JP6374973B2 - Aldコーティングによる中空ボディ内面の保護 - Google Patents
Aldコーティングによる中空ボディ内面の保護 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6374973B2 JP6374973B2 JP2016549485A JP2016549485A JP6374973B2 JP 6374973 B2 JP6374973 B2 JP 6374973B2 JP 2016549485 A JP2016549485 A JP 2016549485A JP 2016549485 A JP2016549485 A JP 2016549485A JP 6374973 B2 JP6374973 B2 JP 6374973B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hollow body
- opening
- intake
- port assembly
- exhaust manifold
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C16/045—Coating cavities or hollow spaces, e.g. interior of tubes; Infiltration of porous substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/4401—Means for minimising impurities, e.g. dust, moisture or residual gas, in the reaction chamber
- C23C16/4408—Means for minimising impurities, e.g. dust, moisture or residual gas, in the reaction chamber by purging residual gases from the reaction chamber or gas lines
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/4412—Details relating to the exhausts, e.g. pumps, filters, scrubbers, particle traps
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45523—Pulsed gas flow or change of composition over time
- C23C16/45525—Atomic layer deposition [ALD]
- C23C16/45544—Atomic layer deposition [ALD] characterized by the apparatus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45523—Pulsed gas flow or change of composition over time
- C23C16/45525—Atomic layer deposition [ALD]
- C23C16/45555—Atomic layer deposition [ALD] applied in non-semiconductor technology
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
本願の中空のボディは、その内面に保護被膜を要する如何なる中空のボディであってもよい。ただし本願の中空のボディは、ガスコンテナを除く。本願の中空のボディの例には、オーブン、破砕機、バイブレーター、バルブ、熱交換器、燃料電池、液体及び混合物コンテナなどがある。更なる例には、取り入れと排出とが同じポートを介して行われる、閉じた処理装置が含まれる。
前記中空のボディ(または装置)が、前記開口部以外に別の開口部を有する場合、実施形態によっては、この別の開口部を適切なカバーで覆うか、または当該別の開口部を閉じてしまうことを含む。
マニホールドの入口と出口が、同じポートアセンブリから出るような場合、つまり、前記中空のボディの同じ開口部から出るようにされている場合、実施形態によっては、前記ポートアセンブリは、一体化されたポートアセンブリとして構成されてもよい。
実施形態によっては、前記放出ポイントは、前記中空のボディの端部のうち前記開口部が設けられている端部とは反対側の端部に設けられる。そして前記排気ポイントは、その反対側の端部(すなわち前記開口部がある端部)に設けられる。実施形態によっては、前記放出ポイントは、前記中空のボディの端部のうち前記開口部が存在する端部に設けられる。そして前記排気ポイントは、その反対側の端部(すなわち前記開口部がある端部とは反対側の端部)に設けられる。前記中空のボディに頂部及び底部が存在するような実施形態のあるものにおいて、前記放出ポイントは底部に存在し、前記排気ポイントは頂部に存在してもよい。前記中空のボディに頂部及び底部が存在するような実施形態のあるものにおいて、前記放出ポイントは頂部に存在し、前記排気ポイントは底部に存在してもよい。
さらに別の実施形態では、ガスの入口及び出口を同じ開口部に設けるのではなく、前記中空のボディの第1の開口部にガスの入口を設け、必要があれば、前記中空のボディの第2の開口部にガスの出口を設けることとしてもよい。
用途に応じて適用可能な被膜は、例えば、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化タンタル、炭化タングステンなどの金属酸化物、およびそれらの組み合わせを含むが、被膜はこれらの材料に限定されない。
実施形態によって、封止部はテーパ状である場合もない場合もあり、またねじ状である場合もない場合もある。実施形態によっては、封止部は、ねじ山が形成されていないテーパ状を呈する場合もあり、または、ねじ状ではあるがテーパ状ではない場合もある。
Claims (15)
- 中空のボディの内面を保護する方法であって、
前記中空のボディの開口部に取り付け可能なポートアセンブリを備える吸排気マニホールドを設けることと;
反応ガスを、前記ポートアセンブリおよび前記開口部を介して前記中空のボディの前記内面へと順次供給することで、前記中空のボディの前記内面を順次自己飽和表面反応に暴露することと;
不要なガスを、前記開口部および前記ポートアセンブリを介して前記中空のボディから除去することと;
を含むと共に、
不活性パージガスを、前記中空のボディと周囲の室の壁との間の中間空間へと導くことと;
前記不活性パージガスを前記中間空間からポンプによって送り出すことと;
を更に含む、方法。 - 前記中空のボディの前記開口部に前記ポートアセンブリを取り付けることをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記吸排気マニホールドの排気側に取り付けられた真空ポンプによって、反応残渣およびパージガスを前記中空のボディの前記内面から送り出すことをさらに含む、請求項1または2に記載の方法。
