JP2017508871A - 濃縮された直鎖テトラミン由来のビスイミダゾリン化合物を含む腐食防止組成物 - Google Patents

濃縮された直鎖テトラミン由来のビスイミダゾリン化合物を含む腐食防止組成物 Download PDF

Info

Publication number
JP2017508871A
JP2017508871A JP2016541011A JP2016541011A JP2017508871A JP 2017508871 A JP2017508871 A JP 2017508871A JP 2016541011 A JP2016541011 A JP 2016541011A JP 2016541011 A JP2016541011 A JP 2016541011A JP 2017508871 A JP2017508871 A JP 2017508871A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tetramine
bisimidazoline
corrosion
moiety
linear
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
JP2016541011A
Other languages
English (en)
Inventor
リテシュ・グラバニ
スティーブン・ダブリュ・キング
プラシャント・タタケ
Original Assignee
ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー
ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー, ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー filed Critical ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー
Publication of JP2017508871A publication Critical patent/JP2017508871A/ja
Ceased legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F11/00Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
    • C23F11/08Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids
    • C23F11/10Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids using organic inhibitors
    • C23F11/14Nitrogen-containing compounds
    • C23F11/149Heterocyclic compounds containing nitrogen as hetero atom
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D233/00Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings
    • C07D233/04Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
    • C07D233/06Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D233/08Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms, directly attached to ring carbon atoms with alkyl radicals, containing more than four carbon atoms, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D233/10Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms, directly attached to ring carbon atoms with alkyl radicals, containing more than four carbon atoms, directly attached to ring carbon atoms with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms, directly attached to ring nitrogen atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D233/00Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings
    • C07D233/04Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
    • C07D233/06Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D233/08Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms, directly attached to ring carbon atoms with alkyl radicals, containing more than four carbon atoms, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D233/12Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms, directly attached to ring carbon atoms with alkyl radicals, containing more than four carbon atoms, directly attached to ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms
    • C07D233/16Radicals substituted by nitrogen atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/08Anti-corrosive paints
    • C09D5/082Anti-corrosive paints characterised by the anti-corrosive pigment
    • C09D5/086Organic or non-macromolecular compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40Additives
    • C09D7/45Anti-settling agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40Additives
    • C09D7/48Stabilisers against degradation by oxygen, light or heat
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K8/00Compositions for drilling of boreholes or wells; Compositions for treating boreholes or wells, e.g. for completion or for remedial operations
    • C09K8/54Compositions for in situ inhibition of corrosion in boreholes or wells
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K8/00Compositions for drilling of boreholes or wells; Compositions for treating boreholes or wells, e.g. for completion or for remedial operations
    • C09K8/60Compositions for stimulating production by acting on the underground formation
    • C09K8/62Compositions for forming crevices or fractures
    • C09K8/72Eroding chemicals, e.g. acids
    • C09K8/74Eroding chemicals, e.g. acids combined with additives added for specific purposes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F11/00Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
    • C23F11/04Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in markedly acid liquids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F11/00Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
    • C23F11/08Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids
    • C23F11/10Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids using organic inhibitors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K2208/00Aspects relating to compositions of drilling or well treatment fluids
    • C09K2208/32Anticorrosion additives

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)

Abstract

本発明は、少なくとも1つのビスイミダゾリン化合物を組み込む腐食防止組成物を提供する。本発明の実践において、直鎖テトラミンが濃縮されたテトラミン混和物が、ビスイミダゾリン化合物を調製するために使用される。「濃縮された」は、本混和物中に含まれるテトラミン種の少なくとも70重量%〜最大100%が、L−TETA等の直鎖テトラミンを含むことを意味する。【選択図】なし

