JP2017516130A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017516130A5 JP2017516130A5 JP2016560399A JP2016560399A JP2017516130A5 JP 2017516130 A5 JP2017516130 A5 JP 2017516130A5 JP 2016560399 A JP2016560399 A JP 2016560399A JP 2016560399 A JP2016560399 A JP 2016560399A JP 2017516130 A5 JP2017516130 A5 JP 2017516130A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- points
- mask
- alignment
- software module
- recipe
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 23
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims 13
- 238000004590 computer program Methods 0.000 claims 6
- 230000004927 fusion Effects 0.000 claims 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims 3
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US201461974001P | 2014-04-02 | 2014-04-02 | |
| US61/974,001 | 2014-04-02 | ||
| PCT/US2015/024060 WO2015153872A1 (en) | 2014-04-02 | 2015-04-02 | A method, system and computer program product for generating high density registration maps for masks |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2017516130A JP2017516130A (ja) | 2017-06-15 |
| JP2017516130A5 true JP2017516130A5 (enExample) | 2018-05-10 |
| JP6570010B2 JP6570010B2 (ja) | 2019-09-04 |
Family
ID=54241286
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016560399A Active JP6570010B2 (ja) | 2014-04-02 | 2015-04-02 | マスクのための高密度位置合わせマップを生成するための方法、システム、およびコンピュータプログラム製品 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20150310160A1 (enExample) |
| JP (1) | JP6570010B2 (enExample) |
| KR (1) | KR102330732B1 (enExample) |
| CN (1) | CN106165065B (enExample) |
| TW (1) | TWI640843B (enExample) |
| WO (1) | WO2015153872A1 (enExample) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10162928B2 (en) * | 2015-12-02 | 2018-12-25 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Method of designing a semiconductor device, system for implementing the method and standard cell |
| US10296702B2 (en) | 2017-03-15 | 2019-05-21 | Applied Materials Israel Ltd. | Method of performing metrology operations and system thereof |
| US10120973B2 (en) * | 2017-03-15 | 2018-11-06 | Applied Materials Israel Ltd. | Method of performing metrology operations and system thereof |
| DE102017219217B4 (de) * | 2017-10-26 | 2021-03-25 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Masken für die Mikrolithographie, Verfahren zur Bestimmung von Kantenpositionen der Bilder der Strukturen einer derartigen Maske und System zur Durchführung eines derartigen Verfahrens |
| WO2022009392A1 (ja) * | 2020-07-09 | 2022-01-13 | 株式会社日立ハイテク | 欠陥検査装置、欠陥検査方法 |
| CN114373000A (zh) * | 2021-11-29 | 2022-04-19 | 湖南快乐阳光互动娱乐传媒有限公司 | 一种问题地图筛查方法和装置 |
Family Cites Families (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3730263B2 (ja) * | 1992-05-27 | 2005-12-21 | ケーエルエー・インストルメンツ・コーポレーション | 荷電粒子ビームを用いた自動基板検査の装置及び方法 |
| US6539106B1 (en) * | 1999-01-08 | 2003-03-25 | Applied Materials, Inc. | Feature-based defect detection |
| JP3808817B2 (ja) * | 2002-09-05 | 2006-08-16 | 株式会社東芝 | マスク欠陥検査方法、半導体装置の製造方法、マスク欠陥検査装置、欠陥影響度マップ作成方法およびプログラム |
| US9002497B2 (en) * | 2003-07-03 | 2015-04-07 | Kla-Tencor Technologies Corp. | Methods and systems for inspection of wafers and reticles using designer intent data |
| WO2006046236A1 (en) * | 2004-10-26 | 2006-05-04 | May High-Tech Solutions, Ltd. | Method and apparatus for residue detection on a polished wafer |
