DISPOSITIVO DE RECUBRIMIENTO MULTIESTACIONES Y MÉTODO PARA RECUBRIMIENTO POR PLASMA DESCRIPCION La invención se relaciona con un dispositivo de recubrimiento y un método para el recubrimiento mediante plasma de piezas de trabajo, en particular un dispositivo de recubrimiento teniendo una multiplicidad de estaciones de recubrimiento y un método para el recubrimiento simultáneo de una multiplicidad de piezas de trabajo. Las propiedades de barrera de envases dé materia sintética como, por ejemplo, botellas- de ' materia sintética, pueden mejorarse sustancialmente mediante capas de barrera de la superficie interior o exterior de semejantes envases. De esta manera es posible, por ejemplo, proteger víveres de la acción de oxigeno, que pasa relativamente bien mediante difusión por la mayoría de los tipos de materia sintética. Semejantes recubrimientos pueden depositarse, entre otras posibilidades, mediante diferentes métodos de CVD {CVD: "deposición de vapor químico", por sus siglas en inglés) ' en las paredes de los envases. El plasma se enciende para esto en general a baja presión en una atmósfera de gas que comprende un gas precursor. Los productos reactivos que se generan en el plasma se depositan entonces como recubrimiento en la pieza de trabajo por tratar. La atmósfera de baja presión necesaria para el encendido del plasma requiere que se evacúen los alrededores de la pieza de trabajo. Esto puede realizarse, por ejemplo, mediante esclusas convenientes, o introduciendo la pieza de trabajo en la cámara de reacción bajo presión normal y evacuando- este a continuación. El diseño de la transición de la pieza de trabajo de una atmósfera de presión normal a una atmósfera de presión baja o un vacío es, correspondientemente, el problema fundamental respecto a' la velocidad de operación y los costos de un recubrimiento por CVD. De WO 01/31680 Al se conoce un dispositivo para el tratamiento con plasma de baja presión de envases, donde la estación de tratamiento comprende una cavidad que puede cerrar y abrirse con una tapa separable, siendo que la tapa tiene un canal de conexión que establece, en estado cerrado, una conexión con un circuito de vacío. Los envases por recubrir se insertan en la cavidad estacionaria y después se cierra la tapa, siendo que a continuación puede evacuarse la cavidad. Esta construcción, sin embargo, es desventajosa, porque el envaso por recubrir debe transportarse a la cavidad en un movimiento complicado a lo largo de dos direcciones perpendiculares entre si. Además, el envase está rodeado en la cavidad por todos lados por las paredes de la cavidad, excepto por la abertura tapada, en estado cerrado, por la tapa, y de esta forma es difícil de agarrar después del recubrimiento para el siguiente movimiento de transporte. Además, la eficiencia de paso de semejante dispositivo es limitado, debido a que el esquema de movimiento debe repetirse por cada envase individual por cada operación de recubrimiento. La invención se basa entonces en el objetivo de ofrecer un dispositivo de recubrimiento y un dispositivo con el cual se simplifica el transporte de piezas de trabajo y el reactor de recubrimiento y que permite una alta eficiencia de paso. Este objetivo se logra sorprendentemente ya por un dispositivo de recubrimiento según la reivindicación 1, una instalación de de recubrimiento según la reivindicación 19, así como un método para el recubrimiento por plasma de piezas de trabajo según las reivindicaciones 34 y 46. Perfeccionamientos ventajosos son objeto de las reivindicaciones dependientes. Correspondientemente, un dispositivo dé recubrimiento inventivo o una estación de plasma inventiva para el recubrimiento por plasma de piezas de trabajo comprenden un reactor o una cámara de plasma con un elemento de casquillo móvil y un elemento de base, siendo que se define, respectivamente forma, entre el elemento de casquillo y el elemento de base en posición unida, al menos una cámara de recubrimiento o cavidad obturada, así como - un dispositivo para la introducción de energía electromagnética al menos a una cámara de recubrimiento. El reactor tiene, además, como mínimo dos estaciones de recubrimiento. De esta manera se logra que se puedan alimentar, recubrir y volver a retirar al menos dos piezas de trabajo simultáneamente. El dispositivo inventivo con elemento de casquillo móvil facilita en esto el esquema de movimiento para la inserción y el retiro de las piezas de trabajo. El método inventivo para el recubrimiento por plasma de piezas de trabajo, el cual puede realizarse particularmente en un dispositivo inventivo con un reactor con un elemento de casquillo móvil y un elemento de base, está previendo correspondientemente, disponer al menos dos piezas de trabajo por recubrir en el elemento de base, - unir el elemento de casquillo con el elemento dé base al mover el elemento de casquillo, de manera que se define o forma, en posición de unión o junta, al menos una cámara de recubrimiento sellada entre el elemento de casquillo y el elemento de base, en la que se encuentra al menos una de las piezas de trabajo, - evacuar la cámara de recubrimiento, - introducir gas de proceso, y generar un plasma mediante aplicación de energía electromagnética. Gracias a que la operación de recubrimiento se realiza simultáneamente para dos o más piezas de trabajo, se puede aumentar la eficiencia de paso con el dispositivo por un factor correspondiente. Como el elemento de casquillo está diseñado de forma móvil respecto a un elemento de base estacionario, las estaciones de recubrimiento son de fácil acceso para las piezas de trabajo. Las piezas de trabajo no tienen que introducirse en el elemento de casquillo, gracias a la movilidad de este, sino se pueden disponer de manera sencilla en o sobre el elemento de base, siendo que el elemento de casquillo se coloca, entonces, encima de las piezas de trabajo al cerrar. La invención permite, además, una construcción de un dispositivo de recubrimiento con pocas masas en movimiento, ya que se debe mover solamente el elemento de casquillo. Ventajosamente, el elemento de casquillo puede moverse para abrir y cerrar la cámara de recubrimiento esencialmente verticalmente , mediante una guía del elemento de casquillo correspondiente, respecto al elemento de base, para crear una accesibilidad de lo más libre posible.
