TWI721205B - 鍍覆裝置 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種鍍覆裝置，能夠一邊繼續運轉，一邊進行基板保持架的維護，該裝置包括：處理部(170C)，對基板W進行鍍覆；保管容器(20)，對用於保持基板W的基板保持架(11)進行保管；搬運機(140)，在處理部(170C)與保管容器(20)之間搬運基板保持架(11)；維護區域(21)，與保管容器(20)鄰接；以及基板保持架載體(25)，支承於保管容器(20)。基板保持架載體(25)構成為：能夠以支承有基板保持架(11)的狀態而在保管容器(20)與維護區域(21)之間移動。

Description

鍍覆裝置

本發明涉及一種鍍覆裝置。

已知有對保持於基板保持架的基板進行鍍覆的鍍覆裝置。在這種鍍覆裝置中，基板保持架在鍍覆裝置運轉前被收容於保管容器中，在鍍覆裝置運轉開始後被從保管容器取出。晶片等基板被設置於基板保持架，基板保持架在保持了基板的狀態下被搬運機搬運到處理部。然後，基板在處理部被鍍覆。

在基板被設置到基板保持架時，檢查基板是否正常地被設置於基板保持架。在基板未被正常地設置於基板保持架的情況下，不將基板保持架搬運到處理部而使基板保持架返回到保管容器，然後作業者對基板保持架進行維護。

[現有技術文獻]

[專利文獻]

專利文獻1：日本特開2012-112026號公報

專利文獻2：日本特開2003-243473號公報

專利文獻3：日本特開2008-68964號公報

專利文獻4：日本特開2009-6802號公報

專利文獻5：美國專利申請公開第2012/0308344號說明書

近來，在包含鍍覆裝置的基板處理裝置中，基板大型化的傾向變得越來越明顯。若基板大型化，則每個基板保持架的大小增加，重量也變重。並且，在以往技術中，雖然將基板保持架運至位於裝置外部的維護區域來進行基板保持架的維護，但將如上所述的重量增加後的基板保持架運至位於裝置外部的維護區域的話，會增加作業者的負荷(時間負荷和作業負荷)。

另一方面，在裝置運轉中，搬運基板保持架的搬運機連續地通過保管容器的正上方。在這種狀況下，若作業者為了維護基板保持架而要將基板保持架從保管容器取出時，作業者有可能與移動的基板保持架或搬運機發生碰撞。因此，在基板保持架的維護作業時，不得不停止裝置的運轉。然而，若為了維護基板保持架而停止鍍覆裝置的運轉，則裝置運轉率降低，生產率下降。

本發明鑒於上述以往的問題而作出，其目的在於提供一種能夠一邊繼續運轉，一邊進行基板保持架的維護的鍍覆裝置。

為了達成上述目的，本發明的一實施方式的特徵在於，包括：處理部，對基板進行鍍覆；保管容器，對用於保持所述基板的基板保持架進行保管；搬運機，在所述處理部與所述保管容器之間搬運所述基板保持架；維護區域，與所述保管容器鄰接；基板保持架載體，支承於所述保管容器，所述基板保持架載體構成為：能夠以支承有所述基板保持架的 狀態而在所述保管容器與維護區域之間移動。

本發明的優選的實施方式的特徵在於，還包括隔壁，所述隔壁配置於所述維護區域與所述保管容器之間，所述隔壁位於比保管容器高的位置。

本發明的優選的實施方式的特徵在於，所述基板保持架載體包括：台座，供所述基板保持架載置；以及轉動體，安裝於所述台座，所述轉動體與所述保管容器接觸。

本發明的優選的實施方式的特徵在於，還包括維護構造體，所述維護構造體配置於所述維護區域內，且能夠接收所述基板保持架以及所述基板保持架載體，所述保管容器包括支承所述轉動體的第一導軌，所述維護構造體包括支承所述轉動體的第二導軌，所述第二導軌構成為與所述第一導軌排列成直線狀。

本發明的優選的實施方式的特徵在於，所述維護構造體包括：作業台，固定於所述第二導軌，並從所述第二導軌向下方延伸；以及支承部件，將所述作業台支承為能夠旋轉。

本發明的優選的實施方式的特徵在於，在所述保管容器上排列有多個基板保持架載體，所述維護區域與所述多個基板保持架載體的排列方向平行地延伸。

本發明的優選的實施方式的特徵在於，所述維護構造體能夠與所述多個基板保持架載體的排列方向平行地移動。

本發明的優選的實施方式的特徵在於，所述維護構造體具有車輪，所述車輪使所述維護構造體能夠與所述多個基板保持架載體的排列 方向平行地移動。

本發明的優選的實施方式的特徵在於，所述保管容器具有面向所述維護區域的門，在所述門安裝有鎖緊機構。

在所述保管容器設有檢測感測器，所述檢測感測器檢測所述基板保持架載體是否存在於所述保管容器上的規定位置。

本發明的優選的實施方式的特徵在於，所述保管容器包括收容所述基板保持架的箱體，所述箱體的底面具有傾斜形狀。

基板保持架載體構成為能夠以支承有基板保持架的狀態而在保管容器與維護區域之間移動，因此作業者能夠在裝置內的維護區域中一邊抑制負荷(時間負荷和作業負荷)的增加，一邊執行基板保持架的維護。