- 前記中空のボディ内のガス放出ポイントは、ガス排気ポイントとは異なるレベルに配置される、請求項1から3のいずれかに記載の方法。
- 前記中空のボディは、前記ポートアセンブリに含まれる封止部によって封止される反応容器として用いられる、請求項1から4のいずれかに記載の方法。
- 前記封止部は、前記中空のボディの前記開口部に着脱可能なテーパねじを有する、請求項5に記載の方法。
- 前記ポートアセンブリは取付部を備え、該取付部は前記封止部に取り付け可能であり、前記封止部を回して前記中空のボディの前記開口部に締め込むことができる、請求項5または6に記載の方法。
- 前記吸排気マニホールドは1つ以上の供給管路を備え、各供給管路の制御要素は、コンピュータに実装された制御システムによって制御される、請求項1から7のいずれかに記載の方法。
- 中空のボディの内面を保護する装置であって、
前記中空のボディの開口部に取り付け可能なポートアセンブリを備える吸排気マニホールドであって、前記装置は、反応ガスを、前記ポートアセンブリおよび前記開口部を介して前記中空のボディの前記内面へと順次供給することで、前記中空のボディの前記内面を順次自己飽和表面反応に暴露するように構成される、吸排気マニホールドと、
不要なガスを、前記開口部および前記ポートアセンブリを介して前記中空のボディから除去するように構成されるポンプと、
を備えると共に、
前記中空のボディを取り囲む室と、前記中空のボディと周囲の室の壁との間の中間空間へと不活性パージガスを導くように構成される不活性ガス供給管路とを備える、
装置。 - 前記吸排気マニホールドによって設けられるガス放出ポイントは、前記吸排気マニホールドによって設けられるガス排気ポイントとは異なるレベルに配置される、請求項9に記載の装置。
- 前記吸排気マニホールドは、前駆体蒸気およびパージガスの供給管路と、それらの制御要素とを備える、請求項9または10に記載の装置。
- 前記吸排気マニホールドは中空のボディ固有のポートアセンブリを備え、該ポートアセンブリは、前記吸排気マニホールドを前記中空のボディの前記開口部に取り付けるように構成され、それによって前記吸排気マニホールドと前記中空のボディの前記内面との間に流体連通経路を形成する、請求項9から11のいずれかに記載の装置。
- 前記ポートアセンブリは、前記中空のボディの前記開口部に取り付け可能な封止部を備える、請求項9から12のいずれかに記載の装置。
- 前記封止部はテーパねじを有する、請求項13に記載の装置。
- 移動型である、請求項9から14のいずれかに記載の装置。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/FI2014/050153 WO2015132444A1 (en) | 2014-03-03 | 2014-03-03 | Protecting an interior of a hollow body with an ald coating |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018136300A Division JP6595671B2 (ja) | 2018-07-20 | 2018-07-20 | Aldコーティングによる中空ボディ内面の保護 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017507246A JP2017507246A (ja) | 2017-03-16 |
JP6374973B2 true JP6374973B2 (ja) | 2018-08-15 |
Family
ID=54054616
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016549485A Active JP6374973B2 (ja) | 2014-03-03 | 2014-03-03 | Aldコーティングによる中空ボディ内面の保護 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10329662B2 (ja) |
EP (1) | EP3114249B1 (ja) |
JP (1) | JP6374973B2 (ja) |
KR (1) | KR102286345B1 (ja) |
CN (1) | CN106062246B (ja) |
RU (1) | RU2016136052A (ja) |
SG (1) | SG11201606030UA (ja) |
TW (1) | TWI699450B (ja) |
WO (1) | WO2015132444A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015132443A1 (en) * | 2014-03-03 | 2015-09-11 | Picosun Oy | Protecting an interior of a gas container with an ald coating |
KR102086574B1 (ko) * | 2018-04-03 | 2020-03-09 | 전남대학교산학협력단 | 분말 입자를 코팅할 수 있는 증착장치 및 분말 입자의 코팅 방법 |
DE102019130303A1 (de) * | 2019-11-11 | 2021-05-12 | Khs Corpoplast Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Plasmabehandlung von Behältern |
TWI772913B (zh) * | 2020-10-06 | 2022-08-01 | 天虹科技股份有限公司 | 微粒的原子層沉積裝置 |
TWI750836B (zh) * | 2020-10-06 | 2021-12-21 | 天虹科技股份有限公司 | 可拆式粉末原子層沉積裝置 |
CN115821209A (zh) * | 2022-10-21 | 2023-03-21 | 航天材料及工艺研究所 | 发动机推力室身部内外表面高效制备难熔金属涂层的装置 |
Family Cites Families (33)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4859489A (en) | 1988-07-18 | 1989-08-22 | Vapor Technologies Inc. | Method of coating a metal gas-pressure bottle or tank |
WO1995022413A1 (en) | 1994-02-16 | 1995-08-24 | The Coca-Cola Company | Hollow containers with inert or impermeable inner surface through plasma-assisted surface reaction or on-surface polymerization |