Según una modalidad de la invención, el elemento de base tiene la configuración de una placa base. Es particularmente ventajoso además, ' si el elemento de base tiene canales de abastecimiento y que el suministro de medios de operación se realice a través de ellos. El suministro de medios de operación en este sentido comprende particularmente la evacuación y/o ventilación y/o el suministro de gas de proceso a través de los canales de abastecimiento. Como el elemento de base permanece en reposo en relación con el dispositivo de recubrimiento durante la abertura y el cierre del reactor es posible evitar en buena medida conexiones de vacío dinámicas, respectivamente móviles, como por ejemplo tubos flexibles ondulados, y sellos móviles. Justamente esta disposición permite una construcción robusta que requiere poco mantenimiento con pocos componentes móviles. Además, de este modo es posible disponer muchas válvulas, que se emplean para el mando y el control de la admisión y la salida de gas, directamente o cerca del elemento de base y cerca de las cámaras de recubrimiento. Esto da como resultado un bajo volumen muerto. Según una primera modalidad se definen al menos dos cámaras de recubrimiento separadas entre si. Mediante cámaras de recubrimiento separadas se evita que las plasmas encendidas en las estaciones de recubrimiento individuales se influencien y estorben mutuamente. Es posible también, sin embargo según otra modalidad de la invención, prever una cámara de recubrimiento común para al menos dos estaciones de recubrimiento. Esto puede ser ventajoso, por ejemplo, si las piezas de trabajo se cubren en un plasma común a ambas. El dispositivo para introducir la energía electromagnética tiene preferentemente al menos un conductor de abastecimiento que conduce los campos electromagnéticos al interior de la cámara. Este puede, por ejemplo, encajar en una abertura del elemento de casquillo. Para sellar la abertura, su orilla y/o el conductor pueden estar previstos, por ejemplo, con un collar de obturación con un sello. Para el encendido y el sostenimiento del plasma se usan generalmente microondas o campos de alta frecuencia. Para poder transportar las ondas, el mínimo un conductor de abastecimiento comprende preferentemente una guía de ondas y/o un conductor coaxial . Convenientemente, el elemento de casquillo para abrir y cerrar la cámara de recubrimiento puede ser diseñado de forma movible a lo largo del conductor de abastecimiento, respectivamente moverse, para abrir y cerrar, a lo largo del conductor de abastecimiento para alimentar la energía electromagnética. De esta manera, el conductor de abastecimiento puede servir simultáneamente como guía para el elemento d casquillo. Preferentemente, el dispositivo para introducir energía electromagnética puede comprender además al menos un dispositivo para generar energía electromagnética. Los campos usados para la generación de plasma se generan de esta manera directamente en el dispositivo de recubrimiento, de manera que es posible prescindir de una alimentación de microondas u ondas de alta frecuencia, que debería eventualmente realizarse a través de conductores flexibles de difícil manejo. Esto es de ventaja en particular cuando el dispositivo de recubrimiento es desplazado en un dispositivo de transporte de una instalación de recubrimiento, respectivamente de un módulo de plasma. La introducción de energía electromagnética comprende, preferentemente, la introducción de microondas para poder aplicar grandes cantidades de energía en el plasma. El dispositivo para generar energía eléctrica puede comprender para esto ventajosamente al menos una cabeza de microonda. Este puede tener, por ejemplo, un magnetrón como fuente de microondas. Particularmente conveniente, como microondas generadas por la cabeza de microondas, es en esto una frecuencia de 2.45 GHz. Ventajosamente, el dispositivo para la introducción de energía electromagnética puede comprender además un dispositivo para distribuir la energía electromagnética, por ejemplo en forma de una estructura de guía de ondas o impedancia. Con semejante dispositivo puede distribuirse la energía generada por una fuente a varias estaciones de recubrimiento o cámaras de recubrimiento. Semejante dispositivo puede comprender una estructura de guía de onda o de impedancia, tal como se describe en la solicitud de patente previa con el número 101 38 693.1-52, siendo que su manifestación se incluye también íntegramente como objeto en la presente solicitud. En una modalidad preferida de la invención, se genera un plasma pulsado mediante aplicación de energía electromagnética pulsada. Correspondientemente, el dispositivo comprende, en esta modalidad, un dispositivo para la generación de energía electromagnética pulsada para la generación de energía electromagnética. Energía electromagnética pulsada permite la generación de un plasma pulsado para la aplicación del método CVD de impulso de plasma o de PICVD (PICVD = deposición de vapor químico inducido por pulso, por sus siglas en inglés) como método de recubrimiento. En comparación con la deposición de fase de vapor química apoyada por plasma (PECVD, por sus siglas en inglés), donde se mantiene continuamente el plasma, el método PICVD es más ventajoso, entre otros aspectos, porque este método permite la reducción del calentamiento de las materias sintéticas sensibles a temperatura. Además permite, durante los intervalos fuera de pulso, donde no se incita el plasma, el intercambio de gases. Esto causa capas particularmente puras, ya que productos reactivos indeseables pueden ser retiradas en las pausas de pulsación y se puede alimentar nuevo gas precursor. Una aplicación principal del dispositivo inventivo es el recubrimiento de piezas de trabajo en forma de cuerpos huecos, siendo que para esto las estaciones de recubrimiento pueden diseñarse en forma ventajosa para el alojamiento de semejantes piezas de trabajo. Las estaciones de trabajo pueden estar conformadas en particular para el alojamiento de botellas, ampolletas, calotas o cuerpos de bombillas. Pero también es posible con el dispositivo de recubrimiento un recubrimiento de cuerpos macizos como partes conformadas de materias sintéticas. Una modalidad de la invención está previendo que la evacuación de la cámara de recubrimiento se realiza por; etapas en al menos dos etapas de presión. Esto ha resultado ser conveniente para una operación de bombeo de succión rápida, ya que de esta manera, la evacuación en las etapas de presión individuales se vuelve más eficiente. El dispositivo inventivo puede diseñarse también particularmente para el recubrimiento interior de piezas de trabajo en forma de cuerpos huecos. Consecuentemente, se introduce, después de la evacuación, gas de proceso al interior, de manera que, al irradiar o alimentar energía electromagnética, se presenta allí un encendido de un plasma y el depósito en la pared interior de las piezas de trabajo. Para esto es ventajoso también si las estaciones de recubrimiento tienen obturaciones para sellar el interior de las piezas de trabajo en forma de cuerpo hueco. Mediante el sellado del interior respecto al ambiente se genera la posibilidad de tener diferentes atmósferas y/o presiones en el interior de las piezas de trabajo y sus alrededores. Por ejemplo, los alrededores de la pieza de trabajo y su interior pueden evacuarse simultáneamente, siendo que el interior se evacúa hasta una presión básica, típicamente < 0.1 mbares, particularmente en el área de 0.05 a 0.8 mbares, y los alrededores de la pieza de trabajo se evacúa por bombeo o bien i) también por debajo de la presión básica o ii) a una presión exterior fija en el área de 1 a 100 mbares, particularmente en el área de 10 a 100 mbares . A continuación puede llenarse el interior con el gas de proceso. Para un recubrimiento solo en el interior se alimenta, correspondientemente, gas de proceso sólo al interior. De esta manera puede producirse plasma selectivamente, por ejemplo, sólo en el interior, ya que la estanqueidad a gas en los alrededores es insuficiente para la formación de plasma. Para poder crear semej ntes condiciones atmosféricas controlables por separado, es ventajoso si, por ejemplo, el elemento de base tiene canales de abastecimiento para la evacuación y/o ventilación y/o administración de gas de proceso para el interior y los alrededores de las piezas de trabajo en forma de cuerpo hueco. Los canales de abastecimiento de dos o más estaciones de recubrimiento pueden estar también conectados a través de canales de abastecimiento o tubería de abastecimiento compartidos. Esto reduce la longitud total efectiva y el área de pared de los canales de abastecimiento y aumenta así la potencia de bombeo y el paso de gas . Igualmente es conveniente para el paso del gas, aquí especialmente para el paso del gas de proceso, si la alimentación o introducción de gas de proceso a una cámara de recubrimiento se realiza mediante al menos una lanza de gas. La lanza de gas puede estar dispuesta aquí de manera tal que su abertura única o varias de ellas se encuentran en el plasma. De esta manera las vías de transporte del gas precursor en el plasma son cortas, de modo que se distribuye en el tiempo mínimo de la manera más uniforme posible .
