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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2020203003A1 (ja) * 2019-03-29 2020-10-08 株式会社ニコン 露光装置、照明光学系、およびデバイス製造方法

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5539011B2 (enExample) * 1974-06-12 1980-10-08
JP3049774B2 (ja) * 1990-12-27 2000-06-05 株式会社ニコン 投影露光装置及び方法、並びに素子製造方法
JPH04104255A (ja) * 1990-08-24 1992-04-06 Hitachi Ltd 縮小投影露光装置
JP3374993B2 (ja) * 1993-06-11 2003-02-10 株式会社ニコン 投影露光方法及び装置、露光装置、並びに素子製造方法
JP2002075843A (ja) * 2000-08-31 2002-03-15 Nikon Corp 露光装置、デバイス製造方法、及び照明装置
JP2002184676A (ja) * 2000-12-18 2002-06-28 Nikon Corp 照明光学装置および該照明光学装置を備えた露光装置
TW200301848A (en) * 2002-01-09 2003-07-16 Nikon Corp Exposure apparatus and exposure method
JP2003203853A (ja) * 2002-01-09 2003-07-18 Nikon Corp 露光装置及び方法並びにマイクロデバイスの製造方法
EP3392903A1 (en) * 2006-06-16 2018-10-24 Nikon Corporation Variable slit device, illumination device, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
EP1906251A1 (en) * 2006-09-26 2008-04-02 Carl Zeiss SMT AG Projection exposure method and projection exposure system
JP2008263092A (ja) * 2007-04-13 2008-10-30 Orc Mfg Co Ltd 投影露光装置
JP2009164355A (ja) * 2008-01-07 2009-07-23 Canon Inc 走査露光装置およびデバイス製造方法
WO2010061674A1 (ja) * 2008-11-28 2010-06-03 株式会社ニコン 補正ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
JP2010197517A (ja) * 2009-02-23 2010-09-09 Canon Inc 照明光学装置、露光装置およびデバイス製造方法
JP5539011B2 (ja) 2010-05-14 2014-07-02 キヤノン株式会社 インプリント装置、検出装置、位置合わせ装置、及び物品の製造方法
JP5868094B2 (ja) * 2011-09-26 2016-02-24 キヤノン株式会社 露光装置及びデバイス製造方法
JP2014195048A (ja) * 2013-02-28 2014-10-09 Canon Inc 照明光学系、露光装置及びデバイスの製造方法
US9746777B2 (en) * 2014-01-09 2017-08-29 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Exposure apparatus and exposure method thereof

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