JP2017527561A5 - - Google Patents

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  1. 式(IV)の構造を有する化合物またはその薬学的に許容可能な塩であって、
    式中、
    XとYは各々、C−H、C−F、C−CH、またはNから独立して選択され、
    Zは−G、−CH−G、−CH−CH−G、−N(R)−G、−N(R)−CH−G、−O−G、−O−CH−G、または−C(O)N(R)(R)から選択され、
    、X、およびXは各々、NまたはC−Rから独立して選択され、ただし、X、X、またはXの少なくとも1つがNであるとし、
    Gはカルボシクリル、アリール、ヘテロシクリル、またはヘテロアリールであり、
    は水素またはアルキルであり、
    とRは、水素、アルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキルから独立して選択され、あるいは、随意にRとRは結合してN結合ヘテロシクリル環系を形成し、
    は、水素、ハロゲン、C−Cアルキル、またはC−Cアルコキシであり、および、
    Rはアリール、ヘテロアリール、アルキニル、またはシクロアルキルアルキニレンである、化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  2. Rはアリールまたはヘテロアリールである、請求項1に記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  3. 式(IV)は式(IVa)である、請求項1または2に記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  4. 式(IV)は式(IVb)である、請求項1または2に記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  5. 式(IV)は式(IVc)である、請求項1または2に記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  6. 式(IV)は式(IVd)である、請求項1または2に記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  7. 式(IV)は式(IVe)である、請求項1または2に記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  8. 式(IV)は式(IVf)である、請求項1または2に記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  9. 式(IV)は式(IVg)である、請求項1または2に記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  10. XはC−Hである、請求項1乃至9のいずれか1つに記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  11. XはC−Fである、請求項1乃至9のいずれか1つに記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  12. XはC−CHである、請求項1乃至9のいずれか1つに記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  13. XはNである、請求項1乃至9のいずれか1つに記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  14. YはC−Hである、請求項1乃至9のいずれか1つに記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  15. YはC−Fである、請求項1乃至9のいずれか1つに記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  16. YはC−CHである、請求項1乃至9のいずれか1つに記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  17. YはNである、請求項1乃至9のいずれか1つに記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  18. XはC−Hであり、YはC−Hである、請求項1乃至9のいずれか1つに記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  19. Zは−O−CH−Gである、請求項1乃至18のいずれか1つに記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  20. Zは−O−Gである、請求項1乃至18のいずれか1つに記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  21. Zは−N(R)−CH−Gである、請求項1乃至18のいずれか1つに記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  22. Zは−N(R)−Gである、請求項1乃至18のいずれか1つに記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  23. Zは−CH−CH−Gである、請求項1乃至18のいずれか1つに記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  24. Zは−CH−Gである、請求項1乃至18のいずれか1つに記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  25. Zは−Gである、請求項1乃至18のいずれか1つに記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  26. Zは−C(O)N(R)(R)である、請求項1乃至18のいずれか1つに記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  27. とRは水素またはアルキルから独立して選択される、請求項26に記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  28. とRはヘテロシクリルまたはヘテロシクリルアルキルから独立して選択される、請求項26に記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  29. とRは結合してN結合ヘテロシクリル環系を形成する、請求項26に記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  30. は水素である、請求項21または22に記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  31. はアルキルである、請求項21または22に記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  32. は水素である、請求項1乃至8、または10乃至31のいずれか1つに記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  33. はC−Cアルコキシである、請求項1乃至8、または10乃至31のいずれか1つに記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  34. Gはヘテロシクリルである、請求項1乃至25または30乃至33のいずれか1つに記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  35. Gは窒素含有ヘテロシクリルである、請求項1乃至34のいずれか1つに記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  36. 窒素含有ヘテロシクリルは5または6員のヘテロシクリルである、請求項35に記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  37. ヘテロシクリルは以下から選択される、請求項35に記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  38. Rはヘテロアリールである、請求項1乃至37のいずれか1つに記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  39. Rは単環式の窒素含有ヘテロアリールである、請求項38に記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  40. Rは二環式の窒素含有ヘテロアリールである、請求項38に記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  41. Rは以下から選択される、請求項40に記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  42. Rはアリールである、請求項1乃至37のいずれか1つに記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  43. アリールは随意に置換されたフェニル基である、請求項42に記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  44. 随意に置換されたフェニル基は、4−メチルフェニル、4−クロロフェニル、4−フルオロフェニル、4−シアノフェニル、4−(メチルスルホニル)フェニル、または4−トリフルオロメチルフェニルから選択される、請求項42に記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  45. 随意に置換されたフェニル基は、4−メトキシフェニル、3−フルオロ−4−メトキシフェニル、または3−クロロ−4−メトキシフェニルから選択される、請求項42に記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  46. XはC−Fであり、YはC−Hであり、Rは水素である、請求項5に記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  47. Rは二環式の窒素含有ヘテロアリールである、請求項46に記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  48. Rは以下から選択される、請求項47に記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  49. Rは以下から選択される、請求項47に記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  50. Gは以下である、請求項46乃至49のいずれか1つに記載の化合物またはその薬学的に許容可能な塩。
  51. 請求項1乃至50のいずれか1つに記載されるとおりの式(IV)の化合物またはその薬学的に許容可能な塩、および薬学的に許容可能な賦形剤を含む、医薬組成物。
  52. 請求項1乃至50のいずれか1つに記載されるとおりの式(IV)の化合物にリジン特異的なデメチラーゼ1酵素を晒すことにより、リジン特異的なデメチラーゼ1活性を阻害する工程を含む、細胞の遺伝子転写を調節する方法。
  53. 患者の癌を処置するための薬物の製造における、請求項1乃至50のいずれか1つに記載されるとおりの式(IV)の化合物、またはその薬学的に許容可能な塩の使用。
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