La lanza de gas puede estar configurada de manera desplegable y replegable. Esto es conveniente, por ejemplo, en el caso de recubrimiento interior de cuerpos huecos, cuando la lanza de gas penetra en el interior de la pieza de trabajo en forma de cuerpo hueco y que estorbaría la inserción o el retiro. En este caso, la lanza de gas puede desplegarse del interior de la pieza de trabajo antes de retirar esta e introducirse, después de insertar otra pieza de trabajo, nuevamente en este. De manera , particularmente sencilla puede transmitirse el movimiento de la 'lanza de gas y particularmente del elemento de casquillo mediante levas mecánicas. Estas pueden estar fijadas en una instalación de recubrimiento y controlar, por ejemplo, el movimiento del elemento de casquillo y/o de la lanza de gas mediante rodillos de leva fijados en estos. El control del procedimiento de abertura y de cierre de un reactor de recubrimiento con levas mecánicas, así como las demás detalles constructivas son descritas extensivamente en la solicitud alemana con el número 102 28 898.4, siendo que su manifestación se integra enteramente también como objeto de la presente solicitud. Para una operación de recubrimiento económica, se requieren instalaciones de alto rendimiento. Para lograr un alto rendimiento de semejante instalación, es particularmente conveniente si la región de recubrimiento de la cámara de recubrimiento puede evacuarse tan rápido como sea posible a la presión final requerida o deseada. Para esto es conveniente que la tubería de abastecimiento a la cámara de recubrimiento tenga buenos índices de conductividad. Es conveniente además si los conductos de abastecimiento hacia la cámara de recubrimiento aporten sólo pequeños volúmenes por evacuar adicionalmente . Forma, por lo tanto, parte del marco de la invención, indicar un método y un dispositivo los cuales permiten un paso mayor. La invención está previendo para esto una instalación para el recubrimiento al vacío de piezas de trabajo que comprende - un dispositivo de transporte, así como al menos un dispositivo de recubrimiento dispuesto en el dispositivo de transporte, siendo que el dispositivo de transporte está conectado mediante un bloque de válvulas con al menos dos conductos de abastecimiento. Las válvulas pueden, según un perfeccionamiento de la invención, controlarse o ajustarse de manera discrecional. El arreglo compacto de las válvulas en o junto a un bloque de válvulas reduce la longitud de los canales de abastecimiento necesarios y con esto el volumen por evacuar. Además es fácil de intercambiar piezas de desgaste. De manera particularmente preferida, el bloque de válvulas está dispuesto también, al igual que el dispositivo de recubrimiento, en el dispositivo de transporte. Con esto pueden evitarse acoplamientos móviles, que son caros y empeoran el índice de conducción y de fugas . Como dispositivo de recubrimiento es conveniente particularmente un dispositivo de recubrimiento inventivo como precedentemente descrito, que tiene un reactor con un elemento de casquillo móvil y un elemento de base, así como un dispositivo para introducir energía electromagnética a la como mínimo una cámara de recubrimiento y siendo que el reactor tiene además al menos dos estaciones de recubrimiento . Desde luego es posible también, emplear dispositivos de recubrimiento de otro tipo para una instalación inventiva. Un método correspondiente para el recubrimiento por plasma comprende, por lo tanto, las etapas posicionamiento de al menos una pieza de trabajo por recubrir en una posición de recubrimiento de un reactor de un puesto de recubrimiento o un dispositivo de recubrimiento que está dispuesto en un dispositivo de transporte de una instalación de recubrimiento, - Evacuar los alrededores de un área por cubrir de la pieza de trabajo, - alimentación de un gas de proceso, y - generar un plasma mediante la introducción de energía electromagnética, siendo que al menos una de las etapas de la evacuación o de la alimentación con gas de proceso es controlado mediante el cambio de válvulas de un bloque de válvulas que está dispuesto en un dispositivo de transporte. El plasma se genera, en esto, particularmente en los alrededores del área por recubrir de la pieza de trabajo, siendo que se alimenta gas de proceso a la región del área . Según una modalidad de la invención, una instalación de 'recubrimiento conveniente tiene generalmente un dispositivo de recubrimiento con un reactor que comprende al menos dos elementos de cámara, de los cuales al menos uno de los elementos es móvil, siendo que en posición unida se forma al menos una cámara de recubrimiento sellada entre los elementos de cámara. La pieza de trabajo se posiciona en esto primeramente en el puesto de recubrimiento provisto y después se unen los elementos formando al menos una cámara de recubrimiento. Preferentemente el dispositivo de recubrimiento tiene, tal como se describe en las modalidades precedentes, al menos dos cámaras de recubrimiento para lograr una mayor eficiencia de paso y un mejor economía de la instalación de recubrimiento. En semejante modalidad de la invención es entonces conveniente si el bloque de válvula tiene al menos una válvula y/o un asiento de válvula y cada cámara está unida con el bloque de válvula mediante al menos un canal de abastecimiento con la válvula o el asiento de válvula. Ventajosamente los canales de abastecimiento pueden estar dispuestos, en esto, de manera simétrica respecto a la válvula o el asiento 'de válvula, para abastecer las cámaras de manera uniforme y lograr de esta manera, por ejemplo, las presiones en las cámaras. En una modalidad de la invención, donde el dispositivo de recubrimiento comprende varias cámaras de recubrimiento, es también particularmente conveniente un bloque de válvula, donde los canales de abastecimiento de las cámaras están asociados al menos con una válvula compartida del bloque de válvulas. Esto logra una disminución de las válvulas necesarias y procura además mejores índices de conducción. Correspondientemente, en un método para el recubrimiento de piezas de trabajo usando una instalación de recubrimiento con un dispositivo de recubrimiento teniendo varias cámaras de recubrimiento puede realizarse al menos una de las etapas evacuar de los alrededores de un área por cubrir de piezas de trabajo en la cámaras de recubrimiento o alimentar gas de proceso a las cámaras de recubrimiento a través de al menos una válvula compartida del bloque de válvulas. Al menos uno de los conductos de admisión produce, según un perfeccionamiento de la invención, una conexión con al menos un dispositivo de bombeo para evacuar y/o retirar por bombeo el gas de proceso de las cámaras de recubrimiento o de los alrededores del área o de las áreas por recubrir de las piezas de trabajo. Un perfeccionamiento ventajoso de la invención está previendo además que el dispositivo de recubrimiento comprende, igual como en el dispositivo de recubrimiento descrito en lo precedente, un elemento de base y un elemento de casquillo móvil respecto a este elemento de base, siendo que se forma una cámara de recubrimiento entre estos elementos unidos entre si. En esta modalidad es particularmente ventajoso si los conductos de abastecimiento o los canales de abastecimiento se llevan entre él bloque de válvula y la cámara de recubrimiento a través del elemento de base hacia la cámara de recubrimiento. Gracias a esta disposición, es posible evitar conductos u obturaciones en movimiento entre el bloque de válvulas y la cámara de recubrimiento. Según una variante de esta modalidad, el bloque de válvula hasta constituye una parte del elemento de base o de un elemento fijo, es decir, un elemento del reactor no movido para abrir y cerrar. Con esto pueden reducirse a un mínimo las longitudes de los conductos de abastecimiento. Según otra modalidad de la invención está previsto además que el bloque de válvulas tiene válvulas de control neumático o electromagnético. En el bloque de válvula o integrado en este, se puede encontrar venta osamente un dispositivo de distribución neumático, de manera que, por ejemplo, se necesita sólo un solo conducto de aire comprimido para válvulas controladas neumáticamente. El abrir y cerrar de las válvulas de accionamiento, neumático puede controlarse particularmente con el dispositivo de distribución neumático. Las válvulas del bloque de válvulas pueden estar asociadas, convenientemente, mediante disposición correspondiente de los conductos al bloque de válvulas, con diferentes medios de operación como, por ejemplo, fuentes de presión, siendo que por medios de operación o fuentes de presión se entienden particularmente fuentes de vacío como, por ejemplo, dispositivos de bombeo, fuentes de sobrepresión, fuentes de presión normal o de ambiento y fuentes de gas, por ejemplo, una fuente de gas de proceso.
