JP2017507246A - Aldコーティングによる中空ボディ内面の保護 - Google Patents
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Abstract
Description
本願の中空のボディは、その内面に保護被膜を要する如何なる中空のボディであってもよい。ただし本願の中空のボディは、ガスコンテナを除く。本願の中空のボディの例には、オーブン、破砕機、バイブレーター、バルブ、熱交換器、燃料電池、液体及び混合物コンテナなどがある。更なる例には、取り入れと排出とが同じポートを介して行われる、閉じた処理装置が含まれる。
前記中空のボディ(または装置)が、前記開口部以外に別の開口部を有する場合、実施形態によっては、この別の開口部を適切なカバーで覆うか、または当該別の開口部を閉じてしまうことを含む。
マニホールドの入口と出口が、同じポートアセンブリから出るような場合、つまり、前記中空のボディの同じ開口部から出るようにされている場合、実施形態によっては、前記ポートアセンブリは、一体化されたポートアセンブリとして構成されてもよい。
実施形態によっては、前記放出ポイントは、前記中空のボディの端部のうち前記開口部が設けられている端部とは反対側の端部に設けられる。そして前記排気ポイントは、その反対側の端部(すなわち前記開口部がある端部)に設けられる。実施形態によっては、前記放出ポイントは、前記中空のボディの端部のうち前記開口部が存在する端部に設けられる。そして前記排気ポイントは、その反対側の端部(すなわち前記開口部がある端部とは反対側の端部)に設けられる。前記中空のボディに頂部及び底部が存在するような実施形態のあるものにおいて、前記放出ポイントは底部に存在し、前記排気ポイントは頂部に存在してもよい。前記中空のボディに頂部及び底部が存在するような実施形態のあるものにおいて、前記放出ポイントは頂部に存在し、前記排気ポイントは底部に存在してもよい。
さらに別の実施形態では、ガスの入口及び出口を同じ開口部に設けるのではなく、前記中空のボディの第1の開口部にガスの入口を設け、必要があれば、前記中空のボディの第2の開口部にガスの出口を設けることとしてもよい。
用途に応じて適用可能な被膜は、例えば、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化タンタル、炭化タングステンなどの金属酸化物、およびそれらの組み合わせを含むが、被膜はこれらの材料に限定されない。
実施形態によって、封止部はテーパ状である場合もない場合もあり、またねじ状である場合もない場合もある。実施形態によっては、封止部は、ねじ山が形成されていないテーパ状を呈する場合もあり、または、ねじ状ではあるがテーパ状ではない場合もある。
Claims (17)
- 中空のボディの内面を保護する方法であって、
前記中空のボディの開口部に取り付け可能なポートアセンブリを備える吸排気マニホールドを設けることと;
反応ガスを、前記ポートアセンブリおよび前記開口部を介して前記中空のボディの前記内面へと順次供給することで、前記中空のボディの前記内面を順次自己飽和表面反応に暴露することと;
不要なガスを、前記開口部および前記ポートアセンブリを介して前記中空のボディから除去することと;
を含む、方法。 - 前記中空のボディの前記開口部に前記ポートアセンブリを取り付けることをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記吸排気マニホールドの排気側に取り付けられた真空ポンプによって、反応残渣およびパージガスを前記中空のボディの前記内面から送り出すことをさらに含む、請求項1または2に記載の方法。
- 前記中空のボディ内のガス放出ポイントは、ガス排気ポイントとは異なるレベルに配置される、請求項1から3のいずれかに記載の方法。
- 前記中空のボディは、前記ポートアセンブリに含まれる封止部によって封止される反応容器として用いられる、請求項1から4のいずれかに記載の方法。
- 前記封止部は、前記中空のボディの前記開口部に着脱可能なテーパねじを有する、請求項5に記載の方法。
- 前記ポートアセンブリは取付部を備え、該取付部は前記封止部に取り付け可能であり、前記封止部を回して前記中空のボディの前記開口部に締め込むことができる、請求項5または6に記載の方法。
- 不活性パージガスを、前記中空のボディと周囲の室の壁との間の中間区間へと導くことと;
前記不活性パージガスを前記中間空間からポンプによって送り出すことと;
をさらに含む、請求項1から請求項7のいずれかに記載の方法。 - 前記吸排気マニホールドは1つ以上の供給管路を備え、各供給管路の制御要素は、コンピュータに実装された制御システムによって制御される、請求項1から8のいずれかに記載の方法。
- 中空のボディの内面を保護する装置であって、
前記中空のボディの開口部に取り付け可能なポートアセンブリを備える吸排気マニホールドであって、前記装置は、反応ガスを、前記ポートアセンブリおよび前記開口部を介して前記中空のボディの前記内面へと順次供給することで、前記中空のボディの前記内面を順次自己飽和表面反応に暴露するように構成される、吸排気マニホールドと、
不要なガスを、前記開口部および前記ポートアセンブリを介して前記中空のボディから除去するように構成されるポンプと、
を備える、装置。 - 前記吸排気マニホールドによって設けられるガス放出ポイントは、前記吸排気マニホールドによって設けられるガス排気ポイントとは異なるレベルに配置される、請求項10に記載の装置。
- 前記吸排気マニホールドは、前駆体蒸気およびパージガスの供給管路と、それらの制御要素とを備える、請求項10または11に記載の装置。
- 前記吸排気マニホールドは中空のボディ固有のポートアセンブリを備え、該ポートアセンブリは、前記吸排気マニホールドを前記中空のボディの前記開口部に取り付けるように構成され、それによって前記吸排気マニホールドと前記中空のボディの前記内面との間に流体連通経路を形成する、請求項10から12のいずれかに記載の装置。
- 前記中空のボディを取り囲む室と、前記中空のボディと周囲の室の壁との間の中間空間へと不活性パージガスを導くように構成される不活性ガス供給管路とを備える、請求項10から13のいずれかに記載の装置。
- 前記ポートアセンブリは、前記中空のボディの前記開口部に取り付け可能な封止部を備える、請求項10から14のいずれかに記載の装置。
- 前記封止部はテーパねじを有する、請求項15に記載の装置。
- 移動型である、請求項10から16のいずれかに記載の装置。