Description

関連出願への相互参照
本出願は、2013年12月27日出願の印特許出願第6132/CHE/2013号の優先権を主張し、その全内容は、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
本発明は、金属、金属合金、金属間組成物等の材料を腐食から保護するのを助長するために使用される腐食防止組成物に関し、この組成物は、ビスイミダゾリンの両方のイミダゾリン環上における疎水性部分で官能化される1つ以上のビスイミダゾリンを含む。より具体的には、本発明は、直鎖テトラミンが濃縮されたアミン混和物が、ビスイミダゾリン(複数可)を調製するために使用される、かかる腐食防止組成物に関する。腐食媒体中での腐食防止剤としてのこれらの機能性は、非イオン性界面活性剤の存在下で著しく高められる。
水性組成物は、工業用機材もしくは住宅用機材、輸送コンテナ、配管及び備品、建築物、地上交通システム、海上システムもしくは住居、または航空システムもしくは住居の金属構成要素の、冷却もしくは洗浄を助長するために、多くの工業過程において使用される。水はまた、かかる物品によって、運ばれ、処理され、さもなければ取り扱われている、溶媒または組成物の他の構成成分の一部であり得る。かかるシステムにおいて、熱交換器、パイプ、槽、弁、水ポンプ、ポンプインペラー、プロペラ及びタービン板、ハウジング、被削面、留め金具、支持体、コンピューター構成要素、ハードウェア等を含む多くの種類の金属構成成分は、水性組成物に接触し得る。金属には、純金属、合金、金属間組成物、または腐食し易い他の金属含有組成物が含まれる。
水性組成物は、金属の浸食または腐食を引き起こすことによって金属構成成分に損傷を与え得る。腐食は概して、酸化または他の薬品侵食を伴う金属に対する破壊活動である。腐食した金属構成成分は、低減された機能性を有し、それは、工業過程の非効率性または動作不能を引き起こす。腐食した構成要素は、廃棄、修理、または取替えが必要になることがある。加えて、腐食生成物は、蓄積し、その腐食した材料と、水または他の流体媒体との間での熱伝達速度を低下し得る。よって、腐食は、効率的な冷却が要素となるシステム動作の効率性を低減し得る。工業装置における金属構成要素の腐食は、システム不能、さらには装置の操業停止までを引き起こし得る。
水性媒体中の特定の種の存在は、酸化を引き起こすか、または酸化を増大させ、それにより、物品の浸食または腐食を危険なまでに促進する。これは、石油及びガス産業に関連する。本産業でますます広く行われている実践として、油の粘度を低減するために、油井中に二酸化炭素を注入する傾向がある。これは、より多くのオイルの回収を可能にし、生産を高める。しかし、この手法は大きな危険を伴う。二酸化炭素が水に溶解すると、炭酸が形成される傾向がある。炭酸は、近似のpH値で、塩酸よりもさらに腐食性があり得る。油井作業において、水はほぼ常時存在するため、二酸化炭素を使用して、石油回収を高めることは、炭酸形成の危険性を増大させることになり、つまり、例えば炭素鋼の輸送管路等の輸送管路及び他の機材の腐食を増大させる。
腐食防止は、多くの状況、特に製造業及び塗装分野において、腐食性薬品または水性媒体の腐食作用に晒される機材を無傷に保つ上で、不可欠な要件である。腐食防止剤の使用は、石油及びガス産業において、輸送管路を腐食から保護するのを助長するために特に重要である。競争力のある経費において、より低い活性用量で、厳しい適用条件の下、腐食に対して一定した保護を提供することが可能な改善された防止生成物が常時及び継続的に必要とされている。
本発明は、少なくとも1つのビスイミダゾリン化合物を組み込む腐食防止組成物を提供する。本発明の実践において、直鎖テトラミンが濃縮されたアミン混和物は、ビスイミダゾリン化合物を調製するために使用される。「濃縮された(enriched)」は、本混和物中に含まれるテトラミン種の少なくとも70重量%〜最大100%が、L−TETA等の直鎖テトラミンを含むことを意味する。テトラミン材料は、作製された状態で濃縮され得る。あるいは、より希薄なテトラミン材料は、濃縮された実施形態物を提供するために処理され得る。
本発明の腐食防止組成物は、多くの利点を提供する。本組成物は、過酷な環境下においても、腐食または他の変質に対する優れた保護を提供する。例えば、例示的な実施形態は、鉄系金属含有材料が水性酸性媒体に曝露されるときでも、その材料の優れた腐食保護を提供する。理論に束縛されることを望むものではないが、優れた腐食保護は、少なくとも部分的に、金属含有基材、特に鉄系金属に対する、ビスイミダゾリン化合物の優れた結合特質及び/または吸着特質に起因すると考えられる。かかる結合質または吸着の結果として、本組成物は、基材と腐食媒体との間の腐食性接触の回避を助長するための保護膜または他の障壁を形成すると考えられる。この理由から、腐食防止組成物はまた、アルカリ性媒体及び/または塩水(例えば、海水)環境における腐食または他の変質に対しても保護すると考えられる。
本発明のビスイミダゾリンは、非常に有効な腐食防止剤であり、濃縮された直鎖テトラミンを使用することは、より高量のビスイミダゾリン容量を有する反応生成物を提供する。濃縮された直鎖テトラミン由来のビスイミダゾリンを、非イオン性界面活性剤と組み合わせて使用する予想外の利点は、ビスイミダゾリンの用量が低減されても、高レベルの腐食保護が維持され得ることである。比較試料は、類似の境遇下で、このような高レベルの保護を維持できなかった。ビスイミダゾリン(複数可)を1つ以上の濃縮された直鎖テトラミンから得る他の利点は、ビスイミダゾリンは、多くの実践様式において、触媒または溶媒無しで作製することが非常に容易な点である。
ビスイミダゾリンはまた、モノイミダゾリンよりも良好な熱安定性を示す。このことは、本発明の組成物が、モノイミダゾリンまたはより低量なビスイミダゾリン容量を含有する生成混合物よりも過酷な環境において腐食保護を提供する可能性を提示することを意味する。
本発明のビスイミダゾリンは、非イオン性界面活性剤との組み合わせで、相乗的腐食保護を示す。非イオン性界面活性剤(複数可)及び本発明のビスイミダゾリン化合物の組み合わせは、より低量の腐食防止剤の適用において、より高い用量と実質的に同じレベルの腐食保護を可能にする。一般的な腐食防止剤の用量が低減されると、通常、界面活性剤の存在下でさえ腐食保護は大幅に低下するため、これは注目すべきことである。
一態様において、本発明は、ビスイミダゾリンを作製する方法に関し、
(a)少なくとも1つのテトラミンを含むアミン混和物を提供することであって、少なくとも1つのテトラミンの少なくとも70重量%が、第1及び第2の一級アミン部分ならびに第1及び第2の二級アミン部分を有する以下の構造による直鎖テトラミンを含む、提供するステップと、
Figure 2017508871
(b)テトラアミン反応物質を、カルボン酸官能基に対して単官能性であり、かつ一級アミン官能基と共反応して、アミド連鎖を形成する、以下の構造による少なくとも1つの共反応性反応物質と反応させることであって、
Figure 2017508871
以下の構造によるビスアミドを形成するのに有効な条件下で発生する、反応させるステップと、
Figure 2017508871
(c)少なくともビスアミドを含む成分に、以下の構造によるビスイミダゾリンを形成させるステップと、を含み、
Figure 2017508871
式中、
各Z、Z、Z、Z、Z、及びZが独立して、Hであり、1〜10個の炭素原子のヒドロカルビルであり、かつ/または別のZ、Z、Z、Z、Z、もしくはZ部分との環構造の共部位であり、
Mが、共反応性反応物質の−COOM官能基が、直鎖テトラミンの一級アミン官能基と共反応して、アミド連鎖を形成するような部分であり、
各Rが独立して、6〜50個の炭素原子を含む、疎水性脂肪族一価部分である。
別の態様において、本発明は、鉄系金属を含む基材の腐食を防止する方法に関し、鉄系金属を、以下の構造を有する化合物を含む組成物と接触させるステップを含み、
Figure 2017508871
式中、
各Z、Z、Z、Z、Z、及びZが独立して、Hであり、1〜10個の炭素原子のヒドロカルビルであり、かつ/または別のZ、Z、Z、Z、Z、もしくはZ部分との環構造の共部位であり、
各Rが独立して、6〜50個の炭素原子を含む、疎水性脂肪族一価部分である。
別の態様において、本発明は、腐食から鉄系金属を保護するための効能を有する組成物に関し、
a)水性液体担体と、
b)本組成物に鉄系金属の腐食を防止する能力を提供することを助長するのに有効な量のビスイミダゾリン化合物と、を含み、本ビスイミダゾリン化合物が、以下の構造を有し、
Figure 2017508871
式中、
各Z、Z、Z、Z、Z、及びZが独立して、Hであり、1〜10個の炭素原子のヒドロカルビルであり、かつ/または別のZ、Z、Z、Z、Z、もしくはZ部分との環構造の共部位であり、
各Rが独立して、6〜50個の炭素原子を含む、疎水性脂肪族一価部分である。
本発明のビスイミダゾリン化合物が、直鎖トリエチレンテトラミン(L−TETA)及びオレイン酸からどのように調製されるかを模式的に示す。 酸性試験媒体中、0.1重量%の用量で試験された試料に対する腐食防止%を示す。 溶媒無し、溶媒有り、TRITON(商標)X−100非イオン性界面活性剤有り、及びECOSURF(商標)SA−9非イオン性界面活性剤有りの状態で、酸性試験媒体中、0.01重量%の用量で試験された試料に対する腐食防止%を示す。 10ppm、5ppm、及び3ppmの用量での非イオン性界面活性剤の存在下における、酸性試験媒体中の試験された試料に対する腐食防止%を示す。
以下に記載される本発明の実施形態は、本発明が以下の詳細な記述に開示される的確な形態に網羅的であるか、または限定されることを意図するものではない。むしろ、選択及び記載される本実施形態の目的は、当業者による本発明の原理及び実践の評価及び理解が促進され得ることである。
一態様において、本発明は、腐食に対して金属含有基材の保護を助長する処理において有用であるビスイミダゾリンの調製を伴う。本発明のビスイミダゾリン化合物には、式Iによる化合物が含まれ、
Figure 2017508871
式中、各Z、Z、Z、Z、Z、及びZが独立して、H等の一価部分であり、1〜10個、好ましくは1〜4個、最も好ましくは1〜2個の炭素原子のヒドロカルビルであり、かつ/またはZ、Z、Z、Z、Z、及びZ部分のうちの2つが、対応するイミダゾリン環(複数可)に2つの結合部位で結合する、ヒドロカルビレン部分等の二価部分を形成するのに有効な様式で互いに連結される。多くの実施形態において、各Z、Z、Z、Z、Z、及びZは独立して、H、メチル、及び/またはエチルである。ヒドロカルビレン部分は、二価の飽和炭化水素、例えば−CH−;−CHCH−;−CHCHCH−;−CHCHCHCH−;−CHCH(CH)CHCH−;−CHC(CHCHCH−;−CHCH(CH)CH(CH)CH−;−CHCH(CH)CH−;−CH(CH)CHCH−等である。
各Rは独立して、6〜50個、好ましくは8〜30個、より好ましくは10〜20個の炭素原子を含む、疎水性脂肪族一価部分である。Rは、直鎖状、分岐状、または環状であり得る。Rは、飽和または不飽和であり得る。任意選択的に、Rには、O、P、S、N等の1個以上のヘテロ原子が含まれ得るが、ヘテロ原子容量は、R部分が疎水性になるように制限される範囲である。各R部分に関して使用されるように、用語、疎水性は、その部分には、炭素及び水素以外で、炭素原子6個以上、好ましくは8個以上、より好ましくは10個以上当たり、1個以下の他の種類の原子が含まれることを意味する。例えば、式A及び式Bによる一価部分は、