Mediante control de las válvulas pueden conectarse estas fuentes de presión entonces, por ejemplo, en secuencia con la cámara de recubrimiento y abrirse y cerrarse así. Estas fuentes de presión pueden comprender, entre otras cosas, la presión atmosférica, áreas de vacío de escalonamiento diverso, así como dispositivos de abastecimiento o de aspiración para el gas de proceso. Preferentemente, se está previendo el recubrimiento de piezas de trabajo en forma de cuerpos huecos como, por ejemplo, botellas. Para esto es ventajoso si unos canales de abastecimiento separados están presentes para el interior y los alrededores de semejantes piezas de trabajo, siendo que los canales de abastecimiento están unidos al menos con una válvula o un asiento de válvula del bloque de válvula. De esta manera es posible evacuar el interior y los alrededores de la pieza de trabajo por canales de abastecimiento separados. Esto es ventajoso, entre otras situaciones, cuando el recubrimiento debe ser solo del interior. En este caso es necesario evacuar los alrededores solamente lo suficiente para que la diferencia de presión entre Interior y ambiente no causa una deformación de las piezas de trabajo. El bloque de válvula puede estar configurado además de manera tal que este comprenda al menos una parte de una canal de abastecimiento donde puede alojarse una lanza de gas. Este canal de abastecimiento puede estar previsto particularmente para la alimentación del interior de piezas de trabajo en forma de cuerpos huecos . Para un recubrimiento interior puede evacuarse para esto el interior de la pieza de trabajo, introducirse la lanza en el interior y se abastece la lanza con gas de proceso. Con el fin de evitar obturaciones dinámicas caras y sensibles, una instalación de recubrimiento puede tener, según una modalidad de la invención, al menos un dispositivo de bombeo dispuesto en el dispositivo de transporte. Con esto es posible real-izar la evacuación al menos parcialmente con al menos un dispositivo de bombeo semejante dispuesto en el dispositivo de transporte con la omisión de obturaciones en movimiento. Se está considerando en particular que, según aún otra modalidad de la invención, el dispositivo de recubrimiento es transportado en el dispositivo de transporte en forma circular. El dispositivo de transporte de una instalación de recubrimiento inventiva, puede comprender, correspondientemente, una instalación rotativa, respectivamente un aparato giratorio de recubrimiento o una rueda de plasma. Durante la operación de la instalación, el dispositivo de recubrimiento está rotando de esta forma en la instalación rotativa, de manera que diferentes sectores de círculo corresponden a diferentes etapas de la operación. Esto permite una construcción particularmente sencilla de la instalación y un desarrollo sencillo de la operación. Sobre la instalación rotativa pueden disponerse en particular también varios dispositivos de recubrimiento que comprenden, por ejemplo, respectivamente un dispositivo de recubrimiento inventivo como descrito en lo precedente. A continuación se explica la invención más de cerca a mano de unas modalidades preferidas y con referencia a los dibujos anexos. Símbolos de referencia iguales señalan en esto componentes idénticos o similares. Muestran: - ' Fig. 1A una vista de perfil a través de una modalidad de la invención, Fig. IB una variante de la modalidad mostrada en Fig. 1A con una cabeza de microonda individual para el abastecimiento compartido de las cámaras de recubrimiento,
Fig. 2 otra variante de la modalidad mostrada en Fig. - 1A con cámara de recubrimiento compartida para dos plazas de recubrimiento, Fig. 3 una vista de sección transversal a través de una modalidad de la invención con mando del procedimiento de abertura y cierre mediante levas mecánicas, Fig. 4 una vista esquemática desde arriba con una multiplicidad de dispositivos de recubrimiento inventivos, Fig. 5 y Fig. 6 vistas de dos ejemplos de ejecución de instalaciones de recubrimiento inventivas con dispositivos de bombeo transportados sobre el dispositivo de transporte, Fig. 7 una modalidad de un bloque de válvulas inventivo para el control del abastecimiento de las cámaras de recubrimiento en sección transversal, Fig. 8 una sección a lo largo de la línea de sección A-A en Fig. 7 perpendicular respecto al plano de sección representado en Fig. 7, Fig. 9 una sección a lo largo de la línea de sección B-B en Fig. 7 perpendicular respecto al plano de sección representado en Fig. 7 y Fig. 10 A y 10B una vista de sección y una vista desde arriba sobre una brida de obturación de un dispositivo de recubrimiento para piezas de trabajo en forma de cuerpo hueco . En Fig. 1A se muestra una vista de sección-transversal esquemática a través de una modalidad del dispositivo de recubrimiento inventivo que está designada en forma global con 1. El dispositivo 1 de recubrimiento comprende un reactor 18 con un elemento 33 de base que tiene en este ejemplo de aplicación la figura de una placa de base y un elemento 19 de caequillo móvil, así como un dispositivo 2 para introducir energía electromagnética. El elemento 19 de casquillo móvil puede tener, por ejemplo, la forma de una pared de cámara en forma de cilindro. En posición unida entre si, tal como se representa en Fig. 1, se forman entre el elemento 19 de casquillo y el elemento 33 de base dos cámaras 15, 17 de recubrimiento, que representan respectivamente un puesto 12, respectivamente 14 de recubrimiento para una pieza de trabajo y en las cuales se introduce energía electromagnética para el recubrimiento para el encendido del plasma. Correspondientemente , en la modalidad mostrada en Fig. 1, dos piezas de trabajo pueden ser tratadas simultáneamente. Gracias a la separación de las cámaras se evita una influencia mutua de los plasmas durante el recubrimiento. La obturación de las cámaras 15, 17 de recubrimiento del reactor 2 respecto al ambiente se produce para esto mediante dos sellos 29 y 31 que están dispuestos entre el elemento 33 de base y el elemento 19 de casquillo. Para recubrir las piezas de trabajo 15 y 17, estas se colocan en el elemento 33 de base, a continuación se junta el elemento 19 de casquillo con el elemento 33 de base mediante movimiento del elemento 19 de casquillo, de manera que en posición unida entre si de ambos elementos se definen unas cámaras 15, 17 selladas entre el elemento 19 de casquillo y el elemento 33 de base, en la que se encuentran las piezas 25, 27 de trabajo. Las cámaras 15, 17 de recubrimiento se evacúan a continuación, se introduce gas de proceso y a continuación se genera un plasma mediante introducción de energía electromagnética, de manera que se forma una capa de CVD en las superficies de la pieza de trabajo contiguas al plasma. El dispositivo 2 para introducir energía electromagnética comprende además un dispositivo para generar energía electromagnética de dos cabezas de microondas o generadores 3 y 5 de microondas, un adaptador en forma de una guía 4 de onda rectangular y dos conductores de abastecimiento, respectivamente canales 7 y 9 de acoplamiento desviándose de esta, que están configurados en la modalidad representada en Fig. 1 como conductores coaxiales. Las cabezas de microondas generan preferentemente microondas con la frecuencia de 2.45 GHz autorizada por la autoridad de correos. Una variante de la modalidad representada en Fig. 1A es representada en Fig. IB. Esta variante tienen solo una cabeza 3 de microondas individual. En