此外，在基板保持架的維護作業時，能夠防止作業者與搬運機之間的碰撞。其結果是，作業者能夠一邊繼續運轉鍍覆裝置，一邊進行基板保持架的維護。

11‧‧‧基板保持架

20‧‧‧保管容器

21‧‧‧維護區域

22‧‧‧框架

24‧‧‧隔壁

25‧‧‧基板保持架載體

30‧‧‧台座

31‧‧‧轉動體

33‧‧‧保持架定位部件

35‧‧‧容器框架

36‧‧‧箱體

37‧‧‧門

38‧‧‧第一導軌

39‧‧‧底面

40‧‧‧檢測感測器

41‧‧‧檢測銷

41a‧‧‧銷部

42‧‧‧載體定位部件

50‧‧‧維護構造體

51‧‧‧第二導軌

52‧‧‧軌道定位部件

55‧‧‧作業台

56‧‧‧支承部件

59‧‧‧車輪

60‧‧‧基座引導件

65A‧‧‧載體支承件

65B‧‧‧保持架支承件

66‧‧‧軸部件

67‧‧‧鎖緊機構

101‧‧‧架台

102‧‧‧操作器

103‧‧‧控制部

140‧‧‧搬運機

141‧‧‧傳送裝置

142‧‧‧固定基座

170A‧‧‧裝載/卸載部

170B‧‧‧基板設置部

170C‧‧‧處理部

170D‧‧‧保持架容納部

170E‧‧‧清洗部

圖1是表示鍍覆裝置的一實施方式的示意圖。

圖2表示用於本實施方式的鍍覆裝置的基板保持架的一例的概略圖。

圖3是從圖1的A線方向觀察的圖。

圖4是從圖3的B線方向觀察的圖。

圖5是表示保管容器以及基板保持架載體的立體圖。

圖6是表示箱體的底面的圖。

圖7是表示基板保持架載體的立體圖。

圖8是表示支承於保管容器的基板保持架載體和支承於基板保持架載體的基板保持架的圖。

圖9是從圖8的C線方向觀察的圖。

圖10是從圖8的D線方向觀察的圖。

圖11是表示設於保管容器的檢測感測器的圖。

圖12是表示設於保管容器的檢測感測器的圖。

圖13是表示配置於維護區域內的維護構造體的立體圖。

圖14是表示配置於維護區域內的維護構造體的立體圖。

圖15是表示配置於維護區域內的維護構造體的立體圖。

圖16是表示與第一導軌排列為直線狀的第二導軌的圖。

圖17是表示軌道定位部件。

圖18是維護構造體的主視圖。

圖19是表示縱向姿勢的作業台的圖。

圖20是表示橫向姿勢的作業台的圖。

圖21是從圖18的E線方向觀察的圖。

圖22是圖21的F-F線剖視圖。

圖23是表示使基板保持架從保管容器移動到維護構造體的順序的圖。

下面參照附圖對本發明的實施方式進行說明。並且，在下面所說明的附圖中，對相同或相當的構成要素標注相同的符號，並省略重複說明。

圖1是表示鍍覆裝置的一實施方式的示意圖。圖2是表示在本實施方式的鍍覆裝置中使用的基板保持架的一例的概略圖。如圖1所示，鍍覆裝置包括：架台101；對鍍覆裝置的運轉進行控制的控制部103；裝載以及卸載基板W(參照圖2)的裝載/卸載部170A；基板設置部(機械室)170B，將基板W設置到基板保持架11(參照圖2)，且從基板保持架11卸下基板W；對基板W進行鍍覆的處理部(前處理室，鍍覆室)170C；容納基板保持架11的保持架容納部(儲藏室)170D；對被鍍覆的基板W進行清洗以及乾燥的清洗部170E。本實施方式的鍍覆裝置是通過使電流在鍍覆液流動來用金屬對基板W的表面(被鍍覆面)進行鍍覆的電解鍍覆裝置。

如圖1所示，架台101由多個架台部件101a-101h構成，這些架台部件101a-101h構成為能夠連結。裝載/卸載部170A的構成要素配置於第一架台部件101a上，基板設置部170B的構成要素配置於第二架台部件101b上，處理部170C的構成要素配置於第三架台部件101c-第六架台部件101f上，保持架容納部170D的構成要素配置於第七架台部件101g以及第八架台部件101h上。

在裝載/卸載部170A設有：裝載台105，供收納鍍覆前的基板W的盒(未圖示)搭載；卸載台107，供接收由處理部170C鍍覆後的基板W的盒(未圖示)搭載。此外，在裝載/卸載部170A配置有基板搬運裝置122，該基板搬運裝置122由搬運基板W的搬運用機器人構成。

基板搬運裝置122構成為：訪問搭載於裝載台105的盒，從盒取出鍍覆前的基板W，將基板W轉移給基板設置部170B。在基板設置部170中，鍍覆前的基板W被設置於基板保持架11，鍍覆後的基板W被從基板保持 架11取出。

在處理部170C配置有預濕槽126、預浸槽128、第一沖洗槽130a、吹風槽132、第二沖洗槽130b、第一鍍覆裝槽10a、第二鍍覆槽10b、第三沖洗槽130c、第三鍍覆槽10c。這些槽126、128、130a、132、130b、10a、10b、130c、10c按依次配置。

在預濕槽126中，作為前處理準備，基板W浸漬于純水。在預浸槽128中，形成於基板W的表面的種子層等導電層的表面的氧化膜被藥液蝕刻去除。在第一沖洗槽130a中，預浸後的基板W被用清洗液(例如，純水)清洗。