Figure 2017508871
疎水性である。式Aには、酸素原子当たり10個の炭素原子が含まれる(10:1比)。式Bには、酸素原子当たり11個の炭素原子が含まれる(11:1比)。
対照的に、式C及び式Dによる一価部分は、
Figure 2017508871
疎水性ではない。式Cには、酸素原子当たり4個の炭素原子が含まれる(4:1比)。式Dには、1個の酸素原子当たり2個の炭素原子が含まれる(2:1比)。
対応するR供給源(例えば、以下で考察されるような脂肪酸)ならびに得られたビスイミダゾリンは、室温で液体になる傾向があり得るため、Rの不飽和の実施形態は、幾つかの実施形態において有用である。Rの典型的な不飽和の実施形態には、以下のうちの1つ以上のシス型及び/またはトランス型のうちの1つ以上が含まれる。
CH(CHCH=CH(CH
CH(CHCH=CH(CH
CH(CHCH=CH(CH
CH(CHCH=CH(CH
CH(CHCH=CH(CH
CH(CHCH=CH(CH
CH(CHCH=CHCHCH=CH(CH
CH(CHCH=CHCHCH=CH(CH
CHCHCH=CHCHCH=CHCHCH=CH(CH
CH(CHCH=CHCHCH=CHCHCH=CHCHCH=CH(CH
CHCHCH=CHCHCH=CHCHCH=CHCHCH=CHCHCH=CH(CH
CH(CHCH=CH(CH11
CHCHCH=CHCHCH=CHCHCH=CHCHCH=CHCHCH=CHCHCH=CH(CH
の飽和の実施形態もまた、有用であり得る。Rの典型的な飽和の実施形態には、以下のうちの1つ以上が含まれる。
CH(CH
CH(CH
CH(CH10
CH(CH12
CH(CH14
CH(CH16
CH(CH18
CH(CH20
CH(CH22
CH(CH24
1個以上のヘテロ原子を含むRの典型的な実施形態には、ペンダントヒドロキシル官能基が含まれ得る。この種類のR部分の例は、17個の炭素原子の単不飽和炭化水素鎖(その鎖の第1の炭素が、上記の式Iまたは下記のIA中のイミダゾリン環の窒素に結合されている)であり、それには、その鎖の12個目の炭素原子からのペンダントOHが含まれ、8個目の炭素と9個目の炭素との間の二重結合が含まれる。
上記に記載されるRの実施形態の各々は、以下に定義される式R−COOMによる対応する脂肪酸(複数可)から得られる可能性がある。模式的に、R部分は、脂肪酸の「末端」と示され得る。脂肪酸は、以下に記載される合成スキームによるビスイミダゾリン(複数可)を調製するために使用され得る。かかるスキームにおいて、COOH基の炭素は、式Iによるイミダゾリン環の一部になり、末端部分は、その環のR置換基となる。
式Iによる典型的な化合物は、式IAで示される構造を有する。
Figure 2017508871
式IAによる化合物の好ましい実施形態において、Rは、以下のような、シス及び/またはトランス、好ましくはシス構造を有する。
−(CHC=C(CHCH
本発明は、式Iによるビスイミダゾリンを調製するための方法を提供する。第1のステップにおいて、濃縮されたテトラミン混和物は、ビスイミダゾリンの合成のための反応物質として作用するために提供される。本明細書で使用される場合、テトラミンは、4つのアミン基を含む任意の化合物である。テトラミン混和物は、1つ以上の異なるテトラミンを含み得るが、本混和物は、以下の式IIによる1つ以上の直鎖テトラミンが濃縮されることを条件とする。本発明の実践において有用である濃縮されたテトラミン混和物中、式IIによる直鎖テトラミンには、以下に記載される反応スキームにおいてイミダゾリン環の形成に有利となる有効な様式で一級及び二級アミン基が含まれる。しかし、本発明の実践において有用である濃縮されたテトラミン混和物には、他のテトラミンを含む1つ以上の他のアミンが任意選択的に含まれ得、そこではアミン基が、一級、二級、及び/または三級であり得る(例えば、AEPとしても既知であるアミノエチルピペラジンには、三級アミン容量が含まれる)。
提供されるテトラミン(複数可)のうち1つ以上が、室温で液体であり得る。例えば、L−TETA(直鎖トリエチレンテトラミンとしても既知である、直鎖,N,N′−ビス(2−アミノエチル)−1,2−エタンジアミン)は、室温で液体である。テトラミン反応物質として作用することに加えて、かかる液体テトラミンはまた、反応のための溶媒としても機能し、他の溶媒の必要性を低減するか、または排除さえする。
本発明の実践において、第1のステップで提供されるテトラミン(複数可)の少なくとも70重量%、好ましくは少なくとも85重量%、より好ましくは少なくとも95重量%、さらにより好ましくは少なくとも99重量%には、式IIによる1つ以上の直鎖脂肪族テトラミンが含まれ、
Figure 2017508871
式中、各Z、Z、Z、Z、Z、及びZが独立して、上記で定義されるとおりである。典型的な実施形態において、式IIによる直鎖脂肪族テトラミンは、式IIAによる直鎖トリエチレンテトラミン(L−TETA)である。
Figure 2017508871
式IIによるテトラミンは、第1及び第2の一級アミン部分ならびに第1及び第2の二級アミン部分を有することを留意されたい。加えて、各一級アミンは、2個の炭素原子を含む炭素主鎖によって対応する二級アミンから間隔を空けられている。この構造は、以下に記載されるように、環形成を促進する。
少なくとも70重量%、好ましくは少なくとも85重量%、より好ましくは少なくとも95重量%、さらにより好ましくは少なくとも99重量%の、式IIによる直鎖脂肪族テトラミン(複数可)を含むテトラミン反応物質は、本明細書において濃縮されていると言及される。濃縮されたテトラミン(複数可)は、1つ以上の供給源(複数可)から取得され得る。1つの選択肢として、濃縮されたテトラミン生成物は、商業的供給源から取得され得、次に精製されるか、さもなければ処理されて、直鎖テトラミン(複数可)が濃縮された混和物を提供し得る。例えば、1つの供給源は、The Dow Chemical Co.から、Amine Multi−Use Emulsifierの商品名で市販される。この生成物は概して、65重量%以下の直鎖テトラミンを含有するが、精製され得るか、さもなければ処理されて、濃縮され得る。本明細書で使用される場合、式IIによる直鎖テトラミンより低度に濃縮された容量を有するテトラミン混和物は、「希薄」であると言及されるだろう。濃縮されたテトラミン材料を生成するための希薄なテトラミン供給源の精製技法は、米国特許公開第2013/0204044号に記載されている。
濃縮されたテトラミンはまた、種々の異なる技法を使用しても製造され得る。1つの製造選択肢として、二塩化エチレン(EDC)が、アミンの混合物である場合が多い生成混和物を形成するために使用され得、式IIによる直鎖テトラミンが、約65重量%以下のテトラミン容量を構成する。したがって、EDC系プロセスから取得された希薄生成混合物は典型的に、さらに精製されて、本発明の実践に有用な濃縮されたテトラミン材料が取得される。EDC技法は、米国特許公開第2013/0204044号に記載されている。
濃縮されたテトラミン材料を提供するための別の有用な選択肢は、式IIによる直鎖テトラミンが、約65重量%超のテトラミン容量を構成する、アミンの混合物である場合が多い生成混和物を形成するためのアミノ基転移技法を使用することを伴う。アミノ基転移技法を使用する利点は、アミノ基転移が本発明の実践に有用な濃縮されたテトラミン生成物を直接提供し得ることである。幾つかの実践様式において、アミノ基転移は、濃縮されたテトラミン材料を提供するが、米国特許公開第2013/0204044号に記載されるような技法が実践されて、直鎖テトラミン容量に関してさらに材料を濃縮し得る。濃縮された直鎖テトラミンを形成するのに有用なアミノ基転移技法が、米国特許公開第2010−0094007−A1号、ならびに米国特許第8,188,318号、同第8,293,676号、及び同第8,187,997号に記載されている。
濃縮されたテトラミン組成物を提供するための別の選択肢によると、米国特許公開第2013/0090453号は、水素で加圧された反応器内でテトラヒドロフラン(THF)中のエチレンジアミンジアセトニトリル(EDDN)を水素化することによって、L−TETAを調製するプロセスを記載する。ラネーコバルトが、触媒として使用された。本生成物は、76.7%のTETAを含むアミンの混合物であった。
テトラミン(複数可)が、式IIによる1つ以上の直鎖脂肪族テトラミンの濃縮された量を含むことを条件として、第1のステップにおいて提供されたテトラミン(複数可)には、1つ以上の他の直鎖状、分岐状、または環状テトラミンが任意選択的に含まれ得る。かかる他のテトラミンの例には、N,N′−ビス−(2−アミノエチル)ピペラジン(DAEP)、N[(2−アミノエチル)2−アミノエチル]ピペラジン(PEEDA)、トリス−(2−アミノエチル)アミン(TAEA)、これらの組み合わせ等のうちの1つ以上が含まれる。
テトラミンに加えて、テトラミンよりも多いかまたは少ない数のアミン基を持つ、1つ以上の他のアミン官能化合物も、第1のステップにおいて提供され得る。存在する場合、テトラミン(複数可)対かかる他のアミンの重量比は、100:0.0001〜100:50、好ましくは100:0.0001〜100:1の範囲であり得る。幾つかの実践様式において、これらの他のアミンは、モノマー、オリゴマー、及び/またはポリマーであり得る。モノマーは、少なくとも1つの官能基を含む化合物であり、この官能基は、本化合物が、2つ以上の同一または異なり得る共反応性種に結合することを可能にして、オリゴマー及びポリマーを形成する。本明細書で使用される場合、オリゴマーは、2つ以上の(同一または異なり得る)モノマーを組み込み、最大30個の炭素原子、しばしば4〜30個の炭素原子を含む化合物を指す。ポリマーは、2つ以上の(同一もしくは異なり得る)モノマー及び/または(同一もしくは異なり得る)オリゴマーを組み込み、30個超の炭素原子を含む化合物を指す。典型的なアミン官能基ポリマーは、500〜500,000、時には2000〜250,000、または時には2000〜100,000の範囲の数平均重量を有し得る。ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)技法は、本発明の実践において、数平均分子量を決定する上で有用である。
第2のステップにおいて、濃縮されたテトラミン混和物は、式IIIによる少なくとも1つの共反応性反応物質と反応させられ、
Figure 2017508871
式中、Rは、上記で定義されるとおりであり、かつMは、−COOM官能基が、濃縮されたテトラミン反応物質(複数可)の一級アミン官能基と共反応して、アミド連鎖を形成するような任意の部分である。多くの実施形態において、Mは、H、メチル、エチル、これらの組み合わせ等である。好ましくは、Mは、Hである。MがHである式IIIによる化合物は、脂肪酸である。したがって、多くの有用な実践様式は、式IIによる1つ以上の直鎖テトラミンを、式IIIAによる1つ以上の脂肪酸と反応させることを伴い、
Figure 2017508871
式中、Rは、上記に定義されるとおりである。
式IIによる直鎖テトラミンと式IIIによる共反応性反応物質との間の反応は、式IVによるビスアミドを形成し、
Figure 2017508871