esto, ambas cámaras de recubrimiento están conectadas a la única cabeza de microondas. Mediante una estructura de impedancia o estructura 10 de guía de ondas, tal como se describe, por ejemplo, en la solicitud de patente alemana con el número de solicitud 101 38 693.1-52, se distribuye entonces la energía de microondas entre las individuales cámaras 15, 17 de recubrimiento . El elemento 19 de casquillo se mueve, en las modalidades representadas en las Fig. 1A y IB, esencialmente verticalmente respecto al elemento 33 de base a lo largo de la dirección A para abrir y cerrar la cámara de recubrimiento. La dirección A se extiende en esto a lo largo de los conductores 7 y 9 de abastecimiento, de manera que el elemento de casquillo es desplazable a lo largo de los conductores de abastecimiento. Los conductores sirven en esto simultáneamente como guías . para el elemento de casquillo. Para abrir y cerrar las cámaras de 15, 17 de recubrimiento se mueve correspondientemente el elemento 19 de casquillo, mientras que el elemento 33 de base se mantiene fijo. El elemento 19 de casquillo tiene además aberturas 6 y 8 donde encajan los conductores 7 y 9 de introducción del dispositivo 2 para la introducción de energía electromagnética. Los conductores coaxiales, respectivamente conductores 7 y 9 de suministro están provistas con collares 71 y 91 de obturación que, al cerrar las cámaras 15, 17 de recubrimiento son aprisionadas contra los obturadores 21 y 23 que están fijados en el elemento 19 de casquillo y que cierran así las cámaras 15 y 17 de recubrimiento a prueba de vacío. Los conductores 7, 9 coaxiales están provistos, además con ventanas 11 y 13 dieléctricas, por ejemplo, ventanas de vidrio cuarzoso para la excitación de las microondas en la región de presión baja o de vacío en el reactor 18. Las modalidades mostradas en Fig. 1A y IB están configuradas particularmente para el recubrimiento de piezas de trabajo 25 y 27 en forma de cuerpo hueco, siendo que se representan en Fig. 1A y IB, a guisa de ejemplo, botellas como piezas de trabajo. El elemento 33 de base tiene bridas 125 de obturación con sellos 51 y 53 que cierran, a prueba de vacío, el interior de las piezas 25 y 27 de trabajo en la boquilla de las piezas de trabajo respecto al ambiente. Con esto pueden ajustarse diferentes presiones en el interior y exterior de la pieza de trabajo, por ejemplo, para poder producir un puro recubrimiento interior o también un puro recubrimiento exterior o diferentes recubrimientos en el interior y en la superficie exterior de las piezas 25, 27 de trabajo. En las figuras 10A y 10B se muestra una brida de obturación para sellar la boquilla de una pieza de trabajo en representación seccionada y vista desde arriba. La brida de obturación tiene un primer elemento 127 y un segundo elemento 129 que están atornillados entre si. Entre estos dos elementos 127, 129 se aprieta el sello 51 mediante por el atornillar y se sujeta así. La brida de obturación se fija con. su primer elemento 129 en la base 33 de un dispositivo 1 de recubrimiento inventivo. El elemento 127 tiene una abertura 131 de introducción que se amplía en la dirección contraria a la dirección de inserción de la pieza '25 de trabajo, con el fin de facilitar la inserción de la pieza de trabajo. El diámetro interior de la abertura 131 de introducción es inferior al diámetro interior del sello 51. Al introducir la pieza 25 de trabajo como, particularmente, una botella, la boquilla 26 de la pieza de trabajo se encuentra así con el sello 51. Al apoyar la pieza 25 de trabajo con presión en el sello 51, respectivamente en la brida 125 de obturación, se logra así una obturación del interior respecto al ambiente de la pieza 25 de trabajo. Frecuentemente, una pieza de trabajo por recubrir típica como, por ejemplo, una botella de bebida de materia sintética, no tiene una boquilla particularmente plana. Esto puede causar falta de estanqueidad si el sello no es lo suficientemente flexible. Para mejorar la flexibilidad del sello 51, el elemento 129 tiene para este fin un socavado 130 en forma de un rebajo anular que se extiende periféricamente en el borde interior del elemento 129. El sello puede ceder en esta región y adaptarse de esta manera a la forma de la boquilla de la pieza 25 de trabajo. Para abastecer los alrededores de las piezas de trabajo en las cámaras de recubrimiento con gas de proceso para un recubrimiento exterior, se pueden prever unos canales 46 de abastecimiento que embocan en las cámaras 15, 17 de los puestos 12, 14 de recubrimiento y que están conectados con un abastecimiento de gas no mostrado a través de una válvula 74. Después de la evacuación de las cámaras 15, 17 de recubrimiento puede suministrarse entonces gas de proceso también a los alrededores de las piezas de trabajo a través de los canales 46 y mediante encendido de un plasma en esta región realizarse también un recubrimiento exterior. Con el fin de poder evacuar y ventilar las cámaras 15, 17 de recubrimiento, se están previendo unos canales 35, 37, 39, 41, 43 y 45 de abastecimiento en el elemento de base, siendo que los canales 43 y 45 sirven como canales de conexión de cámara y los canales 35, 37 de abastecimiento como canales de conexión de pieza de trabajo. Con la · disposición de los canales de abastecimiento en la parte estacionaria del reactor, y a saber en el elemento 33 de base, se evitan obturaciones dinámicas o conductos en movimiento. Los canales 5, 37, 39, 41, 43 y 45 pueden en esto servir tanto como canales de aspiración para la evacuación y el escape de gas de proceso, como también como canales de ventilación para la ventilación de las cámaras de recubrimiento antes de retirar las piezas de trabajo. Para que se puedan generar presiones o atmósferas de gas diferentes en el interior y los alrededores de las piezas de trabajo, el elemento de base tiene canales de abastecimiento separados para la evacuación y ventilación del interior 22, 24 de las piezas de trabajo, por un lado, y los alrededores de las piezas 25, 27 de trabajo en forma de cuerpos huecos, por el otro. En particular, los canales 43 y 45 de abastecimiento sirven en esto para la evacuación y ventilación de los alrededores y los canales 37, 39 de abastecimiento para la evacuación- y ventilación del interior 22, 24 de las piezas 15, 17 de trabajo. Además, los canales 43, 45 de abastecimiento para los alrededores y los canales 37, 39 de abastecimiento para el interior de ambos puestos de recubrimiento están conectados y embocan en un canal 41 de abastecimiento compartido para los alrededores, respectivamente un canal 35 de abastecimiento para los interiores 22, 24, de las piezas de trabajo. El suministro de gas de proceso para el recubrimiento interior de las piezas de trabajo 25, 27 se realiza a través de unas lanzas 55 y 57 de gas hueca que se extienden durante el recubrimiento hacia el interior de las piezas de trabajo. Estas son obturadas, en la modalidad representada en Fig. 1A, mediante sellos 47, respectivamente 49 dinámicos, dispuestos en el elemento 33 de base, contra los alrededores del dispositivo 1 de recubrimiento. El flujo del gas de proceso se conecta y desconecta mediante una válvula 60 de gas de proceso. La válvula 60 puede estar formada también para la regulación continua del flujo de gas de proceso como válvula reguladora. En forma diferente de lo representado en Fig. 1A y IB, el dispositivo 1 de recubrimiento y/o el bloque 100 de válvula puede tener también varias válvulas de gas de