在第一鍍覆槽10a或第二鍍覆槽10b中，基板W的表面被鍍覆。在本實施方式中，在第一鍍覆槽10a的內部以及第二鍍覆槽10b的內部，貯存有同一種鍍覆液。基板W浸漬於第一鍍覆槽10a內的鍍覆液或第二鍍覆槽10b內的鍍覆液，從而基板W的表面被鍍覆。在第三鍍覆槽10c的內部，既可以貯存與貯存於鍍覆槽10a、10b的內部的鍍覆液相同種類的鍍覆液，也可以貯存與貯存於鍍覆槽10a、10b的內部的鍍覆液不同種類的鍍覆液。

在第三鍍覆槽10c內的鍍覆液與鍍覆槽10a、10b內的鍍覆液為相同種類的情況下，也可以將在第一沖洗槽130a中被清洗的基板W浸漬於第三鍍覆槽10c內的鍍覆液，從而對基板W的表面進行鍍覆。在第三鍍覆槽10c內的鍍覆液與鍍覆槽10a、10b內的鍍覆液為不同種類的情況下，也可以將在第一鍍覆槽10a或第二鍍覆槽10b中被鍍覆後的基板W浸漬於第三鍍覆槽10c內的鍍覆液，從而對基板W的表面進行鍍覆。

在第二沖洗槽130b中，在第一鍍覆槽10a或第二鍍覆槽10b 內被鍍覆後的基板W與基板保持架11一起通過清洗液(例如，純水)進行清洗。在第三沖洗槽130c中，在第三鍍覆槽10c中被鍍覆後的基板W與基板保持架11一起通過清洗液(例如，純水)進行清洗。在吹風槽132中，進行清洗後的基板W的排液。並且，第三鍍覆槽10c以及第三沖洗槽130c也可以不是必需的構成要素，也可以根據需要設置。

預濕槽126、預浸槽128、沖洗槽130a-130c、以及鍍覆槽10a-10c是能夠將處理液(液體)貯存於這些槽內部的處理槽。這些處理槽包括貯存處理液的多個處理單元，但並不限定於該實施方式，也可以是這些處理槽包括單一的處理單元。另外，也可以是這些處理槽的至少一部分包括單一的處理單元，其他的處理槽包括多個處理單元。

鍍覆裝置進一步包括搬運基板保持架11的搬運機140。搬運機140構成為能夠在鍍覆裝置的構成要素之間移動。搬運機140包括；固定基座142，從基板設置部170B沿著水準方向延伸到處理部170C；多個傳送裝置141，構成為能夠沿著固定基座142移動。

這些傳送裝置141構成為分別具有用於保持基板保持架11的可動部(未圖示)，從而保持基板保持架11。傳送裝置141構成為在基板設置部170B、保持架容納部170D、以及處理部170C之間搬運基板保持架11，進而使基板保持架11與基板一起上下移動。作為傳送裝置141的移動機構，例如可以舉出電動機和齒條齒輪的組合。並且，在本實施方式中，雖然設有三個傳送裝置，但傳送裝置的數量並不限定於本實施方式中的三個。

參照圖2對基板保持機11的結構進行說明。如圖2所示，基板保持架11包括：供基板W保持的主體部110；設於主體部110的上端的臂部 112。主體部110由第一部件110a和第二部件110b構成。基板保持架11通過由第一部件110a以及第二部件110b夾持基板W來保持基板W。基板保持架11以臂部112保持於傳送裝置141的狀態被搬運。

利用位於基板設置部170B內的未圖示的機構，基板保持架11能夠從鉛垂姿勢變換到水準姿勢，或者從水準姿勢變換到鉛垂姿勢。由此，也可以是：例如，基板保持架11的第一部件110a在載置基板W後固定基板W，然後，使該第一部件110a從水準姿勢變換到鉛垂姿勢，已固定了基板W的狀態下的該第一部件110a靠近在以鉛垂姿勢被固定的狀態待機的基板保持架11的第二部件110b，從而用第一部件110a和第二部件110b夾持基板W，從而保持基板W。

基板保持架11以將基板W的外端部密封且使表面露出的方式保持基板W，以使鍍覆液不附著於基板W的外端部以及背面。並且，在本實施方式中，雖然基板W具有四邊形，但基板W的形狀並不限定於本實施方式的四邊形，例如，基板W也可以是圓形。

在將保持於基板保持架11的基板W浸漬到各處理槽內的處理液時，臂部112配置於各處理槽的臂承受部件(未圖示)上。更具體而言，在臂部112的下表面設有兩個突起部113，這些突起部113配置於臂承受部件之上。突起部113是在將基板保持架11設置於各處理槽時支承基板保持架11的自重的部分。在本實施方式中，由於鍍覆槽10a-10c是電解鍍覆槽，當設於臂部112的供電接點(連接器部)114與設於臂承受部件的電接點(未圖示)接觸時，電流被從外部電源供給到基板W的表面。

被鍍覆的基板W與基板保持架11一起被傳送裝置141搬運到 基板設置部170B，並且在基板設置部170B被從基板保持架11取出。該基板W被基板搬運裝置122搬運到清洗部170E，並且在清洗部170E被清洗以及乾燥。然後，基板被基板搬運裝置122返回到搭載於卸載台107的盒中。

接著，對保持架容納部170D進行說明。如圖1所示，保持架容納部170D配置於基板設置部170B與處理部170C之間，裝載/卸載部170A、基板設置部170B、保持架容納部170D、以及處理部170C按此順序排列。在保持架容納部170D配置有：保管容器20，保管用於保持基板W的基板保持架11；維護區域21，與保管容器20鄰接。圖1的網格部分表示維護區域21。