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Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102254473B1 (ko) * | 2014-03-03 | 2021-05-25 | 피코순 오와이 | Ald 코팅에 의한 가스 컨테이너 내부의 보호 방법 |
KR102086574B1 (ko) | 2018-04-03 | 2020-03-09 | 전남대학교산학협력단 | 분말 입자를 코팅할 수 있는 증착장치 및 분말 입자의 코팅 방법 |
DE102019130303A1 (de) * | 2019-11-11 | 2021-05-12 | Khs Corpoplast Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Plasmabehandlung von Behältern |
TWI750836B (zh) * | 2020-10-06 | 2021-12-21 | 天虹科技股份有限公司 | 可拆式粉末原子層沉積裝置 |
TWI772913B (zh) * | 2020-10-06 | 2022-08-01 | 天虹科技股份有限公司 | 微粒的原子層沉積裝置 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02185980A (ja) * | 1988-07-18 | 1990-07-20 | Vapor Technol Inc | 金属製加圧ガス容器をコーティングする方法 |
JPH08509166A (ja) * | 1994-02-16 | 1996-10-01 | ザ・コカ−コーラ・カンパニー | プラズマ補助表面反応又は表面上の重合による不活性又は不浸透性内部表面を有する中空容器 |
US6416577B1 (en) * | 1997-12-09 | 2002-07-09 | Asm Microchemistry Ltd. | Method for coating inner surfaces of equipment |
JP2007005545A (ja) * | 2005-06-23 | 2007-01-11 | Tokyo Electron Ltd | 半導体処理装置の表面処理方法 |
JP2007224348A (ja) * | 2006-02-22 | 2007-09-06 | Tokyo Electron Ltd | 耐環境部材、半導体製造装置及び耐環境部材の製造方法 |
US20070269595A1 (en) * | 2005-11-28 | 2007-11-22 | Planar System Oy | Method for preventing metal leaching from copper and its alloys |
JP2011513593A (ja) * | 2008-03-12 | 2011-04-28 | アリタス コーポレーション エス.エー. | プラズマシステム |
JP2011135046A (ja) * | 2009-11-27 | 2011-07-07 | Tokyo Electron Ltd | 縦型成膜装置およびその使用方法 |
JP2012172208A (ja) * | 2011-02-22 | 2012-09-10 | All-Tech Inc | プラスチックボトル内面の処理方法及びプラスチックボトル内面の処理装置 |
JP2012526921A (ja) * | 2009-05-13 | 2012-11-01 | エスアイオーツー・メディカル・プロダクツ・インコーポレイテッド | 被覆表面検査のためのガス放出方法 |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5741544A (en) * | 1995-08-31 | 1998-04-21 | Olin Corporation | Articles using specialized vapor deposition processes |
US6112695A (en) * | 1996-10-08 | 2000-09-05 | Nano Scale Surface Systems, Inc. | Apparatus for plasma deposition of a thin film onto the interior surface of a container |
JP4776054B2 (ja) | 2000-02-04 | 2011-09-21 | 株式会社デンソー | 原子層成長による薄膜形成方法 |
JP3993971B2 (ja) * | 2000-08-09 | 2007-10-17 | 北海製罐株式会社 | ガスバリア被覆層を有するプラスチック製容器及びその製法 |
JP4567442B2 (ja) * | 2002-05-24 | 2010-10-20 | ショット アクチエンゲゼルシャフト | 複数場所コーティング装置およびプラズマコーティングの方法 |
JP3943516B2 (ja) | 2003-03-27 | 2007-07-11 | 松下電器産業株式会社 | 画像再生装置 |
JP4664658B2 (ja) | 2004-12-02 | 2011-04-06 | 麒麟麦酒株式会社 | プラズマcvd成膜装置及びガスバリア性を有するプラスチック容器の製造方法 |
US20060137608A1 (en) | 2004-12-28 | 2006-06-29 | Choi Seung W | Atomic layer deposition apparatus |
JP4593357B2 (ja) * | 2005-05-18 | 2010-12-08 | 麒麟麦酒株式会社 | 口部着色が低減されたガスバリア性プラスチック容器の製造方法及びその容器 |
US20090194233A1 (en) * | 2005-06-23 | 2009-08-06 | Tokyo Electron Limited | Component for semicondutor processing apparatus and manufacturing method thereof |
TW200722344A (en) * | 2005-08-22 | 2007-06-16 | Advanced Tech Materials | Material containment system |
JP2009529605A (ja) | 2005-11-28 | 2009-08-20 | マセソン トライ−ガス, インコーポレイテッド | 化学蒸着法により形成されたガス貯蔵コンテナーライニング |
JP2008266416A (ja) * | 2007-04-18 | 2008-11-06 | Ube Ind Ltd | ポリイミドフィルムの製造方法およびポリイミドフィルム |