proceso, por ejemplo una válvula de gas de proceso primaria y secundaria. Mediante las respectivas válvulas pueden introducirse entonces diferentes gases de proceso o suministrarse los componentes individuales de gas de proceso, para poder adaptar la composición de la capa depositada. De esta manera pueden depositarse ventajosamente recubrimientos de varias capas de composición diferente sobre las piezas de trabajo. Puede ser ventajoso, entre otras cosas, aplicar primeramente una capa de agente de adhesión y sobre esta una capa de barrera para aumentar la durabilidad del recubrimiento e impedir un desprendimiento. En la modalidad del dispositivo inventivo representado en Fig. IB, los sellos 47, 49 están fijados en las lanzas 55, 57 de gas y los anillos de obturación de los sellos 47, 49 están dispuestos axialmente, de manera que la lanza de gas no haga fricción en el anillo de obturación al desplegarla o replegarla. Correspondientemente, aquí no se realiza una obturación dinámica, sino el anillo obturador está sellando al introducir la lanza de gas, cuando es aprisionado en posición introducida de las lanzas de gas. Al canal 35 de abastecimiento para la evacuación de los interiores 22, 24 de las piezas 25, 27 de trabajo, se encuentran conectados además unos dispositivos 63, 65 y 67 a través de las válvulas 62, 64 y 66. El dispositivo 63 de bomba sirve en esto para la evacuación de gas de proceso y la válvula 62, correspondientemente, como válvula de proceso. Las válvulas 64 y 66 sirven como válvulas secundarias y primarias que se abren y cierren en secuencia para evacuar las cámaras de recubrimiento, respectivamente los interiores de las piezas de trabajo en forma de cuerpo hueco, para realizar una evacuación en varias etapas de presión. Los dispositivos 65 y 67 de bombeo están previstos para la evacuación para establecer la presión remanente de gas necesaria para el recubrimiento, siendo que los dispositivos de bombeo pueden alcanzar diferentes presiones finales y se abren y cierran en secuencia para la evacuación y expulsión del gas de proceso, de manera que se realiza un sistema de bombeó de varias etapas. Desde luego es posible también, sin embargo, sistemas de bombeo de una etapa o sistemas con aún más etapas. La primera etapa de bombeo puede estar diseñada mediante el empleo del dispositivo 67 de bombeo para una evacuación iniciando con presión atmosférica hasta aproximadamente 50 mbares. Como siguiente etapa de bombeo puede evacuarse entonces, partiendo de la presión alcanzada con la primera etapa de bombeo, hasta una presión básica que se encuentra típicamente en un área entre 0.05 a 0.8 mbares. Se puede, de manera alternativa, particularmente para realizar un recubrimiento interior de las piezas de trabajo, evacuar el interior 22, .24 de las piezas 15, 17 de' trabajo hasta una presión básica < 0.1 mbares y los alrededores de las piezas 15, 17 de trabajo a una presión exterior fija entre 1 y 100 mbares. De esta manera no es necesario obtener en el exterior la presión básica. Con esto es posible también acortar el tiempo de bombeo al reducir el volumen bombeado después de alcanzar el nivel de la presión exterior, ya que a partir de este momento sólo es necesario aplicar el bombeo al interior. La evacuación de vacíos previos en el área de 10 mbares a 100 mbares para obtener la presión básica puede realizarse también ventajosamente, según otro ejemplo de ejecución, mediante el uso de dispositivos de bombeo y válvulas adicionales, no representados en las Fig. 1A y IB, en etapas o escalones de presión de escalonamiento más fino.
Finalmente, gas de proceso entrando es aspirado con una tercera etapa de bombeo con el dispositivo 63 de bombeo y se logra así un intercambio de gases de gas de procesamiento y una estabilización de la presión en las cámaras de recubrimiento. El canal 41 de abastecimiento está conectado además con el canal 35 de abastecimiento a través de una conducto 75 de paso controlada mediante una válvula 73 que sirve como válvula de vacio de cámara. De esta manera es posible evacuar también los alrededores de las piezas de trabajo en las cámaras 15, 17 de recubrimiento. Para esto se abre, durante el proceso de evacuación, el conducto 75 de paso mediante la válvula 73 , de manera que el dispositivo 65 y 67 de bombeo se conectan por vía de este conducto con los canales 43 y 45 de abastecimiento. Al terminar la evacuación se cierran entonces las válvulas 73, 66 y 64 y gas de proceso fluye después de abrir la válvula 60 a través de las lanzas 55, 57 los interiores de las piezas de trabajo y se evacúa continuamente después de abrir la válvula 62 de vacío de proceso mediante el dispositivo 63 de bombeo. Además, después del encendido del plasma, gas fresco entra continuamente a través de las lanzas 55 y 57 de gas y/o los canales 46 y gas consumido y restos de gas de proceso no consumido son evacuados a través la válvula 62 abierta mediante el dispositivo 63 de bombeo . Una vez terminado el recubrimiento, tanto los interior como las cámaras 15, 17 de recubrimiento a su alrededor pueden ser ventiladas. En consecuencia, presión normal está presente en las cámaras de recubrimiento y las piezas de trabajo y el reactor puede abrirse sin mucha fuerza. La válvula 61 sirve en esto como válvula de ventilación de pieza de trabajo y la válvula 77 como válvula de ventilación de cámara. Según un perfeccionamiento ventajoso de la invención, las válvulas 60, 61, 62, 64, '66, 73, 74, 77 son juntadas en un bloque 100 de válvula, el- cual está dispuesto, igual como. el dispositivo 1 de recubrimiento, en un dispositivo de transporte no mostrado en las Fig. 1A y IB, de una instalación de recubrimiento. A través del bloque 100 de válvula, las cámaras 15, 17 de recubrimiento de la instalación 1 de recubrimiento están unidas con los conductos para los dispositivos 63, 65 67 de bombeo, a través de la válvula 650 con una fuente de gas de proceso, así como a través de la válvula 77 para la ventilación con presión ambiental . El bloque 100 de válvulas tiene además, según un perfeccionamiento de la invención, un dispositivo 103 de distribución neumático, como es representado esquemáticamente en Fig. 1A. Este distribuye aire comprimido de un conducto 105 de alimentación de aire comprimido mediante conductos 106 de distribución entre las válvulas individuales. También los ejemplos de ejecución explicados en Fig. IB así como mediante las siguientes figuras, pueden tener semejante dispositivo 103 de distribución neumático, pero esta no se muestra ahí por razones de simplificación. En Fig. 2 se representa una variante de la modalidad mostrada en Fig. 1. En esta variante, a diferencia de la modalidad descrita mediante Fig. 1, se está previendo una cámara 15 de recubrimiento compartida para dos puestos 12 y 14 de recubrimiento. Con este fin, el elemento 19 de casquillo tiene no dos casquillos separados, como en el ejemplo de ejecución precedentemente descrito, sino más bien un casquillo compartido, que, al cerrar, se coloca encima de ambas piezas de trabajo, respectivamente ambos puestos de recubrimiento. Correspondientemente, el dispositivo de recubrimiento necesita sólo un canal 41 de abastecimiento para la evacuación y ventilación de la cámara de reacción o cámara 15 de recubrimiento. En Fig. 3 se representa una vista en sección transversal a través de una modalidad de la invención, donde se realiza el abrir y cerrar de las cámaras de recubrimiento mediante levas mecánicas. Con objeto de mayor claridad, no