圖3是從圖1的A線方向觀察的圖。與保管容器20鄰接的維護區域21形成於架台101(更具體而言，架台部件101g、101h)的上方。維護區域21具有使作業者S能夠在維護區域21內實施基板保持架11的維護的大小。保管容器20以及維護區域21並列配置，且互相鄰接，此外，維護區域21還與鍍覆裝置的外部鄰接。因此，作業者S能夠容易地從鍍覆裝置的外部進入維護區域21，能夠容易地從維護區域21訪問保管容器20。

如圖3所示，鍍覆裝置還包括支承於保管容器20的基板保持架載體25。基板保持架11載置於基板保持架載體25上，基板保持架25支承於保管容器20。基板保持架載體25構成為能夠以支承基板保持架11的狀態在保管容器20與維護區域21之間移動。保管容器20以及基板保持架載體25的結構在後面敘述。

圖4是從圖3的B線方向觀察的圖。並且，在圖4中，僅圖示主要要素，保持架容納部170D的一部分被圖示。如圖4所示，保持架容納部 170D包括配置於維護區域21與保管容器20之間的隔壁(安全罩)24，隔壁24位於比保管容器20更高的位置。更具體而言，在維護區域21設有框架22，隔壁24安裝於框架22的上部。並且，隔壁24的數量並不限定於本實施方式中的數量。

這樣一來，鍍覆裝置的保持架容納部170D包括隔壁24，因而能夠防止作業者S錯誤地通過保管容器20的上方來訪問基板保持架11。因此，能夠避免作業者S接觸在保管容器20的上方移動的傳送裝置141(或基板保持架11)。

在隔壁24安裝有用於卸下隔壁24的捏手24a，但為了確保作業者S的安全，隔壁24以不能容易卸下的方式安裝於框架22。在本實施方式中，在隔壁24設有未圖示的感測器，但在裝置運轉過程中卸下隔壁24時，搬運機140停止。

如圖4所示，在保管容器20排列有多個基板保持架載體25，這些基板保持架載體25沿著維護區域21所延伸的方向排列。即，維護區域21與多個基板保持架載體25的排列方向平行地延伸。在各基板保持架載體25設有用於防止作業者S與傳送裝置141(或者基板保持架11)之間的碰撞的防護裝置26。

保管容器20包括面向維護區域21的門37。門37安裝有鎖緊機構67，門37構成為不能容易地卸下。在本實施方式中，鎖緊機構67是自動鎖定機構(例如，電磁鎖定機構)。

在不需要對基板保持架11進行維護時，為了限制作業者S對基板保持架11的訪問，用鎖緊機構67鎖緊門37。在需要對基板保持架11進 行維護的情況下，在鎖緊機構67進入能夠解鎖的狀態後，作業者S對門37解鎖，從而將門37卸下。這樣一來，作業者S能夠訪問基板保持架11。需要對基板保持架11進行維護的情況是指，例如，基板W未正常地被設置於基板保持架11的情況。

此處，在一實施方式中，也可以構成為：在需要對基板保持架11進行維護的情況下，在控制部103中生成用於解鎖門37的信號，接著，輸入用於使鎖緊機構67成為解鎖模式的信號，從而鎖緊機構67成為能夠解鎖的狀態，進而，作業者S操作用於解鎖門37的操作器102(參照圖1)的畫面，門37被解鎖。操作器102例如是具有觸控板式的操作畫面的操作器，並與控制部103連接。

在其他的實施方式中，也可以構成為：在需要對基板保持架11進行維護的情況下，在控制部103中生成用於解鎖門37的信號，接著，輸入用於使鎖緊機構67進入解鎖模式的信號，從而鎖緊機構67成為能夠解鎖的狀態。進而，控制部103生成用於解鎖門37的信號，該信號被輸入到未圖示的門37的解鎖機構，解鎖機構進行驅動，從而門37被解鎖。

在其他的實施方式中，也可以構成為：在需要對基板保持架11進行維護的情況下，作業者S操作操作器102的畫面，並按下使鎖緊機構67進入解鎖模式的按鈕。這種作業者S所輸入的解鎖信號被輸入到控制部103，在控制部103生成用於解鎖門37的信號，輸入用於使鎖緊機構67進入解鎖模式的信號，從而鎖緊機構67成為能夠解鎖的模式，進而，作業者S操作用於解鎖門37的操作器102的畫面，門37被解鎖。

作業者S在解鎖門37後取下門37，並使支承有基板保持架11 的基板保持架載體25從保管容器20移動到維護區域21(更具體而言，是圖3所示的維護構造體50)。然後，作業者S在維護區域21對基板保持架11進行維護。在後面對維護構造體50進行詳述。

對保管容器20以及基板保持架載體25的結構進行說明。圖5是表示保管容器20以及基板保持架載體25的立體圖。並且，在圖5中，省略基板保持架11的圖示，圖示保持架容納部170D的一部分。如圖5所示，在保管容器20支承有多個基板保持架載體25。

保管容器20基本由箱體36和容器框架35構成，箱體36構成保管容器20的壁以及底，容器框架35配置為覆蓋箱體36。容器框架35由堅固的材料(例如，金屬)構成，並沿著架台101的長度方向延伸。在容器框架35上配置有支承基板保持架載體25的多個第一導軌38。第一導軌38也可以構成為與容器框架35一體地形成。第一導軌38與架台101的寬度方向平行地延伸。並且，架台101的長度方向被定義為與裝載/卸載部170A、基板設置部170B、保持架容納部170D、以及處理部170C的排列方向平行的方向，架台101的寬度方向被定義為與架台101的長度方向正交的方向。

