JP2018022052A5

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Publication number: JP2018022052A5
Application number: JP2016153381A
Authority: JP
Filing date: 2016-08-04
Publication date: 2019-03-22

Description

［（Ｆ）無機フィラー］
本発明の液晶シール剤は、（Ｆ）無機フィラーを含有しても良い。なお当該無機フィラーはシランカップリング剤等で表面処理されていても良い。当該（Ｆ）無機フィラーとは、シリカ、シリコンカーバイド、窒化珪素、窒化ホウ素、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、硫酸カルシウム、マイカ、タルク、クレー、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸リチウムアルミニウム、珪酸ジルコニウム、チタン酸バリウム、硝子繊維、炭素繊維、二硫化モリブデン、アスベスト等が挙げられ、好ましくは溶融シリカ、結晶シリカ、窒化珪素、窒化ホウ素、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、硫酸カルシウム、マイカ、タルク、クレー、アルミナ、水酸化アルミニウム、珪酸カルシウム、珪酸アルミニウムが挙げられるが、より好ましくはシリカ、アルミナ、タルクである。これら無機フィラーは２種以上を混合して用いても良い。
無機フィラーの平均粒子径は、大きすぎると狭ギャップの液晶セル製造時に上下ガラス基板の貼り合わせ時のギャップ形成がうまくできない等の不良要因となるため、２０００ｎｍ以下が適当であり、好ましくは１０００ｎｍ以下、さらに好ましくは３００ｎｍ以下である。また好ましい下限は１０ｎｍ程度であり、さらに好ましくは１００ｎｍ程度である。粒子径はレーザー回折・散乱式粒度分布測定器（乾式）（株式会社セイシン企業製；ＬＭＳ−３０）により測定することができる。
本発明の液晶シール剤において、無機フィラーを使用する場合には、液晶シール剤の総量中、１０〜５０質量％程度で良いが、２０質量％以上の場合、本願発明の効果はより顕著なものとなり、また２５質量％以上がさらに好ましく、３０質量％以上が特に好ましい。

上記ラジカル重合防止剤としては、光重合開始剤や熱ラジカル重合開始剤等から発生するラジカルをトラップし、重合を防止する化合物であれば特に限定されるものではなく、キノン系、ピペリジン系、ヒンダードフェノール系、ニトロソ系等を用いることができる。具体的には、ナフトキノン、２−ヒドロキシナフトキノン、２−メチルナフトキノン、２−メトキシナフトキノン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシル、２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジン−１−オキシル、２，２，６，６−テトラメチル−４−メトキシピペリジン−１−オキシル、２，２，６，６−テトラメチル−４−フェノキシピペリジン−１−オキシル、ハイドロキノン、２−メチルハイドロキノン、２−メトキシハイドロキノン、パラベンゾキノン、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチルクレゾール、ステアリルβ−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、３，９−ビス[１，１−ジメチル−２−[β―（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ]エチル]、２，４，８，１０−テトラオキサスピロ[５，５]ウンデカン、テトラキス−[メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニルプロピオネート）メタン］、１，３，５−トリス（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンジル）−ｓｅｃ−トリアジン−２，４，６−（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）トリオン、パラメトキシフェノール、４−メトキシ−１−ナフトール、チオジフェニルアミン、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシアミンのアルミニウム塩、商品名アデカスタブＬＡ−８１、商品名アデカスタブＬＡ−８２（株式会社アデカ製）等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらのうちナフトキノン系、ハイドロキノン系、ニトロソ系、ピペリジン系のラジカル重合防止剤が好ましく、ナフトキノン、２−ヒドロキシナフトキノン、ハイドロキノン、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−Ｐ−クレゾール、ポリストップ７３００Ｐ（伯東株式会社製）が更に好ましく、ポリストップ７３００Ｐ（伯東株式会社製）が最も好ましい。
ラジカル重合防止剤の含有量としては本発明の液晶シール剤総量中、０．０００１〜１質量％が好ましく、０．００１〜０．５質量％が更に好ましく、０．０１〜０．２質量％が特に好ましい。

Claims

（Ａ）イミダゾール化合物、（Ｂ）有機フィラー、（Ｃ）硬化性化合物、及び（Ｄ）熱ラジカル重合開始剤を含有する液晶滴下工法用液晶シール剤。
前記成分（Ａ）が２，４−ジアミノ−６−[２’−メチルイミダゾリル−(１’)]−エチル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加物である請求項１に記載の液晶滴下工法用液晶シール剤。
前記成分（Ａ）の液晶滴下工法用液晶シール剤総量中における含有率が１．５質量％以上６．０質量％以下である請求項１又は２に記載の液晶滴下工法用液晶シール剤。
前記成分（Ｂ）が、シリコーンゴム、アクリルゴム、及びウレタンゴムから成る群より選択される１又は２以上のゴムである請求項１乃至３のいずれか一項に記載の液晶滴下工法用液晶シール剤。
前記成分（Ｃ）が、エポキシ（メタ）アクリレート化合物である請求項１乃至４のいずれか一項に記載の液晶滴下工法用液晶シール剤。
前記成分（Ｃ）が、エポキシ（メタ）アクリレート化合物とエポキシ化合物の混合物である請求項１乃至５のいずれか一項に記載の液晶滴下工法用液晶シール剤。
前記成分（Ｄ）が分子内に酸素−酸素結合（−Ｏ−Ｏ−）及び窒素−窒素結合（−Ｎ＝Ｎ−）を含まない熱ラジカル重合開始剤である請求項１乃至６のいずれか一項に記載の液晶滴下工法用液晶シール剤。
更に、（Ｅ）光ラジカル重合開始剤を含有する請求項１乃至７のいずれか一項に記載の液晶滴下工法用液晶シール剤。
更に、（Ｆ）無機フィラーを含有する請求項１乃至８のいずれか一項に記載の液晶滴下工法用液晶シール剤。
更に、（Ｇ）熱硬化剤を含有する請求項１乃至９のいずれか一項に記載の液晶滴下工法用液晶シール剤。
前記成分（Ｇ）が有機酸ヒドラジドである請求項１０に記載の液晶滴下工法用液晶シール剤。
更に（Ｈ）シランカップリング剤を含む請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の液晶滴下工法用液晶シール剤。
２枚の基板により構成される液晶表示セルにおいて、一方の基板に形成された請求項１乃至１２のいずれか一項に記載の液晶滴下工法用液晶シール剤の堰の内側に液晶を滴下した後、もう一方の基板を貼り合わせ、その後光及び／又は熱により硬化することを特徴とする液晶表示セルの製造方法。
請求項１乃至１２のいずれか一項に記載の液晶滴下工法用液晶シール剤を硬化して得られる硬化物でシールされた液晶表示セル。