se representan en Fig. 3 los canales de alimentación, así como las bombas y las válvulas de mando. En el elemento 19 de casquillo del dispositivo 1 de recubrimiento, se encuentra . un brazo 81. En el brazo 81 están dispuestos unos rodillos 84, 85 y 86 de leva. Los rodillos 84, 85 y 86 de leva envuelven una leva 80 mecánica, junto a la cual pasa el dispositivo 1 de recubrimiento en dirección de transportación. La leva 80 se extiende también a lo largo de la dirección de transportación y está doblada en forma conveniente, de manera que su perfil de sección transversal se desplaza a lo largo de la dirección A. Debido a esto, el brazo y el elemento 19 de casquillo conectado con el, se mueven, al pasar el dispositivo de recubrimiento a lo largo de la leva, también a lo largo de la dirección A, por lo que las cámaras de recubrimiento se abren y cierran para la inserción o el retiro de piezas de trabajo en los puestos 12 y 14 de recubrimiento. De igual manera se puede controlar también el movimiento de las lanzas 55 y 57 de gas. Las lanzas de gas se fijan para esto en un soporte 78, donde se fija también un brazo 83. El brazo 83, a su vez, está provisto con rodillos 87, 88 y 98 de leva que envuelven otra leva 82 mecánica. El movimiento de las lanzas de gas se realiza de manera análoga como se ha descrito precedentemente mediante el movimiento del elemento 19 de casquillo. Los canales en el elemento 33 de base, en las cuales se mueven las lanzas 55 de gas, son obturados en esto a prueba de gas contra la atmósfera con sellos 47 y 49 dinámicos con una tasa de fuga < 0.1 mbares 1/s, de manera que, en el marco de la tasa de fuga, no hay penetración de gas del ambiente hacia el interior de las piezas 25 y 27 de trabajo en forma de cuerpo hueco. De manera diferente a lo mostrado en Fig. 3, se pueden emplear también sellos 47, 49 no dinámicos, fijados en las lanzas 55, 57 de gas, con anillo obturador axial, tal como se describen mediante la figura IB. En Fig. 4 se muestra una vista esquemática desde arriba sobre una instalación 90 de recubrimiento para recubrir piezas 25 de trabajo, que está equipada con una multiplicidad de dispositivos 1 de recubrimiento inventivos. La instalación 90 de recubrimiento comprende un dispositivo de transporte rotativo o una máquina 91 rotativa, en la cual se encuentran dispuestos doce dispositivos 1 de recubrimiento inventivos. La instalación de recubrimiento comprende, además, una leva 80 montada en forma estacionaria para el mando del procedimiento de abertura y cierre de los dispositivos 1 de recubrimiento. Los dispositivos 1 de recubrimiento tienen además respectivos brazos 81 los que están fijados, tal como se han ilustrado mediante Fig. 3, en los respectivos elementos de caequillo de los reactores y que se mueven al pasar junto a la leva 80. Las piezas 25 de trabajo son guiadas mediante un riel 94 de transporte hacia una rueda distribuidora o rueda 92 transportadora que transporta las piezas de trabajo a continuación hacia los puestos de recubrimiento de los dispositivos 1 de recubrimiento. Las piezas de trabajo se fijan entonces en alojamientos convenientes en los puestos de recubrimiento de los dispositivos 1 de recubrimiento. Al girar la máquina rotativa, los elementos de casquillo son cerrados al pasar junto a la leva 80, tal como se describe precedentemente y las cámaras de recubrimiento de los reactores son evacuadas. En el caso de piezas de trabajo en forma de cuerpo hueco, se pueden entonces introducir también unas lanzas de gas, controladas mediante una leva, en las piezas de trabajo. A continuación se llenan con gas de proceso y se realiza el recubrimiento mediante irradiación con microondas, mientras la máquina 91 rotativa sigue girando. El suministro de gas de proceso, la ventilación y evacuación de las cámaras de recubrimiento de los dispositivos 1 de recubrimiento se controla mediante unos bloques 100 de válvulas que están dispuestos junto con los dispositivos de recubrimiento en la máquina rotativa y giran junto con estos. En esta modalidad de una instalación 90 de recubrimiento se disponen además unos dispositivos 63, 65 de bombeo sobre la máquina rotativa que están conectados, mediante unos conductos, con los bloques 100 de válvulas para el abastecimiento con vacío de las cámaras de recubrimiento. Adicionalmente, también pueden estar presentes uno o varios dispositivos de bombeo que están dispuestos en forma estacionaria y que están unidos con los bloques de válvula mediante un conducto rotatoria. Semejante disposición con dispositivos de bomba y válvulas que acompañan el movimiento rotatorio, tal como se ha representado en principio mediante Fig. 4, se describe también en la solicitud de patentes alemana con el número de solicitud 102 53 512.4-45, cuya manifestación se convierte presentemente en su totalidad también en objeto de la presente invención. Una vez terminado el tratamiento de las piezas de trabajo, se levanten entonces, nuevamente por mediación de la leva 80, los elementos de casquillo del dispositivo 1 de recubrimiento y las cámaras se abren, siendo que a continuación se retiran las piezas 25 de trabajo recubiertas mediante una rueda .93 transportadora y se llevan hacia un riel 96 de transporte para la continuación de transporte. En las Fig. 5 y Fig. 6 se representan dos vistas de dos otros ejemplos de ejecución de instalaciones 90 de recubrimiento, donde unos dispositivos 63, 65 de bombeo inventivos son arrastrados por el dispositivo de transporte. El dispositivo de transporte comprende también en estos ejemplos de ejecución una máquina 91 rotativa con dispositivos 1 de recubrimiento dispuestos sobre ella. Los bloques 100 de válvulas están dispuestos cerca de los dispositivos 1 de recubrimiento. Los dispositivos 1 de recubrimiento están conectados, mediante los bloques 100 de válvulas con los dispositivos 63, 65, 67, 69 de bombeo, siendo que la conexión se realiza mediante los conductos 119 desde el bloque 100 de válvulas a un distribuidor 120 anular. Los dispositivos 63 y 65 de bombeo están dispuestos en la máquina 91 rotativa de modo que giran junto con esta, mientras que los demás dispositivos 67, 69 de bombeo están colocados de manera estacionaria. La conexión con los dispositivos 67, 69 estacionarios se realiza adicionalmente mediante un conducto 122 rotatorio. Los dos ejemplos de ejecución de las Fig. 5 y 6 se diferencian respecto la disposición de conducto rotatorio y dispositivos de bombeo. En la modalidad mostrada en Fig. 5 de una instalación de recubrimiento inventiva, los dispositivos 63 y 65 de bombeo, que acompañan el movimiento rotatorio, están dispuestos por encima de las estaciones 1 de recubrimiento y en la modalidad mostrada en Fig. 6 por debajo de las estaciones 1 de recubrimiento. El conducto 122 rotatorio está dispuesto en ubicación céntrica sobre el eje 124 de rotación en ambos ejemplos de ejecución, siendo que el conducto 122 rotatorio se encuentra en el ejemplo de ejecución mostrado en Fig. 5 por encima, y en el ejemplo de ejecución de la Fig. 6 por debajo del distribuidor 120 anular. Los dispositivos 67, 69 de bombeo estacionarios sirven en estos ejemplos de ejecución como etapa previa para los dispositivos de bombeo que acompañan el movimiento rotatorio, así como para áreas de presión mayores en la evacuación secuencial de las cámaras de' recubrimiento. Los individuales dispositivos de bombeo se conectan y desconectan en secuencia, mediante control de válvulas de los bloques 100 de válvulas, para la