箱體36構成為收容基板保持架11。基板保持架11有時會附著有處理液(液體)，該處理液有時會落下到箱體36。因此，箱體36由對處理液具有抵抗性的材料(例如，樹脂)構成。箱體36通過分隔板(未圖示)而劃分為多個空間，多個基板保持架11分別配置於多個空間內。

在本實施方式中，保管容器20包括多個(五個)箱體36，各箱體36通過一塊分隔板分隔。如圖1所示，由於在保持架容納部170D配置有兩個保管容器20，因此在保持架容納部170合計配置有十個箱體36。因此， 能夠在保持架容納部170D容納二十個基板保持架11。但是，保管容器20的數量以及箱體36的數量並不限定於本實施方式中的數量，也可以根據鍍覆裝置的運轉條件來變更保管容器20的數量以及箱體36的數量。

在一實施方式中，保管容器也可以包括與所容納的基板保持架11相同的數量的箱體36。例如，在要將二十個基板保持架11容納於保持架容納部170D的情況下，可以將二十個箱體36配置於保持架容納部170D。在其他的實施方式中，保管容器20包括單一的箱體36，多個基板保持架11收容於該箱體36內。

圖6是表示箱體36的底面39的圖。如圖6所示，箱體36的底面39具有傾斜形狀。更具體而言，箱體36的底面39是從控制部103側朝著維護區域21側向下方傾斜的傾斜面。在該底面39的最低位置形成有開口39a，在該開口39a連接有排水管路49。因此，若附著於基板保持架11的處理液從箱體36落下，則處理液在箱體36的底面39向下流，然後通過開口39a以及排水管路49而被轉移。並且，箱體36的底面39的傾斜角度是基板保持架11收容於箱體36時，基板保持架11不與底面39接觸的角度。

接著，參照圖7對基板保持架載體25進行說明。圖7是表示基板保持架載體25的立體圖。基板保持架載體25包括：供基板保持架11載置的矩形的台座30；安裝於台座30的多個轉動體31。在台座30設有：在台座30中央開口的開口部30a；支承保持架11(更具體而言，是基板保持架11的突起部113)的保持架承受部30b。

轉動體31安裝於台座30的下表面，與保管容器20的第一導軌38接觸。例如，轉動體31是由滾輪和將滾輪保持為自如旋轉的保持件構成 的車輪。在本實施方式中，安裝有八個轉動體31，但轉動體31的數量並不限定於本實施方式中的數量。在台座30的維護區域21側安裝有把手32，作業者S能夠把持把手32從而使基板保持架載體25移動。

在基板保持架載體25的台座30的上表面安裝有用於確定(固定)基板保持架11的位置的保持架定位部件(定位銷)33。在基板保持架11的臂部112的兩端設有定位件115(參照圖2)，在定位件115形成有供保持架定位部件33插入的定位孔115a(參照圖2)。保持架定位部件33插入於定位件115的定位孔115a，從而確定(固定)基板保持架11與基板保持架載體25的相對位置。

開口30a具有供基板保持架11插入的大小，保持架承受部30b在開口30a的兩側固定於台座30。傳送裝置141將基板保持架11搬運到基板保持架載體25的上方的規定位置，然後，使基板保持架11下降。於是，基板保持架11的主體部110通過基板保持架載體25的開口30a而被插入於保管容器20(更具體而言，是箱體36)內，基板保持架載體25的保持架定位部件33被插入定位件115的定位孔115a。這樣一來，基板保持架11以呈鉛垂姿勢地支承於基板保持架載體25的狀態、且與基板保持架載體25的相對位置被確定的狀態被收容於保管容器20。

圖8是表示支承於保管容器20的基板保持架載體25和支承於基板保持架載體25的基板保持架11的圖。圖9是從圖8的C線方向觀察的圖。圖10是從圖8的D線方向觀察的圖。基板保持架載體25載置於第一導軌38上，基板保持架載體25在支承有基板保持架11的狀態下，能夠沿著第一導軌38延伸的方向移動(參照圖9的箭頭)。保管容器20支承於架台101(更具 體而言，是架台部件101g、101h)，基板保持架載體25能夠相對保管容器20獨立移動。因此，不需使保管容器20移動就能夠使基板保持架載體25(以及基板保持架11)在保管容器20與維護區域21(更具體而言，維護構造體50)之間移動。

如圖8所示，在基板保持架11被支承於基板保持架載體25時，保持架承受部30b具有使供電接點114不與基板保持架載體25的台座30接觸的高度。通過設置保持架承受部30b，能夠防止供電接點114與台座30的接觸。其結果是，能夠防止在供電接點114附著異物。也可以是：保持架承受部30b以及突起部113的合計高度是供電接點114不與台座30接觸的高度。

如圖8至圖10所示，一個基板保持架11支承於一個基板保持架載體25。在保管容器20支承有多個基板保持架載體25，這些基板保持架載體25能夠分別、單獨地移動。因此，能夠保持將不是維護作業物件的基板保持架11收容於保管容器20的狀態不變，而使維護作業物件即基板保持架11從保管容器20移動到維護區域21(更具體而言，是維護構造體50)。

接著，參照圖11以及圖12對檢測感測器40進行說明，該檢測感測器40檢測在保管容器20的規定位置是否存在基板保持架載體25。圖11以及圖12是表示設於保管容器20的檢測感測器40的圖。在圖11以及圖12中，為了容易觀察附圖，省略把手32的圖示。