| US7349066B2 (en) * | 2005-05-05 | 2008-03-25 | Asml Masktools B.V. | Apparatus, method and computer program product for performing a model based optical proximity correction factoring neighbor influence |
| JP4203498B2 (ja) * | 2005-09-22 | 2009-01-07 | アドバンスド・マスク・インスペクション・テクノロジー株式会社 | 画像補正装置、パターン検査装置、画像補正方法、及び、パターン欠陥検査方法 |
| US7676077B2 (en) * | 2005-11-18 | 2010-03-09 | Kla-Tencor Technologies Corp. | Methods and systems for utilizing design data in combination with inspection data |
| KR100819803B1 (ko) * | 2006-04-06 | 2008-04-07 | 삼성테크윈 주식회사 | 솔더 페이스트 검사 방법 |
| US8624971B2 (en) * | 2009-01-23 | 2014-01-07 | Kla-Tencor Corporation | TDI sensor modules with localized driving and signal processing circuitry for high speed inspection |
| US8825051B2 (en) * | 2009-05-01 | 2014-09-02 | Qualcomm Incorporated | Idle handoff to hybrid femto cell based on system selection database |
| KR101195263B1 (ko) * | 2010-04-13 | 2012-11-14 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 포토마스크의 이미지 배치 에러 보정 방법 |
| JP2013045372A (ja) * | 2011-08-25 | 2013-03-04 | Dainippon Printing Co Ltd | 画像評価方法、描画条件選択方法、画像評価プログラム、描画条件選択プログラム |
| JP5860646B2 (ja) * | 2011-09-16 | 2016-02-16 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 位置ずれマップ作成装置、パターン検査システム、及び位置ずれマップ作成方法 |
| US8855399B2 (en) * | 2012-02-07 | 2014-10-07 | Applied Materials Israel, Ltd. | System, a method and a computer program product for CAD-based registration |
| US9599575B2 (en) * | 2012-02-07 | 2017-03-21 | Applied Materials Israel, Ltd. | System, a method and a computer program product for CAD-based registration |
| TWI618050B (zh) * | 2013-02-14 | 2018-03-11 | 杜比實驗室特許公司 | 用於音訊處理系統中之訊號去相關的方法及設備 |
| CN103366375B (zh) * | 2013-07-15 | 2016-08-10 | 中国科学院自动化研究所 | 基于动态有向图的图像集配准方法 |
| CN106154768B (zh) * | 2016-07-01 | 2019-04-05 | 无锡中微掩模电子有限公司 | 一种基于掩模板的集成电路基板二次曝光方法 |
-
2015
- 2015-04-02 KR KR1020167030599A patent/KR102330732B1/ko active Active
- 2015-04-02 JP JP2016560399A patent/JP6570010B2/ja active Active
- 2015-04-02 CN CN201580018393.1A patent/CN106165065B/zh active Active
- 2015-04-02 TW TW104111017A patent/TWI640843B/zh active
- 2015-04-02 WO PCT/US2015/024060 patent/WO2015153872A1/en not_active Ceased
- 2015-07-09 US US14/795,576 patent/US20150310160A1/en not_active Abandoned
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2017516130A5 (enExample) | ||
| US10048226B2 (en) | Imaging method and apparatus based on magnetic flux leakage testing | |
| US20160154926A1 (en) | Digital image correlation system and method | |
| JP6359868B2 (ja) | 3次元データ表示装置、3次元データ表示方法、及び3次元データ表示プログラム | |
| JP7146013B2 (ja) | サーバ装置、画像処理方法、及びプログラム | |
| JP6056016B2 (ja) | 三次元モデル生成方法、システム及びプログラム | |
| CN101127031A (zh) | 点云数据均值过滤系统及方法 | |
| JP2020026663A5 (enExample) | ||
| CN104406770B (zh) | 波像差测量模块的畸变测量装置和畸变校正方法 | |
| CN102168945B (zh) | 影像测量系统及方法 | |
| TW201514446A (zh) | 三維量測模擬取點系統及方法 | |
| JP5916052B2 (ja) | 位置合わせ方法 | |
| JP6560547B2 (ja) | 境界点抽出方法およびトータルステーションを用いた測定方法 | |
| CN114581314B (zh) | 振镜校准方法、装置及计算机可读存储介质 | |
| TW201543184A (zh) | 用於產生遮罩之高密度對位映圖的方法、系統及電腦程式產品 | |
| RU2544761C1 (ru) | Устройство для моделирования каталога разведки разнотипных подвижных объектов | |
| TW201518970A (zh) | 量測設備離線點雲模擬系統及方法 | |
| JP2016065785A5 (enExample) | ||
| JP2016080475A5 (enExample) | ||
| CN112297435B (zh) | 空间差异测量 | |
| CN103673962A (zh) | 轮廓线自动量测系统及方法 | |
| JP2017198710A5 (ja) | プログラム、記録媒体、及び校正方法 | |
| CN110567489B (zh) | 角度交会测量系统的动态误差的获取方法及系统 | |
| JP2016061738A5 (ja) | 算出方法、プログラム、情報処理装置及び計測装置 | |
| JP2013004031A5 (enExample) |