式中、各R、ならびに各Z、Z、Z、Z、Z、及びZは独立して、上記に定義されるとおりである。この反応は、種々の方法において発生する。1つの技法に従って、1つ以上の直鎖テトラミンが、化学量論量の1つ以上の脂肪酸(または直鎖テトラミン材料と共反応性である脂肪酸の誘導体)と反応させられる。化学量論的反応は、テトラミンの各モルと反応する2モルの脂肪酸(またはそれらの誘導体)を伴う。化学量論超の過脂肪酸(またはそれらの誘導体)が使用され得るが、反応が超過脂肪酸無しで完了されるため、これは、必要でも、さらには望ましくもない。脂肪酸(またはそれらの誘導体)にテトラミン材料を徐々に添加する方が、一度に全ての反応物質を合わせるよりもむしろ有用である。これは、アミン塩等の副産物の形成を回避するが、ビスアミドの形成には有利になる。
この反応は、好適な時間において、種々の圧力及び温度で発生し得る。好適な温度は、室温〜約160℃の範囲であり得る。1つの好適な温度は、150℃である。反応は、周囲圧力、真空、または高圧の下で発生し得る。適切な撹拌を伴う周囲圧力は、多くの実践様式において好適である。必要ではないが所望される場合、この反応は、例えば、窒素等の保護雰囲気において任意選択的に発生し得る。全ての脂肪酸(または誘導体)が、反応混合物に添加された後、この混合物は、その反応が所望の程度まで進行するのに十分な時間の間、1つ以上の反応温度で、望ましくは撹拌されながら、放置される。代表的な実践様式において、この時間は、2分〜48時間である。例えば、反応混合物を反応条件下で4時間維持することが、一実施形態においては好適であった。
第3のステップにおいて、式IVによるビスアミドが、式Vによるビスイミダゾリンを形成させられ、
Figure 2017508871
式中、各R、ならびに各Z、Z、Z、Z、Z、及びZが独立して、上記に定義されるとおりである。式IVの化合物中の各−C(O)−部分の炭素が、以下の式IVA中の点線によって模式的に示されるように対応する「5」の位置で対応する窒素に共有結合するとき、模式的にイミダゾリン環が、形成される。
Figure 2017508871
ビスイミダゾリン環の形成は、ビスアミドの中間を最初に単離することでまたは単離すること無しに達成され得る。ビスアミドを最初に単離すること無しに環形成を進行させることは、多くの実践様式において簡便である。このことは、環形成が、ビスアミドの形成に使用された反応器と同一の反応器内で進行することを可能にする。
ビスアミドが最初に単離されるかどうかに関わらず、ビスイミダゾリンを形成するための環形成は、類似の条件の下で発生し得る。有益な技法に従って、反応を推し進めるために水副産物を除去する一方で、減圧の下、ビスアミドの温度を上昇させることによって、環形成は進められる。高温及び減圧の組み合わせを使用して、環形成は、触媒の不在下でさえも発生する。好適な温度は、180℃〜250℃の範囲である。一実践様式において、220℃が、好適であった。水の除去を助長し、それにより反応を推し進めるために、圧力は、周囲圧力未満の任意の圧力まで低減される。幾つかの実践様式において、500mbar(ミリバール)未満、好ましくは100mbar未満、より好ましくは10mbar未満、さらにより好ましくは1mbar未満の真空を使用する。反応混合物は望ましくは、少なくとも環形成反応が進行する時間分の間撹拌される。
環形成反応は、その反応が所望の程度まで進行するのに十分な時間で発生する。代表的な実践様式において、この時間は、2分〜48時間である。例えば、反応混合物を反応条件下で5時間維持することが、一実施形態においては好適であった。
環形成反応の進行は、任意の好適な技法を使用して、監視され得る。例えば、IR分光法、NMR、及び/または液体クロマトグラフィー質量分析(LCMSまたはHPLC−MSと称される)は、アミド官能基が所望の程度に低減されるまで監視するために使用され得る。一実践様式において、残留アミド官能基が無くなるまで進行した反応は、LCMS及びNMRにより検出され、実質的にビスアミドがビスイミダゾリンに完全に転換したことを示した。
有利に、ビスアミドまたはビスイミダゾリンを形成するのに触媒または溶媒を必要としない。しかし、所望の場合、触媒または溶媒を使用することも可能である。
L−TETA12及びオレイン酸14からビスイミダゾリンを形成するための典型的な反応スキーム10は、図1で示される。第1のステップ100において、1モルのL−TETA12は、2molのオレイン酸14と反応させられる。オレイン酸14上のカルボン酸官能基は、L−TETA12上の一級アミン官能基と反応して、ビスアミド中間生成物16を形成する。化学量論によると、2モルの水が、アミド形成の副産物として生成される。次に、反応ステップ102において、本発明のビスイミダゾリン18が形成されるような条件下で、ビスアミド生成物16は処理される。化学量論によると、2モルの水が、イミダゾリン形成の副産物として生成される。
本発明の追加の態様は、式Vによる1つ以上のビスイミダゾリンを組み込む腐食防止組成物を伴う。多くの実施形態において、本発明の1つ以上のビスイミダゾリン化合物は、金属材料の腐食を回避するのを助長するために使用される水性組成物中に組み込まれる。水性組成物は、ビスイミダゾリン腐食防止剤の所望の量、任意選択的に1つ以上の他の構成成分で予備形成されるものであり得る。予備混合された組成物は、次に、腐食から保護することを意図されて1つ以上の金属含有構成成分を有する基材を処理するために使用され得る。別の選択肢として、水性組成物は、濃縮液として形成され得、次に希釈されて、基材処理のためのより好適な配合物が調製され得る。他の態様において、水性組成物は、少なくとも1つのビスイミダゾリン化合物をそれ自体で、またはシステム中に既に存在する、水への既存の混和物の一部として添加することにより、本来の場所で生成され得る。
非水性の腐食防止組成物もまた、本発明の範囲内である。これらにおいて、本発明の1つ以上のビスイミダゾリン化合物が、媒体に組み込まれ、そこでは、実質的に全ての流動担体が、グリコールエーテル、重油、炭化水素、キシレン、これらの組み合わせ等の有機溶媒である。他の腐食防止組成物には、他の任意の好適な割合における水及び1つ以上の有機液体の組み合わせを含む溶媒が含まれ得る。例えば、幾つかの実施形態には、水1〜100,000重量部当たり、1つ以上の有機液体が約0.001〜100重量部含まれ得る。
本組成物に添加される1つ以上のビスイミダゾリン化合物の濃度は、幅広い範囲に変化し得る。その濃度は、特定の化合物または使用される化合物の組み合わせ、本組成物中の他の試薬の存在、本組成物を使用するシステムの動作パラメータ、本組成物と接触するシステム内の金属構成成分の種類及び量等、種々の要因に依存し得る。水性流体が、パイプを流動する場合等の多くの有用な実施形態において、ビスイミダゾリン化合物(複数可)の量は、約0.1ppm〜約50,000ppm(つまり、0.00001〜5%(重量%))の範囲、より好ましくは約1ppm〜約500ppmの範囲、または約1ppm〜約200ppmの範囲、または約1ppm〜約100ppmの範囲で流動液体に添加されて、腐食防止組成物を形成し得る。本明細書で使用される場合、「ppm」は、別途示されない限り、本組成物の総重量に対して、重量基準で百万分の1部を意味する。
ビスイミダゾリン化合物(複数可)に加えて、腐食防止組成物には、殺生物剤、ポリマー性分散剤、スケール防止剤、緩衝剤を含むpH調製剤、界面活性剤、他の腐食防止剤、殺菌剤、防かび剤、抗酸化剤、UV防止剤、着色剤、タガント、ゲル化剤、エッチング液、滑止剤、抗発泡剤、これらの組み合わせ等から選択されるもの等の1つ以上の他の成分が含まれ得る。
本腐食防止組成物には好ましくは、界面活性剤が含まれる。界面活性剤は、冷却水処理システムの構成要素上の油沈殿物の除去または分解を助長することを含む、多くの理由から有用であり得る。界面活性剤はまた、1つ以上のビスイミダゾリンの濃度が変則的に低レベルに低減されたときでさえも、腐食防止能力の維持を助長し得る。例えば、式Iによるビスイミダゾリンと組み合わせて1つ以上の界面活性剤を使用することは、ビスイミダゾリン濃度が10ppmである類似の組成物と比較して、たった3ppmのビスイミダゾリン濃度で、腐食防止組成物が90%超の腐食防止効率を保つことを可能にすることが分かった。比較配合物が、類似の条件で効率を約50%、さらに20%以下まで落とすことから、このことは驚くべきことであった。言い換えれば、本発明の少なくとも1つのビスイミダゾリンが、1つ以上の好適な界面活性剤と組み合わせて使用されるとき、本腐食防止組成物は、より低い用量で驚くべき高いレベルの効率を保つ。
有用な界面活性剤の分類には、非イオン性界面活性剤及び/またはイオン性界面活性剤が含まれる。非イオン性界面活性剤が、好ましい。1つの好ましい非イオン性界面活性剤は、(a)平均2〜100個、好ましくは4〜20個のアルキレンオキシド繰り返し単位を含有する1つ以上の親水性ポリアルキレンオキシド鎖と、(b)1つ以上の芳香族疎水性部分と、を含む。この種類の典型的な非イオン性界面活性剤は、式VIによる構造を有し、
Figure 2017508871
式中、Rが、上記に定義されるような1つ以上の疎水性脂肪族部分であり、R′が、1〜6個、好ましくは1〜4個、より好ましくは2個の炭素原子の二価アルキレン部分であり、nが、平均2〜100、好ましくは4〜20である。上記で定義されるようなポリアルキレンオキシド及び芳香族疎水性の特徴を含有する非イオン性界面活性剤の例は、TRITON(the Dow Chemical Co.)、TERGITOL(the Dow Chemical Co.)、IGEPAL(Sigma−Aldrich)、NONIDET(Air Products and Chemicals,Inc.)、MAKON(Stepan Co.)、NEUTRONYX(Stepan Co.)等を含む商品名で市販される。TRITON(商標)X−100は、1つ以上の他の界面活性剤と組み合わせて任意選択的に使用され得る、好ましい非イオン性界面活性剤の例である。
非イオン性界面活性剤の別の有用な分類には、1つ以上の種子油由来の生分解性非イオン性界面活性剤が含まれる。この分類は、優れた湿潤特質及び洗浄特質、ならびに優れた配合性及び取扱性を有する。これらの界面活性剤は、実質的に非水性であるゲル領域、冷水中においても急速な溶解、気泡破裂の急速度、及び幅広い溶媒との相溶性を特徴とする。これらの例は、The Dow Chemical Co.から、ECOSURFの商品名で市販され、ECOSURF SA−4、ECOSURF SA−7、ECOSURF SA−9、及びECOSURF SA−15界面活性剤が単独に、または組み合わせて含まれる。
非イオン性界面活性剤の別の有用な分類には、1つ以上の親水性アルキレンオキシド鎖で官能化された1つ以上の疎水性分岐状二級アルコールが含まれる。これらの例は、The Dow Chemical Co.からTERGITOL及び/またはTMNの商品名で市販される。具体的な例には、TERGITOL(商標)TMN−10界面活性剤が含まれる。
本腐食防止組成物中に含まれる1つ以上の界面活性剤の量は、幅広い範囲に変化し得る。典型的な組成物には、本組成物中に含まれるビスイミダゾリン化合物(複数可)0.01〜100重量部当たり、0.01〜100重量部の界面活性剤が含まれる。一実践様式において、ビスイミダゾリン1重量部当たり、1重量部の界面活性剤を使用することが、好適であろう。別の実践様式において、ビスイミダゾリン1重量部当たり、10重量部の界面活性剤を使用することが、好適であろう。