如上所述，基板保持架載體25構成為能夠相對保管容器20獨立移動，因此，存在這樣的情況：在鍍覆裝置運轉中，基板保持架載體25移動到維護區域21(更具體而言，是維護構造體50)，從而不存在於保管 容器20上的規定位置。因此，為了使控制部103能夠識別存在於保管容器20上的規定位置的基板保持架載體25，設有用於檢測基板保持架載體25是否存在於保管容器20上的規定位置的檢測感測器40， 檢測感測器40構成為：將表示基板保持架載體25存在於保管容器20上的檢測信號發送到控制部103。基於從檢測感測器40發送來的檢測信號，控制部103能夠識別基板保持架載體25存在於保管容器20上的規定位置。

檢測感測器40安裝於保管容器20(更具體而言，是導軌38)上，檢測感測器40的感測器部40a位於第一導軌38的上方。在基板保持架載體25的台座30安裝有檢測銷41。在本實施方式中，檢測感測器40是對檢測銷41的銷部41a的頂端與感測器部40a之間的距離發生反應來檢測基板保持架載體25的有無的反射式感測器。

當作業者S使基板保持架載體25移動到保管容器20上的規定位置(參照圖11)並按下檢測銷41時，檢測銷41的銷部41a與檢測感測器40的感測器部40a靠近(參照圖12)。其結果是，檢測感測器40檢測到基板保持架25存在於保管容器20上的規定位置，並將檢測信號發送到控制部103，從而控制部103識別基板保持架載體25的存在。在一實施方式中，在操作器102(參照圖1)的操作畫面上顯示基板保持架載體25存在於保管容器20上的規定位置。

在檢測感測器40的上方設有載體定位部件42，確定(固定)基板保持架載體25與保管容器20的相對位置。在載體定位部件42形成有供檢測銷41的銷部41a插入的孔。當檢測銷41的銷部41a被插入於載體定位部件 42的孔時，安裝有檢測銷41的基板保持架載體25與安裝有檢測感測器40的保管容器20的相對位置被確定。在本實施方式中，通過按下檢測銷41，基板保持架載體25與保管容器20的相對位置被確定，進而，檢測感測器40能夠檢測基板保持架載體25的存在。

參照附圖對維護構造體50進行說明。圖13至圖15是表示配置於維護區域21內的維護構造體50的立體圖。在圖13至圖15中，示意性地圖示基板保持架11、保管容器20、基板保持架字體25、以及維護構造體50，並圖示保持架容納部170D的一部分。

維護構造體50構成為能夠接收基板保持架11以及基板保持架載體25。維護構造體50配置於維護區域21內，並與保管容器20鄰接，此外，支承於架台101(更具體而言，是架台部件101g或架台部件101h)。下面，將架台部件101g、101h統稱為架台101。

維護構造體50能夠與多個基板保持架載體25的排列方向平行地移動。具體而言，在架台101設有引導維護構造體50的移動的基座引導件60。基座引導件60與多個基板保持架載體25的排列方向平行地延伸，維護構造體50能夠沿著基座引導件60延伸的方向移動(參照圖13)。在本實施方式中，基座引導件60是形成於架台101的槽，但基座引導件60也可以是敷設於架台101上的軌道。

維護構造體50包括：第二導軌51，支承基板保持架載體25的轉動體31(參照圖7)；作業台55，固定於第二導軌51並從第二導軌51向下方延伸；支承部件56，將作業台55支承為能夠旋轉。第二導軌51構成為能夠與第一導軌38排列成直線狀。即，第二導軌51與第一導軌38同樣地與 架台101的寬度方向平行地延伸。

圖16是表示與第一導軌38排列成直線狀的第二導軌51的圖。如圖16所示，維護構造體50以第二導軌51與第一導軌38排列成直線狀的方式在維護區域21內移動(參照圖16的箭頭M1)。由於在第一導軌38與第二導軌51之間形成有微小的間隙，因此即使維護構造體50在維護區域21內移動，第二導軌51與第一導軌38也不接觸。

支承有基板保持架11的基板保持架載體25在第二導軌51與第一導軌38排列成直線狀的狀態下，從保管容器20移動到維護構造體50(參照圖16的箭頭M2)。其結果是，如圖14所示，支承有基板保持架11的基板保持架載體25支承於在維護區域21內配置的維護構造體50。這樣一來，基板保持架載體25能夠以支承有基板保持架11的狀態從保管容器20移動到維護區域21內的維護構造體50。

在第二導軌51未與第一導軌38排列成直線狀的情況下，基板保持架載體25有可能無法從保管容器20移動到維護構造體50。因此，在第一導軌38以及第二導軌51設有確定(固定)第一導軌38與第二導軌51之間的相對位置的軌道定位部件52。圖17是表示軌道定位部件52的圖。在本實施方式中，軌道定位部件52是滑動鎖，但只要能夠確定第一導軌38與第二導軌51的相對位置，軌道定位部件52並不限定於滑動鎖。

如圖17所示，軌道定位部件52包括：固定於第二導軌51的主體52a；固定於第一導軌38的支座52b；棒體52c，以能夠在鎖緊位置與解鎖位置之間直線往復運動的方式安裝於主體52a。在第一導軌38與第二導軌51排列成直線狀的狀態下，當棒體52c插入于形成在支座52b的孔時，第一導 軌38與第二導軌51的相對位置被確定(固定)。這樣一來，能夠防止第二導軌51相對於第一導軌38偏離，因此使基板保持架載體25安全且可靠地從保管容器20移動到維護構造體50。

圖18是維護構造體50的主視圖。在圖18中，在維護構造體50支承有基板保持架載體25，在基板保持架載體25支承有基板保持架11。如圖18所示，維護構造體50具有車輪59，車輪59使維護構造體50能夠與多個基板保持架載體25的排列方向平行地移動。車輪59安裝于支承部件56的下端。