US8741062B2 (en) | 2008-04-22 | 2014-06-03 | Picosun Oy | Apparatus and methods for deposition reactors |
US10041169B2 (en) | 2008-05-27 | 2018-08-07 | Picosun Oy | System and method for loading a substrate holder carrying a batch of vertically placed substrates into an atomic layer deposition reactor |
JP4739376B2 (ja) * | 2008-07-14 | 2011-08-03 | 三菱重工食品包装機械株式会社 | バリア膜形成用内部電極及び成膜装置 |
JP2010242205A (ja) * | 2009-04-10 | 2010-10-28 | Toppan Printing Co Ltd | 成膜装置 |
US7985188B2 (en) * | 2009-05-13 | 2011-07-26 | Cv Holdings Llc | Vessel, coating, inspection and processing apparatus |
KR101823159B1 (ko) | 2009-05-13 | 2018-01-29 | 에스아이오2 메디컬 프로덕츠, 인크. | 유기실리콘 전구체를 이용한 pecvd 코팅 |
JP5619165B2 (ja) | 2009-08-24 | 2014-11-05 | ライフ テクノロジーズ コーポレーション | 高速高分離能のゲル電気泳動のためのシステム |
CN102452797B (zh) | 2010-10-19 | 2014-08-20 | 英作纳米科技(北京)有限公司 | 药用玻璃瓶内壁涂层的制备方法 |
US20130337171A1 (en) * | 2012-06-13 | 2013-12-19 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | N2 purged o-ring for chamber in chamber ald system |
CN202753490U (zh) * | 2012-08-27 | 2013-02-27 | 英作纳米科技(北京)有限公司 | 新型包装耗材容器 |
-
2014
- 2014-03-03 RU RU2016136052A patent/RU2016136052A/ru not_active Application Discontinuation
- 2014-03-03 EP EP14884857.5A patent/EP3114249B1/en active Active
- 2014-03-03 CN CN201480076747.3A patent/CN106062246B/zh active Active
- 2014-03-03 JP JP2016549485A patent/JP6374973B2/ja active Active
- 2014-03-03 US US15/123,019 patent/US10329662B2/en active Active
- 2014-03-03 KR KR1020167023834A patent/KR102286345B1/ko active IP Right Grant
- 2014-03-03 WO PCT/FI2014/050153 patent/WO2015132444A1/en active Application Filing
- 2014-03-03 SG SG11201606030UA patent/SG11201606030UA/en unknown
-
2015
- 2015-03-02 TW TW104106517A patent/TWI699450B/zh active
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02185980A (ja) * | 1988-07-18 | 1990-07-20 | Vapor Technol Inc | 金属製加圧ガス容器をコーティングする方法 |
JPH08509166A (ja) * | 1994-02-16 | 1996-10-01 | ザ・コカ−コーラ・カンパニー | プラズマ補助表面反応又は表面上の重合による不活性又は不浸透性内部表面を有する中空容器 |
US6416577B1 (en) * | 1997-12-09 | 2002-07-09 | Asm Microchemistry Ltd. | Method for coating inner surfaces of equipment |
JP2007005545A (ja) * | 2005-06-23 | 2007-01-11 | Tokyo Electron Ltd | 半導体処理装置の表面処理方法 |
US20070269595A1 (en) * | 2005-11-28 | 2007-11-22 | Planar System Oy | Method for preventing metal leaching from copper and its alloys |
JP2007224348A (ja) * | 2006-02-22 | 2007-09-06 | Tokyo Electron Ltd | 耐環境部材、半導体製造装置及び耐環境部材の製造方法 |
JP2011513593A (ja) * | 2008-03-12 | 2011-04-28 | アリタス コーポレーション エス.エー. | プラズマシステム |
JP2012526921A (ja) * | 2009-05-13 | 2012-11-01 | エスアイオーツー・メディカル・プロダクツ・インコーポレイテッド | 被覆表面検査のためのガス放出方法 |
JP2011135046A (ja) * | 2009-11-27 | 2011-07-07 | Tokyo Electron Ltd | 縦型成膜装置およびその使用方法 |
JP2012172208A (ja) * | 2011-02-22 | 2012-09-10 | All-Tech Inc | プラスチックボトル内面の処理方法及びプラスチックボトル内面の処理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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