本腐食防止組成物は、幅広い種類のシステムにおいて腐食を防止するために使用され得る。例えば、本組成物は、腐食の危険性があるような条件下で、水と直接または間接的に接触する金属物品の腐食を防止することが所望される状況で、水処理添加物として使用され得る。本腐食防止組成物は、工業用冷却水システム、自動冷却水システム、冷却海水システム、ガス洗浄システム、蒸気発生システム、蒸発システム、水系冷蔵システム、輸送コンテナ、摩砕システム、穿孔システム、切断システム、鋸切断システム、または機械システム、油圧システム、洗掘システム等の典型的なシステムにおいて使用され得る。
本腐食防止組成物を使用して腐食から保護することを意図される材料は、純金属、金属合金、金属間組成物、または腐食の危険性がある任意の他の金属含有材料であり得る。かかる材料は、鉄、銅、アルミニウム、亜鉛、ニッケル、タングステン、銀、クロム、鉛、これらの組み合わせ等の金属のうちの1つまたはそれらを組み合わせて組み込み得る。本発明の腐食防止組成物は、腐食から鉄系金属を保護するのに特に有用である。鉄系金属は、任意のFe(II)含有金属、金属合金、金属間組成物、または腐食の危険性があるかもしれない任意の他のFe(II)含有材料(例えば、酸化物、窒化物、炭化物、またはFe(II)の他の化合物)である。
本発明は、以下の例示的な実施例に関して、ここでさらに記載される。
実施例1
ビスイミダゾリンの合成
本実施例は、図1に示される反応スキーム10によるビスイミダゾリン化合物18(これらの実施例及び対応するデータで「LTBI」とも称される)の調製について記載する。精製されたオレイン酸14を、丸底フラスコに入れ、撹拌しながら熱した。L−TETA対オレイン酸の化学量論的比1:2モルにおける直鎖トリエチレンテトラミン12(L−TETA、>99%の純度)を、撹拌しながら、150℃及び雰囲気圧で徐々にRBFに添加した。反応質量を、これらの条件下で最大4時間維持した。反応装置に、アミド形成ステップ100ならびに次のステップ102のビスイミダゾリン環形成の間に生じた水(約2モル/1モルのl−TETA)を回収するための凝縮器及び受器アセンブリを装着した。ステップ102を実行するために、ビスアミドをさらに熱し、次いで真空(好ましくは<1mbar)下で最大5時間撹拌しながら、180℃〜220℃の範囲の温度に維持して、副産水(L−TETA1モル当たり〜2モルの水)を除去しながらイミダゾリン環形成ステップ102を進めた。LCMS及びNMR分析を使用して、残留アミドの不存在、完全なイミダゾリン転換に関して本混合物を分析することによって反応の完了を確認した。反応スキーム10では触媒または溶媒を使用しなかった。
実施例2
ビスイミダゾリン塩(LTBIS)の合成
本実施例は、ビスイミダゾリン塩(これらの実施例及び対応するデータで「LTBIS」とも称される)の調製について記載する。精製されたオレイン酸を、丸底フラスコに入れ、撹拌しながら熱した。化学量論的比、オレイン酸2モル当たり、1モルのL−TETAにおける直鎖トリエチレンテトラミン(L−TETA、>99%の純度)を、撹拌しながら、150℃及び雰囲気圧で徐々にフラスコに添加した。反応質量を、これらの条件下で最大4時間維持して、ビスアミドを形成した。反応装置に、ビスアミド形成の間に生じた水(〜2モル/1モルのL−TETA)を回収するための凝縮器及び受器アセンブリを装着した。ビスアミドをビスイミダゾリンに転換するために、減圧しながら生成混合物の温度を上昇させた。具体的には、ビスアミドを真空(好ましくは<1mbar)下で最大5時間撹拌しながら220℃にさらに維持して、副産水(〜2モル/1モルのl−TETA)を除去しながらイミダゾリン環形成ステップを進めた。残留アミドの不存在、完全なイミダゾリン転換に関して質量を分析(NMR、LCMS)することによって反応の完了を確認した。本反応スキームでは、触媒または溶媒を使用することなく、ビスアミドまたはビスイミダゾリンを形成した。
次に、アルキル化剤でビスイミダゾリンを四級化した。ビスイミダゾリンにジメチル硫酸(2〜4:1モル/1モルのビスイミダゾリン)を撹拌しながら徐々に添加し、反応質量を、還流下で80℃〜130℃の範囲に3時間維持した。カチオン性界面活性剤(四級化ビスイミダゾリン塩)を分析し、30〜40mN/mの表面張力及び2〜8ppmの臨界ミセル濃度を有することが分かった。
実施例3
腐食防止能力
ASTM G31−72標準のガイドラインに基づく金属クーポン試験プロトコルを使用して、本明細書の実施例3〜5において腐食防止能力を評価した。IS513により作られ、50mm×25mm×2mmにサイズ決めされた軟鋼クーポンを評価のための試験片として使用した。希釈塩酸(15.0重量/重量%)を試験溶液として使用し、試験中、300rpmの速度で撹拌しながら50℃の温度に維持した。これは、異なる産業(例えば、石油及びガス産業)で見られるかなり一般的な金属媒体の組み合わせを示す。対照実施において、金属クーポンを洗浄/乾燥させ、試験前に秤量し、次いで、プロセス条件下で6時間希釈酸性溶液中に浸漬して、溶液から取り出し、洗浄/乾燥させて、再度秤量した。クーポンの質量損失を使用して、試験条件下での試験片における腐食の程度を測定した。よって、対照実施は、防止剤または他の添加物が腐食媒体中で使用されない実験を伴う。一切の防止剤または他の添加物を含まない腐食媒体は、クーポンに平均約12重量%の重量損失を与えた。このレベルの重量損失は、腐食防止効率ゼロに対応すると見なされる。
対照試料の腐食の程度を、実施例1のビスイミダゾリンまたは実施例2のビスイミダゾリン塩の場合の腐食の程度と比較した(システム中に金属クーポンを導入する前に、特定の用量で腐食防止剤添加物を添加し、試験溶液中に全体的に混合した)。クーポンの重量損失ならびに試験条件を決定するための手順は、対照実施のために使用された手順と同じであった。
さらに、同じ試験手順を使用して、追加配合物の構成成分の存在下で、かつ本明細書の実施例3〜5に記載されるような1つを超える濃度で、実施例1のビスイミダゾリン化合物の腐食防止能力も評価した。
さらに、同じ試験手順及び以下の実施例3〜5に記載されるような試験手順を使用して、実施例1のビスイミダゾリン化合物及び実施例2の塩の腐食防止能力も、DETA系モノイミダゾリン(DIまたはDETAイミダゾリン)、直鎖TETA系ビスアミド(LTBA)、及びC−TETA系ビスアミドイミダゾリン(CTBI)、ならびにAmine O(BASF)及びArmohib CI−219(AkzoNobel)等の市販生成物によって提供される腐食保護と比較した。CTBIは、式IIによる直鎖テトラミンを65重量%下含有するテトラミン混和物由来のビスイミダゾリン、イミダゾリン、及びアミド構成成分を含む混和物である。本明細書に記載されるデータは、界面活性剤の不在下で、CTBIが、本発明の濃縮されたLTBI材料(実施例1)と比較して、実質的に劣る保護を提供することを示す。
種々の試料の腐食防止能力を、以下のとおり算出した。
Figure 2017508871
図2は、任意の分散剤無しで試験媒体中、0.1重量%の濃度におけるLTBI、DI、LTBIS、LTBA、及びCTBIの腐食防止%(CI%)を示す。結果は、かかる比較的高濃度(0.1%)で、かつ分散剤の不在下で、実施例1のL−TETA系ビスイミダゾリンが、全ての他の試料よりも優れた能力を発揮することを示す。また、LTBI(実施例1)、DI(比較)、及びLTBIS(実施例2)によって提供される保護は、比較のLTBA及びCTBIよりも劇的に優れたものであった。直鎖テトラミンが希薄であるCTBIの能力は、濃縮されたLTBIの能力よりも実質的に劣っている。
実施例4
溶媒及び非イオン性界面活性剤の存在下での腐食防止能力
実施例3の試験手順を使用して、ビスイミダゾリンの腐食防止%を、アルコール溶媒(IPA)及び2つの非イオン性界面活性剤(Triton X−100及びEcosurf SA、共にThe Dow Chemical Co.から市販される)それぞれの存在下において評価した。各試料中で使用された全ての添加物の総用量は、100ppmであった。対照試料には、試験媒体中に溶媒または界面活性剤無しで(「溶媒無し」試料として称される)、添加物としてビスイミダゾリンのみが0.01重量%(100ppm)含まれた。ビスイミダゾリン及び溶媒または界面活性剤を共に含む試料には、総用量が100ppmになるように、50ppmのビスイミダゾリン及び50ppmの溶媒(イソプロピルアルコール、IPA)または界面活性剤(Triton X−100もしくはEcosurf非イオン性界面活性剤)が含まれた。本試料の腐食防止%は、図3で示される。このデータは、ビスイミダゾリンと組み合わせて非イオン性界面活性剤を使用することが、ビスイミダゾリンの特定の用量において腐食保護を高めることを示す。
L−TETA系ビスイミダゾリン(希釈剤一切無し)の能力は、適切な分散剤(例えば、Triton X−100、Ecosurf SA9等の界面活性剤)との組み合わせにおいて、濃度で低減するが、その能力は、より低い活性用量においても維持される。興味深いことに、分散剤/界面活性剤はそれら自体では、0.1%の用量でさえも、一切の腐食防止を発揮することはない。このことは、好適な分散剤との組み合わせにおけるビスイミダゾリンの相乗的能力を示す。
実施例5
低減された用量における腐食防止能力
実施例3の試験手順を使用して、非イオン性界面活性剤の存在下における、低減された用量での種々の腐食防止剤の腐食防止%を比較した。実施例1のビスイミダゾリン、DETAイミダゾリン、Amine O市販防止剤(BASF)、及びArmohib−CI−219防止剤(AkzoNobel)を評価した。各防止剤を、10ppmで、90ppmのTriton X−100非イオン性界面活性剤の存在下で試験した。各防止剤をまた、5ppmで、95ppmのTriton X−100非イオン性界面活性剤を使用して試験した。各防止剤をまた、3ppmで、97ppmのTriton X−100非イオン性界面活性剤を使用して試験した。
能力データは、図4で示される。データは、全ての防止剤が、最も高い用量で腐食保護を提供したことを示す。界面活性剤の存在下でさえ、DETAイミダゾリン、Amine O及びAmohib−CI−219防止剤、ならびに非イオン性界面活性剤によって提供される腐食保護は、防止剤の用量が低減されると大幅に低下した。DETAイミダゾリンの効率は、3ppmで、およそ50%に低下し、Amine Oの効率は、およそ21%に低下し、Amohib−CI−219の効率は約11%に低下した。しかし、注目すべきことに、ビスイミダゾリン及び非イオン性界面活性剤によって提供される腐食保護は、防止剤用量が、3ppmに低減されたときでさえ、腐食防止効率がわずかにしか低下せず、およそ90%のレベルに実質的に維持された!興味深いことに、非イオン性界面活性剤はそれ自体では、概して、0.1%の用量においてさえ著しい腐食防止を一切発揮しなかった。よって、データは、ビスイミダゾリン及び非イオン性界面活性剤の組み合わせが、特に防止剤の低い用量において、相乗的腐食保護を提供することを示す。用量が低減されると、腐食保護が劇的に低下するのは当然の傾向である一方、この能力の低下は、本発明の原理を使用して実質的に回避される。
前述の詳細な説明は、理解を明確するためのみに提供される。不必要な限定は、本説明から理解されることはない。本発明は、示され、かつ記載される精密な詳細に限定されず、当業者にとって明白な変更が、特許請求の範囲によって定義される本発明の範囲内に含まれる。