evacuación y expulsión de gas de proceso. En Fig. 7 se muestra, en vista de sección transversal, una modalidad de un bloque 100 de válvulas inventivo para el control del abastecimiento de las cámaras 15, 17 de recubrimiento de un dispositivo 1 de recubrimiento, respectivamente de una instalación de recubrimiento con semejantes dispositivos 1 de recubrimiento. Los casquillos del dispositivo 1 de recubrimiento no se muestran aquí, para mayor claridad. También las válvulas del bloque de válvula se muestran solamente esquemáticamente. La modalidad aquí ilustrada es particularmente ventajosa para el abastecimiento de dos cámaras 15, 17 de plasma o recubrimiento con configuración simétrica - en lo posible - de los respectivos canales de suministro respectivamente canales de abastecimiento. En una región del bloque 100 de válvulas orientada hacia las cámaras de recubrimiento, la válvula 73, la válvula 61 de ventilación de pieza de trabajo, así como la válvula 77 de ventilación de cámara están dispuestas esencialmente en el mismo plano vertical. Por debajo de este plano y en dirección vertical, una abajo de la otra, se encuentran, dispuestas la válvula 66 de vacío primario, la válvula 64 de vacío secundaria, así como la válvula 62 de vacío de proceso. El bloque 100 de válvula representado en Fig. 7 está previsto para el abastecimiento de un dispositivo 1 de recubrimiento con elemento 33 de base y elemento de casquillo móvil, así como dos cámaras 15, 17 de recubrimiento y tal como se muestra a guisa de ejemplo en Fig. 1A. Un bloque 100 de válvula ' configurado correspondientemente, que está dispuesto en el dispositivo de transporte de una instalación 90 de recubrimiento, puede usarse, sin embargo, también para dispositivos de recubrimiento de otro tipo que son transportados con el dispositivo de transporte . En forma general, un dispositivo de recubrimiento conveniente tiene para esto un reactor que comprende al menos dos elementos de cámara, de los cuales el menos un elemento de cámara es móvil, siendo que, en posición unida de los elemento, se forma al menos una cámara de recubrimiento sellada entre los elementos de cámara . El dispositivo 1 de recubrimiento no completamente ilustrado está unido mediante el bloque 100 de válvulas con al menos dos conductos de alimentación para abastecer las cámaras 15, 17 de recubrimiento con vacío y gas de proceso . · ' A diferencia de lo representado en las Fig. 1A, IB y 2 , los canales 37 y 38 de abastecimiento para el interior de los dos puestos de recubrimiento no desembocan en un canal 35 de abastecimiento compartido para los interiores 22, 24 de las piezas de trabajo. Más bien, aquí los canales 37, 39 de abastecimiento están conectados mediante ramificaciones 110 - 115 en el bloque 100 de válvulas con las válvulas 62, 64, 66, mismas que a su vez están conectadas mediante conductos no mostrados con dispositivos 63, 65, 67 de bombeo. En el bloque 100 de válvula representado en Pig. 7, los canales 37 y 39 de las cámaras están asociados además respectivamente con válvulas 62, 64, 66 compartidas, de forma que ambas cámaras 15, 17 de recubrimiento son abastecidas juntamente a través de estas válvulas. De igual forma, también las válvulas para el suministro con gas de proceso y para la ventilación pueden estar asociadas respectivamente con ambas cámaras. De esta manera es posible realizar al menos una de las etapas de evacuación de los alrededores de un área por recubrir de las piezas de trabajo en las cámaras 15, 17 de recubrimiento o de abastecimiento con gas de proceso para las cámaras 15, 17 de recubrimiento a través de válvulas 62, 64, 66 compartidas del bloque 100 de válvulas . Los canales 37, 39 de abastecimiento y las ramificaciones 110 - 115 están dispuestos, además, en forma simétrica respecto a las válvulas 62, 64, 66. De esta manera se logran valores de conducción de los canales de abastecimiento idénticos para las dos cámaras 15, 17 de recubrimiento, así que se evitan en buena medida diferencias de presión entre ambas cámaras 15, 17. En la modalidad de la invención representada en Fig. 7, las piezas 25, 27 de trabajo en forma de cuerpo hueco son sujetadas además por elementos 54 de sujeción y unos sellos 51, 53 se aprisionan, para la obturación de los interiores 22, 24, mediante émbolos contra las boquillas de las piezas 25, 27 de trabajo. Debido a la representación seccionada, no se ven todas las válvulas del bloque de válvulas en Fig. 7.
Fig. 8 muestra, como complemento de lo anterior, una sección a lo largo de la línea de sección A-A en Fig. 7 perpendicular respecto al plano de sección representado en Fig. 7. Los elementos 54 de sujeción no se muestran con motivo de mayor simplicidad. Mediante Fig. 8 puede apreciarse la válvula 73 que está conectada con el canal 39 de abastecimiento mediante un conducto 75 de paso. La válvula 73 conecta el conducto 75 de paso con el canal 43 de abastecimiento. Se aprecia además un elemento 102 de accionamiento o ajuste de válvula, que acciona la válvula 73 y la controla de esta manera. Según üna modalidad de la invención, el elemento de accionamiento está conformado como accionamiento neumático. Los accionamientos neumáticos de varias válvulas pueden, en esto, controlarse mediante un distribuidor neumático no mostrado. Al abrir la válvula 73 se pueden, al abrir simultáneamente una de las válvulas 62, 64, 66, evacuarse también los alrededores de las piezas 25, 27 de trabajo en las cámaras de recubrimiento. Fig. 9 muestra una sección a lo largo de la línea de sección B-B en Fig. 7, perpendicular respecto al plano de sección representado en Fig. 7. Las cámaras de recubrimiento se conectan mediante el bloque 100 de válvulas con conductos 119 de suministro, mediante el cual se produce el suministro de vacío y gas de proceso para las cámaras de recubrimiento. Los conductos 119 de suministro están conectados mediante unos manguitos 117 de empalme con el bloque 100 de válvula y con unas abrazaderas 104 de manguera. Como conductos 119 de suministro se están previendo, según este ejemplo de ejecución, conductos de conexión en forma de mangueras flexibles. Posible es también un uso de tubería de conexión como conductos 119 de suministro. Lista de símbolos de referencia 1 Dispositivo de recubrimiento 2 Dispositivo para introducir energía electromagnética 3, 5 cabezas de microondas 6, 8 aberturas en el elemento de casquillo 1, 9 conductores de introducción, conductores coaxiales 11, 13 ventana dieléctrica 12, 14 puestos de recubrimiento 15, 17 cámaras de recubrimiento 18 reactor 1 elemento de casquillo 21, 23, 29, 31, 47, 49, 51, 53 sellos 22, 24, interior de piezas de trabajo en forma de cuerpo hueco 25 , 27 piezas de trabajo 26 boquillas de 25, 27 33 elemento de base 35, 37, 39, 41, 43, 45, 46 canales de abastec
54 elemento de sujeción 55, 57 lanza de gas 60, 61, 62, 64, 66, 73, 74, 77 válvula
63, 65, 67, 69 dispositivos de bombeo
71, 91 collar de obturación 75 conducto de paso 78. soporte para lanzas de gas 80 , 82 levas mecánicas 81, , 82 brazo guía 84 - 89 rodillos de leva 90 instalación de recubrimiento 92, 93 rueda distribuidora 94, 96 riel de transporte 100 bloque de válvulas 102 elemento de accionamiento de válvula
103 dispositivo de distribución neumático
104 abrazadera de manguera 110 - 115 ramificación 117 manguito de empalme 119 conductos de suministro 120 distribuidor anular 122 conducto rotatorio 124 eje rotatorio 125 brida de obturación 127, 129 elementos de 125 130 socavado 131 abertura de introducción