在支承部件56的下部安裝有固定板57，在固定板57形成有供固定銷58插入的插入孔。固定銷58是用於將維護構造體50固定到架台101的銷。在架台101的規定位置，形成有供固定銷58插入的銷孔。固定板57位於架台101的上方，在固定板57與架台101之間形成有微小的間隙。因此，在卸下固定銷並移動維護構造體50的情況下，固定板57與架台101不接觸。

作業台55構成為容許從保管容器20向維護構造體50移動的基板保持架11通過。在一實施方式中，在作業台55的周壁的一部分形成有容許基板保持架11通過的狹縫。

如圖18所示，在作業台55形成有開口69，在作業台55的內部形成有收容基板保持架11的空間。作業台55內的空間經由開口69而與作業台55的外部(即，維護區域21)連通。因此，作業者S能夠訪問通過作業台55的開口69而收容於作業台55的內部的空間的基板保持架11。

作業台55經由軸部件66而以能夠旋轉的方式支承于支承部件56。軸部件66從作業台55的兩側向支承部件56延伸。以軸部件66為支點， 作業台55被從縱向姿勢轉換成橫向姿勢。此時，利用固定銷58來將維護構造體50固定於架台101，從而能夠防止維護構造體50移動。因此，作業者S能夠安全地將作業台55從縱向姿勢轉換成橫向姿勢。

圖19是表示縱向姿勢的作業台55的圖，圖20是表示橫向姿勢的作業台55的圖。當支承有基板保持架11的基板保持架載體25移動到維護構造體50上的規定位置時，作業台順時針方向旋轉，從縱向姿勢轉換成橫向姿勢。通過作業台55的轉換，支承於維護構造體50的基板保持架載體25以及基板保持架11也從縱向姿勢轉換成橫向姿勢。通過這種作業台55的轉換，作業台55的開口69以及基板保持架11的維護面成為向上，因此作業者S能夠通過作業台55的開口69來訪問維護面。其結果是，作業者S能夠以穩定的姿勢容易地進行基板保持架11的維護。

在支承部件56固定有限制作業台55的旋轉的止動件61。當作業台55被轉換成橫向姿勢時，作業台55與止動件61接觸，作業台55的順時針方向的旋轉被限制。在使作業台55接觸止動件61的狀態下，當將腳部件62(參照圖15以及圖20)配置於作業台55與架台101之間時，作業台55的逆時針方向的旋轉被限制。這樣一來，止動件61以及腳部件62能夠限制作業台55的相對于支承部件56的兩個方向的旋轉，因而能夠使作業台55的姿勢穩定。

圖21是從圖18的E線方向觀察的圖，圖22是圖21的F-F線剖視圖。在作業台55被從縱向姿勢轉換成橫向姿勢時，基板保持架11以及/或基板保持架載體25有可能從作業台55落下。因此，如圖21以及圖22所示，維護構造體50包括：用於防止基板保持架載體25落下的載體支承件65A；用 於防止基板保持架11落下的保持架支承件65B。

載體支承件65A由具有倒L形的兩個支承要素構成，並固定於作業台55的上部。這些支承要素分別朝著支承於第二導軌51的基板保持架載體25彎曲。載體支承件65A的彎曲部位於基板保持架載體25的上方，限制基板保持架載體25向離開作業台55的方向移動。因此，即使作業台55被從縱向姿勢轉換成橫向姿勢，也能夠防止基板保持架載體25從作業台55落下。

保持架支承件65B具有

字形，固定于作业台55的上部。保持架支承件65B以橫穿支承於基板保持架載體25的基板保持架11的上方的方式延伸，限制基板保持架11向離開作業台55的方向移動。因此，即使作業台55被從縱向姿勢轉換成橫向姿勢，也能夠防止基板保持架11從作業台55落下。

接著，參照圖23對使支承於基板保持架載體25的基板保持架11從保管容器20向維護構造體50移動的順序進行說明。圖23是表示使基板保持架11從保管容器20向維護構造體50移動的順序的圖。

首先，為了使支承有應該進行維護的基板保持架11的基板保持架載體25移動到維護構造體50，解鎖應該移動的基板保持架載體25所對應的門37(參照圖23的J1)。然後，作業者S卸下被解鎖的門37，並使維護構造體50移動，以使第二導軌51與第一導軌38排列成直線狀(參照圖23的J2)。接著，作業者S利用軌道定位部件52來確定第一導軌38與第二導軌51之間的相對位置，使支承有基板保持架11的基板保持架載體25通過第一導軌38以及第二導軌51而從保管容器20向維護構造體50移動(參照圖23的J3)。

在使基板保持架載體25移動到維護構造體50上的規定位置後，作業者S移動維護構造體50，直至作業台55能夠從縱向姿勢轉換成橫向姿勢的位置，並利用固定銷58將維護構造體50固定於架台101(參照圖23的J4)。之後，作業者S將作業台55從縱向姿勢轉換成橫向姿勢(參照圖23的J5)。在該狀態下，作業者S將腳部件62配置於作業台55與架台101之間，從而將作業台55維持成橫向姿勢。然後，作業者S在維護區域21內對基板保持架11進行維護(參照圖23的J6)。