Claims (15)

  1. 鉄系金属を含む基材の腐食を防止する方法であって、前記鉄系金属を、以下の構造を有する化合物を含む組成物と接触させるステップを含み、
    Figure 2017508871
    式中、
    各Z、Z、Z、Z、Z、及びZが独立して、Hであり、1〜10個の炭素原子のヒドロカルビルであり、かつ/または前記Z、Z、Z、Z、Z、及びZ部分のうちの少なくとも第1及び第2の部分が、対応するイミダゾリン環(複数可)に2つの結合部位で結合する二価部分を形成するのに有効な様式で互いに連結され、
    各Rが独立して、6〜50個の炭素原子を含む、疎水性脂肪族一価部分である、前記方法。
  2. 前記組成物が、少なくとも1つの非イオン性界面活性剤をさらに含む、請求項1に記載の前記方法。
  3. 前記非イオン性界面活性剤が、(a)平均2〜100個のアルキレンオキシド繰り返し単位を含有する1つ以上の親水性ポリアルキレンオキシド鎖と、(b)1つ以上の芳香族疎水性部分と、を含む、請求項2に記載の前記方法。
  4. 前記非イオン性界面活性剤が、以下の構造を有し、
    Figure 2017508871
    式中、Rが、1つ以上の疎水性脂肪族部分であり、R′が、1〜6個の炭素原子の二価アルキレン部分であり、nが、平均2〜100である、請求項2に記載の前記方法。
  5. 前記非イオン性界面活性剤が、1つ以上の種子油由来である、請求項2に記載の前記方法。
  6. 前記非イオン性界面活性剤が、1つ以上の親水性アルキレンオキシド鎖で官能化された1つ以上の疎水性分岐状二級アルコールを含む、請求項2に記載の前記方法。
  7. 各Z、Z、Z、Z、Z、及びZが、Hである、請求項1に記載の前記方法。
  8. が、不飽和である、請求項1に記載の前記方法。
  9. 前記ビスイミダゾリンが、以下の構造を有する、請求項1に記載の前記方法。
    Figure 2017508871
  10. 前記直鎖テトラミンが、L−TETAである、請求項1に記載の前記方法。
  11. 前記少なくとも1つのテトラミンの少なくとも95重量%が、前記直鎖テトラミンを含む、請求項1に記載の前記方法。
  12. ビスイミダゾリンを作製する方法であって、
    (a)少なくとも1つのテトラミンを含むアミン混和物を提供することであって、前記少なくとも1つのテトラミンの少なくとも70重量%が、第1及び第2の一級アミン部分ならびに第1及び第2の二級アミン部分を有する以下の構造による直鎖テトラアミンを含む、提供するステップと、
    Figure 2017508871
    (b)前記直鎖テトラアミンを、カルボン酸官能基に対して単官能性であり、かつ一級アミン官能基と共反応して、アミド連鎖を形成する、以下の構造による少なくとも1つの共反応性反応物質と反応させることであって、
    Figure 2017508871
    以下の構造によるビスアミドを形成するのに有効な条件下で発生する、反応させるステップと、
    Figure 2017508871
    (c)少なくとも前記ビスアミドを含む成分に、以下の構造によるビスイミダゾリンを形成させるステップと、を含み、
    Figure 2017508871
    式中、
    各Z、Z、Z、Z、Z、及びZが独立して、Hであり、1〜10個の炭素原子のヒドロカルビルであり、かつ/または前記Z、Z、Z、Z、Z、及びZ部分のうちの少なくとも第1及び第2の部分が、対応するイミダゾリン環(複数可)に2つの結合部位で結合する二価部分を形成するのに有効な様式で互いに連結され、
    Mが、前記共反応性反応物質の−COOM官能基が、前記直鎖テトラミンの一級アミン官能基と共反応して、アミド連鎖を形成するような部分であり、
    各Rが独立して、6〜50個の炭素原子を含む、疎水性脂肪族一価部分である、前記方法。
  13. ステップ(c)が、標準雰囲気未満の圧力で、180℃〜250℃の範囲の温度で発生する、請求項12に記載の前記方法。
  14. ステップ(c)が、500ミリバール未満の圧力で、180℃〜250℃の範囲の温度で発生する、請求項12に記載の前記方法。
  15. ステップ(c)が、100ミリバール未満の圧力で、180℃〜250℃の範囲の温度で発生する、請求項12に記載の前記方法。
JP2016541011A 2013-12-27 2014-12-12 濃縮された直鎖テトラミン由来のビスイミダゾリン化合物を含む腐食防止組成物 Ceased JP2017508871A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
IN6132/CHE/2013 2013-12-27
PCT/US2014/069940 WO2015100033A1 (en) 2013-12-27 2014-12-12 Corrosion inhibiting compositions including bis-imidazoline compounds derived from enriched linear tetramines
IN6132CH2013 IN2013CH06132A (ja) 2013-12-27 2014-12-12

