JP2018045228A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2018045228A5
JP2018045228A5 JP2017142842A JP2017142842A JP2018045228A5 JP 2018045228 A5 JP2018045228 A5 JP 2018045228A5 JP 2017142842 A JP2017142842 A JP 2017142842A JP 2017142842 A JP2017142842 A JP 2017142842A JP 2018045228 A5 JP2018045228 A5 JP 2018045228A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
shielding plate
optical system
illumination
wavelength
light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2017142842A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2018045228A (ja
JP6970548B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to TW106129103A priority Critical patent/TWI668522B/zh
Priority to CN201710788152.6A priority patent/CN107807494B/zh
Priority to KR1020170114993A priority patent/KR102253410B1/ko
Publication of JP2018045228A publication Critical patent/JP2018045228A/ja
Publication of JP2018045228A5 publication Critical patent/JP2018045228A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6970548B2 publication Critical patent/JP6970548B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

JP2017142842A 2016-09-09 2017-07-24 照明光学系、露光装置、及び物品製造方法 Active JP6970548B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW106129103A TWI668522B (zh) 2016-09-09 2017-08-28 Illumination optical system, exposure device, and article manufacturing method
CN201710788152.6A CN107807494B (zh) 2016-09-09 2017-09-05 照明光学系统、曝光装置以及物品制造方法
KR1020170114993A KR102253410B1 (ko) 2016-09-09 2017-09-08 조명 광학계, 노광 장치 및 물품 제조 방법

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016177138 2016-09-09
JP2016177138 2016-09-09

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2018045228A JP2018045228A (ja) 2018-03-22
JP2018045228A5 true JP2018045228A5 (enrdf_load_stackoverflow) 2020-08-27
JP6970548B2 JP6970548B2 (ja) 2021-11-24

Family

ID=61693131

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017142842A Active JP6970548B2 (ja) 2016-09-09 2017-07-24 照明光学系、露光装置、及び物品製造方法

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP6970548B2 (enrdf_load_stackoverflow)
KR (1) KR102253410B1 (enrdf_load_stackoverflow)
TW (1) TWI668522B (enrdf_load_stackoverflow)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7533445B2 (ja) * 2019-03-29 2024-08-14 株式会社ニコン 露光装置、照明光学系、およびデバイス製造方法

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5539011B2 (enrdf_load_stackoverflow) * 1974-06-12 1980-10-08
JP3049774B2 (ja) * 1990-12-27 2000-06-05 株式会社ニコン 投影露光装置及び方法、並びに素子製造方法
JPH04104255A (ja) * 1990-08-24 1992-04-06 Hitachi Ltd 縮小投影露光装置
JP3374993B2 (ja) * 1993-06-11 2003-02-10 株式会社ニコン 投影露光方法及び装置、露光装置、並びに素子製造方法
JP2002075843A (ja) * 2000-08-31 2002-03-15 Nikon Corp 露光装置、デバイス製造方法、及び照明装置
JP2002184676A (ja) * 2000-12-18 2002-06-28 Nikon Corp 照明光学装置および該照明光学装置を備えた露光装置
JP2003203853A (ja) * 2002-01-09 2003-07-18 Nikon Corp 露光装置及び方法並びにマイクロデバイスの製造方法
TW200301848A (en) * 2002-01-09 2003-07-16 Nikon Corp Exposure apparatus and exposure method
JP5071385B2 (ja) * 2006-06-16 2012-11-14 株式会社ニコン 可変スリット装置、照明装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
EP1906251A1 (en) * 2006-09-26 2008-04-02 Carl Zeiss SMT AG Projection exposure method and projection exposure system
JP2008263092A (ja) * 2007-04-13 2008-10-30 Orc Mfg Co Ltd 投影露光装置
JP2009164355A (ja) * 2008-01-07 2009-07-23 Canon Inc 走査露光装置およびデバイス製造方法
WO2010061674A1 (ja) * 2008-11-28 2010-06-03 株式会社ニコン 補正ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
JP2010197517A (ja) * 2009-02-23 2010-09-09 Canon Inc 照明光学装置、露光装置およびデバイス製造方法
JP5539011B2 (ja) 2010-05-14 2014-07-02 キヤノン株式会社 インプリント装置、検出装置、位置合わせ装置、及び物品の製造方法
JP5868094B2 (ja) * 2011-09-26 2016-02-24 キヤノン株式会社 露光装置及びデバイス製造方法
JP2014195048A (ja) * 2013-02-28 2014-10-09 Canon Inc 照明光学系、露光装置及びデバイスの製造方法
US9746777B2 (en) * 2014-01-09 2017-08-29 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Exposure apparatus and exposure method thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102514883B1 (ko) 파면 측정 장치 및 광학 파면 조작기를 갖는 투영 노광 장치
JP7267761B2 (ja) 光源装置、照明装置、露光装置及び物品の製造方法
JP2020122921A5 (enrdf_load_stackoverflow)
JP2015132848A5 (ja) 照明光学系、露光装置、照明方法、露光方法、およびデバイス製造方法
JP2010062281A5 (enrdf_load_stackoverflow)
JP2014222343A5 (enrdf_load_stackoverflow)
TW200923591A (en) Illumination optical system, exposure apparatus, optical element and manufacturing method thereof, and device manufacturing method
CN111258184B (zh) 光源装置、照明装置、曝光装置和用于制造物品的方法
KR20170103418A (ko) 패턴광 조사 장치 및 방법
JP2016001308A5 (ja) 露光装置、およびデバイス製造方法
JP6370626B2 (ja) 照明光学系、照明装置、及び照明光学素子
JP2012174936A5 (enrdf_load_stackoverflow)
JP2019140288A5 (enrdf_load_stackoverflow)
JP2018045228A5 (enrdf_load_stackoverflow)
TWI709825B (zh) 照明光學系統、曝光裝置及物品製造方法
JP2018036425A5 (enrdf_load_stackoverflow)
JP2010192471A5 (enrdf_load_stackoverflow)
JP2003318106A (ja) リソグラフィシステム、及び、リソグラフィ装置における電磁エネルギーの角分布を照明野位置の関数として制御する方法
CN109581820B (zh) 曝光装置
TWI862561B (zh) 曝光裝置
KR102253410B1 (ko) 조명 광학계, 노광 장치 및 물품 제조 방법
JP2019079030A5 (enrdf_load_stackoverflow)
JP2020122922A (ja) 光源装置、照明装置、露光装置及び物品製造方法
JP2021056259A (ja) 光源装置、照明装置、露光装置及び物品の製造方法
TWI828831B (zh) 曝光裝置