根據本實施方式，基板保持架載體25構成為能夠以支承有基板保持架11的狀態在保管容器20與維護區域21(更具體而言，是維護構造體50)之間移動，維護區域21位於供傳送裝置141行走的行走區域的外部(參照圖3)。即，維護區域21與傳送裝置141的行走區域是隔離的。因此，維護區域21內的作業者S不接觸行走的傳送裝置141就能使基板保持架載體25與基板保持架11一起向維護區域21(更具體而言，是維護構造體50)移動。其結果是，作業者S能夠一邊使鍍覆裝置繼續運轉，一邊安全地對基板保持架11進行維護。這樣一來，能夠提高鍍覆裝置的可靠性以及生產率。

保持有基板W的基板保持架11浸漬於處理槽內的處理液中，因此，在利用傳送裝置141而在保管容器20的正上方移動的基板保持架11，有時會附著有處理液。根據本實施方式，由於基板保持架載體25能夠相對保管容器20獨立移動，因此即使基板保持架載體25向維護區域21(更具體而言，是維護構造體50)移動，保管容器20也不移動而始終存在於規定的位置。因此，即使附著於在保管容器20的正上方被搬運的基板保持架11的處理液落下，也能夠可靠地回收處理液。

近年來，伴隨著基板的大型化，基板保持架的尺寸也變大，重量也增加。因此，相比於使這種大型的基板保持架移動到鍍覆裝置的外部從而進行維護作業的情況，更優選的是，通過在裝置的內部進行維護作業，從而減輕作業者S的作業負擔。根據本實施方式，由於作業者S能夠在鍍覆裝置內的維護區域21內進行基板保持架11的維護，因此不需要使基板保持架11移動到鍍覆裝置的外部。其結果是，能夠縮短維護基板保持架11所需要的時間。

上述實施方式是具有本發明所屬的技術領域中的常用知識的人員以能夠實施本發明為目的而記載的。只要是本領域技術人員，當然能夠得到上述實施方式的各種變形例，本發明的技術思想也適用於其他的實施方式。因此，本發明並不限定於所記載的實施方式，而是可解釋為根據要求保護的範圍所定義的技術思想而得到的最大範圍。

10a‧‧‧第一鍍覆槽

10b‧‧‧第二鍍覆槽

10c‧‧‧第三鍍覆槽

11‧‧‧基板保持架

20‧‧‧保管容器

21‧‧‧維護區域

36‧‧‧箱體

101‧‧‧架台

101a‧‧‧第一架台部件

101b‧‧‧第一架台部件

101c‧‧‧第三架台部件

101d‧‧‧第四架台部件

101e‧‧‧第五架台部件

101f‧‧‧第六架台部件

101g‧‧‧第七架台部件

101h‧‧‧第八架台部件

102‧‧‧操作器

103‧‧‧控制部

105‧‧‧裝載台

107‧‧‧卸載台

122‧‧‧基板搬運裝置

126‧‧‧預濕槽

128‧‧‧預浸槽

130a‧‧‧第一沖洗槽

130b‧‧‧第二沖洗槽

130c‧‧‧第三沖洗槽

132‧‧‧吹風槽

140‧‧‧搬運機

141‧‧‧傳送裝置

170A‧‧‧裝載/卸載部

170B‧‧‧基板設置部

170C‧‧‧處理部

170D‧‧‧保持架容納部

170E‧‧‧清洗部

Claims (11)

1. 一種鍍覆裝置，具備：處理部，對基板進行鍍覆；保管容器，對用於保持所述基板的基板保持架進行保管；搬運機，在所述處理部與所述保管容器之間搬運所述基板保持架；維護區域，與所述保管容器鄰接；以及基板保持架載體，支承於所述保管容器；其中，所述基板保持架載體構成為：能夠以支承有所述基板保持架的狀態而在所述保管容器與維護區域之間移動。
2. 如請求項1所述的鍍覆裝置，其中更具備：隔壁，配置於所述維護區域與所述保管容器之間，所述隔壁位於比所述保管容器高的位置。
3. 如請求項1所述的鍍覆裝置，其中所述基板保持架載體具備：台座，供所述基板保持架載置；以及轉動體，安裝於所述台座，其中所述轉動體與所述保管容器接觸。
4. 如請求項3所述的鍍覆裝置，其中更具備：維護構造體，配置於所述維護區域內，且能夠接收所述基板保持架以及所述基板保持架載體，所述保管容器具備支承所述轉動體的第一導軌，所述維護構造體具備支承所述轉動體的第二導軌，所述第二導軌構成為與所述第一導軌排列成直線狀。
5. 如請求項4所述的鍍覆裝置，其中所述維護構造體具備：作業台，固定於所述第二導軌，並從所述第二導軌向下方延伸；以及支承部件，將所述作業台支承為能夠旋轉。
6. 如請求項4所述的鍍覆裝置，其中：在所述保管容器上排列有多個基板保持架載體，所述維護區域與所述多個基板保持架載體的排列方向平行地延伸。
7. 如請求項6所述的鍍覆裝置，其中所述維護構造體能夠與所述多個基板保持架載體的排列方向平行地移動。
8. 如請求項7所述的鍍覆裝置，其中所述維護構造體具有車輪，所述車輪使所述維護構造體能夠與所述多個基板保持架載體的排列方向平行地移動。
9. 如請求項1所述的鍍覆裝置，其中：所述保管容器具有面向所述維護區域的門，在所述門安裝有鎖緊機構。
10. 如請求項1所述的鍍覆裝置，其中在所述保管容器設有檢測感測器，所述檢測感測器檢測所述基板保持架載體是否存在於所述保管容器上的規定位置。
11. 如請求項1所述的鍍覆裝置，其中：所述保管容器包括收容所述基板保持架的箱體，所述箱體的底面具有傾斜形狀。

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