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2017508871A true JP2017508871A (ja) 2017-03-30

Family

ID=52282945

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016541011A Ceased JP2017508871A (ja) 2013-12-27 2014-12-12 濃縮された直鎖テトラミン由来のビスイミダゾリン化合物を含む腐食防止組成物

Country Status (6)

Country Link
US (1) US10329672B2 (ja)
EP (1) EP3087217B1 (ja)
JP (1) JP2017508871A (ja)
CN (1) CN105874101A (ja)
IN (1) IN2013CH06132A (ja)
WO (1) WO2015100033A1 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3143096B1 (en) * 2014-05-16 2022-10-12 Halliburton Energy Services, Inc. Tagged corrosion inhibitors for use in subterranean operations
US20180201826A1 (en) * 2017-01-17 2018-07-19 Baker Hughes, A Ge Company, Llc Synergistic corrosion inhibitors
CN114671833B (zh) * 2022-04-15 2023-06-23 中原工学院 一种呋喃双子季铵盐化合物及其制备方法和应用
CN116063902A (zh) * 2023-02-07 2023-05-05 深圳市深赛尔股份有限公司 一种饮料罐内壁涂料及其制备方法

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5134208A (ja) * 1974-09-18 1976-03-23 Kurita Water Ind Ltd Boshokuzai
JPS5863793A (ja) * 1981-10-12 1983-04-15 Asahi Denka Kogyo Kk 金属加工液用または作動液用組成物
JPS60106883A (ja) * 1983-11-16 1985-06-12 Chiyoda Chem Eng & Constr Co Ltd 重質炭化水素油中の塩分の除去方法
JPH01123084A (ja) * 1987-11-04 1989-05-16 Daicel Chem Ind Ltd 防錆剤
US5611992A (en) * 1994-05-24 1997-03-18 Champion Technologies Inc. Corrosion inhibitor blends with phosphate esters
JPH09241636A (ja) * 1996-03-08 1997-09-16 Hakuto Co Ltd 油溶性皮膜性腐食防止剤およびそれを用いた金属表面の腐食防止方法
CN1546730A (zh) * 2003-12-09 2004-11-17 中国石油化工集团公司 水溶性腐蚀抑制剂及其制备方法和应用
JP2009226280A (ja) * 2008-03-21 2009-10-08 Tadayoshi Yoshida 循環水及び循環システムの浄化方法
JP2011511127A (ja) * 2008-01-31 2011-04-07 ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ 原油と水のエマルジョンを破壊する方法
WO2012080463A1 (en) * 2010-12-17 2012-06-21 Akzo Nobel Chemicals International B.V. Fluid suitable for treatment of carbonate formations containing a chelating agent

