167U (zh) 一种热工件接料箱
CN203900013U (zh) 防磨损铝盖清洗机
US1076193A (en) Time-controlled stock-feeder.
JP2014195904A5 (ja)
CN206298085U (zh) 拨瓶装置