Family Cites Families (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2940927A (en) * 1955-12-12 1960-06-14 Cities Service Res & Dev Co Composition for and method of inhibiting corrosion of metals
US3840382A (en) * 1972-01-11 1974-10-08 O Burke Silica pigment and elastomer-silica pigment masterbatches and production processes relating thereto
DE3135235A1 (de) 1981-09-05 1983-03-17 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Bisimidazoline, verfahren zu deren herstellung und deren verwendung
US4482724A (en) * 1982-08-25 1984-11-13 Hoechst Aktiengesellschaft Bisimidazolines
US4501667A (en) 1983-03-03 1985-02-26 Ciba-Geigy Corporation Process of inhibiting corrosion of metal surfaces and/or deposition of scale thereon
US4614600A (en) 1984-10-31 1986-09-30 Westvaco Corporation Corrosion inhibitors
US4713184A (en) 1985-09-26 1987-12-15 Zaid Najib H Dispersed oil soluble corrosion inhibitor and water soluble phosphonate scale inhibitor composition
US4900458A (en) * 1987-01-08 1990-02-13 Chevron Research Company Polyalkylenepolyamines as corrosion inhibitors
SU1526283A1 (en) 1987-12-15 1992-10-15 V V Krut Copper corrosion inhibitor and method of its production
DE4039271A1 (de) 1990-12-08 1992-06-11 Basf Ag Verfahren zum schutz von kupfer- und kupferlegierungsoberlfaechen vor korrosion
JPH06268356A (ja) 1993-01-18 1994-09-22 Hideaki Yamaguchi プリフラックスの使用方法およびプリント配線板の製造方法
MY129257A (en) 1995-03-21 2007-03-30 Betz Laboratories Methods of inhibiting corrosion using halo-benzotriazoles
US5902515A (en) 1995-08-16 1999-05-11 Champion Technologies, Inc. Solutions and methods for inhibiting corrosion
US5922663A (en) * 1996-10-04 1999-07-13 Rhodia Inc. Enhancement of soil release with gemini surfactants
US6040288A (en) * 1997-02-21 2000-03-21 Rhodia Inc. Fabric color protection compositions and methods
JP3207183B2 (ja) 1998-07-24 2001-09-10 朝日化学工業株式会社 金属の酸洗浄用腐食抑制剤、それを含んだ洗浄液組成物およびこれを用いる金属の洗浄方法
US6338819B1 (en) * 1999-02-16 2002-01-15 Baker Hughes Incorporated Combinations of imidazolines and wetting agents as environmentally acceptable corrosion inhibitors
US6103144A (en) 1999-04-12 2000-08-15 Betzdearborn Inc. Halogen resistant copper corrosion inhibitors
KR100338777B1 (ko) 2000-07-22 2002-05-31 윤종용 화학 기계적 연마 이후의 구리층 부식을 방지하는 반도체장치 제조방법 및 이에 이용되는 화학 기계적 연마장치
CA2394440A1 (en) 2001-08-02 2003-02-02 Rohm And Haas Company Process for treating aqueous systems
CA2398423C (en) 2001-09-04 2009-11-10 Rohm And Haas Company Corrosion inhibiting compositions
MXPA03011620A (es) * 2003-12-15 2005-06-17 Mexicano De Petroleo Instituto Bisimidazolinas mixtas como principios activos de composiciones inhibidoras de corrosion.
MXPA03011659A (es) * 2003-12-16 2005-06-20 Mexicano Inst Petrol Composicion inhibidora de corrosion a base de bisimidazolina 2-oleico-2¦-naftenica.
CN1283838C (zh) * 2004-06-04 2006-11-08 中国石油化工集团公司 一种抑制剂及其制备方法和应用
US7682526B2 (en) 2005-12-22 2010-03-23 Afton Chemical Corporation Stable imidazoline solutions
WO2008031781A2 (de) 2006-09-15 2008-03-20 Basf Se Verfahren zur verwendung von quartäre ammoniumgruppen und harnstoffgruppen umfassenden polymeren als korrosionsinhibitor für kupferoberflächen
RU2357007C2 (ru) 2007-07-25 2009-05-27 Общество с ограниченной ответственностью "Промышленно-торговая компания ТАНТАНА" Способ получения ингибитора кислотной коррозии
US20090181867A1 (en) * 2008-01-10 2009-07-16 Baker Hughes Incorporated Corrosion inhibitors for oilfield applications
CN102227413B (zh) 2008-10-06 2014-11-05 联合碳化化学品及塑料技术公司 制备环状n-氨基官能化三胺的方法
WO2010042157A1 (en) 2008-10-06 2010-04-15 Union Carbide Chemicals & Plastics Technology Llc Low metal loaded, alumina supported, catalyst compositions and amination process
JP5480276B2 (ja) 2008-10-06 2014-04-23 ユニオン カーバイド ケミカルズ アンド プラスティックス テクノロジー エルエルシー 担体として酸性混合金属酸化物を含む低金属(ニッケル及びレニウム)触媒組成物
BRPI0914054A2 (pt) 2008-10-06 2015-11-03 Union Carbide Chem Plastic método para produzir etilenoaminas
CN101565608A (zh) * 2009-05-25 2009-10-28 新疆大学 一种新型酸化缓蚀剂的制备方法及其应用
CN101613622B (zh) 2009-07-29 2012-08-22 中国石油化工集团公司 一种复合型缓蚀剂及其制备方法和用途
BR112013006987A2 (pt) 2010-09-29 2019-09-24 Dow Global Technologies Llc método para reduzir cor de uma composição incluíndo uma ou mais aminas e um ou mais corpos coloridos
US20130090453A1 (en) 2011-08-31 2013-04-11 Basf Se Process for preparing TETA and DETA

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5134208A (ja) * 1974-09-18 1976-03-23 Kurita Water Ind Ltd Boshokuzai
JPS5863793A (ja) * 1981-10-12 1983-04-15 Asahi Denka Kogyo Kk 金属加工液用または作動液用組成物
JPS60106883A (ja) * 1983-11-16 1985-06-12 Chiyoda Chem Eng & Constr Co Ltd 重質炭化水素油中の塩分の除去方法
JPH01123084A (ja) * 1987-11-04 1989-05-16 Daicel Chem Ind Ltd 防錆剤
US5611992A (en) * 1994-05-24 1997-03-18 Champion Technologies Inc. Corrosion inhibitor blends with phosphate esters
JPH09241636A (ja) * 1996-03-08 1997-09-16 Hakuto Co Ltd 油溶性皮膜性腐食防止剤およびそれを用いた金属表面の腐食防止方法
CN1546730A (zh) * 2003-12-09 2004-11-17 中国石油化工集团公司 水溶性腐蚀抑制剂及其制备方法和应用
JP2011511127A (ja) * 2008-01-31 2011-04-07 ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ 原油と水のエマルジョンを破壊する方法
JP2009226280A (ja) * 2008-03-21 2009-10-08 Tadayoshi Yoshida 循環水及び循環システムの浄化方法
WO2012080463A1 (en) * 2010-12-17 2012-06-21 Akzo Nobel Chemicals International B.V. Fluid suitable for treatment of carbonate formations containing a chelating agent
JP2014504321A (ja) * 2010-12-17 2014-02-20 アクゾ ノーベル ケミカルズ インターナショナル ベスローテン フエンノートシャップ キレート剤を含有する炭酸塩地層の処理に適した流体

Also Published As

Publication number Publication date
CN105874101A (zh) 2016-08-17
EP3087217A1 (en) 2016-11-02
WO2015100033A1 (en) 2015-07-02
IN2013CH06132A (ja) 2015-07-03
EP3087217B1 (en) 2018-11-07
US10329672B2 (en) 2019-06-25
US20160333484A1 (en) 2016-11-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7253138B2 (en) Corrosion and gas hydrate inhibitors having improved water solubility and increased biodegradability
US8833450B2 (en) Nitrogen containing compounds as corrosion inhibitors
JP6523290B2 (ja) 腐食抑制剤としてのビス−イミダゾリン化合物及びそれらの調製
US7615102B2 (en) Corrosion and gas hydrate inhibitors with an increased biological degradability and a reduced toxicity
US8105988B2 (en) Corrosion inhibitors for a fluid
JP2017508871A (ja) 濃縮された直鎖テトラミン由来のビスイミダゾリン化合物を含む腐食防止組成物
US20050101495A1 (en) Corrosion and gas hydrate inhibitors having improved water solubility and increased biodegradability
US20110186299A1 (en) Low-Toxicity Biodegradable Corrosion Inhibitors
US7323609B2 (en) Corrosion and gas hydrate inhibitors having improved water solubility and increased biodegradability
US8404157B2 (en) Methods and compositions for inhibiting corrosion
JP4904053B2 (ja) 水溶性調質圧延液組成物
EP1333108A2 (en) Corrosion inhibitors for the petroleum industry
EP2992065A1 (en) Corrosion inhibitor for protection of crude oil extraction equipment, crude oil pipelines, and crude oil tanks as well as the method of its production
CN1860199A (zh) 冷却剂组合物
EP0156631A2 (en) Corrosion inhibitors
JP2007500789A (ja) 流体系における腐食の抑制
JP5255238B2 (ja) 水溶性防錆液組成物
KR102625788B1 (ko) 적어도 하나의 환식 우레아 모이어티를 갖는 화합물 및 부식 방지에 있어서 이의 용도
JP2009013189A (ja) 水溶性調質圧延液組成物
CN113396148A (zh) 具有至少一个环状脲部分的化合物及其在腐蚀防护中的用途
EP3417091B1 (en) Corrosion inhibitor comprising complex oligomeric structures derived from vegetable oils
KR101331986B1 (ko) 유기산염 고농도 농축액 조성물, 이의 제조방법 및 이를함유하는 내연 기관용 냉각수
Abbasov et al. STUDY OF PREPARATION OF PRESERVATIVE LIQUID AND AS CORROSION INHIBITOR BY ADDING AMIDOAMINES BASED ON OLEIC ACID TO T-30 OIL IN DIFFERENT MOL PROPORTIONS
CN117966168A (zh) 一种油气田集输用胺掺杂石墨烯量子点缓蚀剂
WO2024054321A1 (en) Non-triazole compounds and methods for inhibiting corrosion using non-triazole compounds

Legal Events

Date Code Title Description
RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20160727

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20160727

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20160928

A529 Written submission of copy of amendment under article 34 pct

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A529

Effective date: 20160617

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20171128

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20181127

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20181204

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20190301

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190527

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20191029

A045 Written measure of dismissal of application [lapsed due to lack of payment]

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A045

Effective date: 20200225