US5741544A (en) | 1995-08-31 | 1998-04-21 | Olin Corporation | Articles using specialized vapor deposition processes |
US6112695A (en) * | 1996-10-08 | 2000-09-05 | Nano Scale Surface Systems, Inc. | Apparatus for plasma deposition of a thin film onto the interior surface of a container |
FI104383B (fi) * | 1997-12-09 | 2000-01-14 | Fortum Oil & Gas Oy | Menetelmä laitteistojen sisäpintojen päällystämiseksi |
JP4776054B2 (ja) | 2000-02-04 | 2011-09-21 | 株式会社デンソー | 原子層成長による薄膜形成方法 |
JP3993971B2 (ja) * | 2000-08-09 | 2007-10-17 | 北海製罐株式会社 | ガスバリア被覆層を有するプラスチック製容器及びその製法 |
BR0311232B1 (pt) * | 2002-05-24 | 2013-04-02 | aparelho de revestimento e processo para o revestimento de plasma de peÇas de trabalho. | |
JP3943516B2 (ja) | 2003-03-27 | 2007-07-11 | 松下電器産業株式会社 | 画像再生装置 |
JP4664658B2 (ja) * | 2004-12-02 | 2011-04-06 | 麒麟麦酒株式会社 | プラズマcvd成膜装置及びガスバリア性を有するプラスチック容器の製造方法 |
KR20060076714A (ko) * | 2004-12-28 | 2006-07-04 | 에이에스엠지니텍코리아 주식회사 | 원자층 증착기 |
JP4593357B2 (ja) * | 2005-05-18 | 2010-12-08 | 麒麟麦酒株式会社 | 口部着色が低減されたガスバリア性プラスチック容器の製造方法及びその容器 |
JP5028755B2 (ja) | 2005-06-23 | 2012-09-19 | 東京エレクトロン株式会社 | 半導体処理装置の表面処理方法 |
KR100915722B1 (ko) | 2005-06-23 | 2009-09-04 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 반도체 처리 장치용의 구성 부재 및 그 제조 방법, 및반도체 처리 장치 |
JP5040119B2 (ja) | 2006-02-22 | 2012-10-03 | 東京エレクトロン株式会社 | 耐環境部材、半導体製造装置及び耐環境部材の製造方法 |
WO2007024987A2 (en) * | 2005-08-22 | 2007-03-01 | Advanced Technology Materials, Inc. | Material containment system |
CN101506062A (zh) | 2005-11-28 | 2009-08-12 | 马西森三气公司 | 使用化学气相沉积形成的气体储存容器衬里 |
CN101370992A (zh) | 2005-11-28 | 2009-02-18 | Beneq有限公司 | 防止金属从铜及其合金中浸出的方法 |
JP2008266416A (ja) * | 2007-04-18 | 2008-11-06 | Ube Ind Ltd | ポリイミドフィルムの製造方法およびポリイミドフィルム |
CA2718253C (en) | 2008-03-12 | 2016-04-19 | Ricardo Enrique Biana | Plasma system |
US8741062B2 (en) * | 2008-04-22 | 2014-06-03 | Picosun Oy | Apparatus and methods for deposition reactors |
US10041169B2 (en) | 2008-05-27 | 2018-08-07 | Picosun Oy | System and method for loading a substrate holder carrying a batch of vertically placed substrates into an atomic layer deposition reactor |
JP4739376B2 (ja) * | 2008-07-14 | 2011-08-03 | 三菱重工食品包装機械株式会社 | バリア膜形成用内部電極及び成膜装置 |
JP2010242205A (ja) * | 2009-04-10 | 2010-10-28 | Toppan Printing Co Ltd | 成膜装置 |
WO2010132591A2 (en) | 2009-05-13 | 2010-11-18 | Cv Holdings, Llc | Pecvd coating using an organosilicon precursor |
US7985188B2 (en) * | 2009-05-13 | 2011-07-26 | Cv Holdings Llc | Vessel, coating, inspection and processing apparatus |
JP2012526922A (ja) | 2009-05-13 | 2012-11-01 | エスアイオーツー・メディカル・プロダクツ・インコーポレイテッド | 有機ケイ素前駆体を使用するpecvd被覆材 |
WO2011028535A2 (en) | 2009-08-24 | 2011-03-10 | Life Technologies Corporation | System for rapid high-resolution gel electrophoresis |
JP5346904B2 (ja) | 2009-11-27 | 2013-11-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 縦型成膜装置およびその使用方法 |
CN102452797B (zh) | 2010-10-19 | 2014-08-20 | 英作纳米科技(北京)有限公司 | 药用玻璃瓶内壁涂层的制备方法 |
JP5555930B2 (ja) | 2011-02-22 | 2014-07-23 | オールテック株式会社 | プラスチックボトル内面の処理方法及びプラスチックボトル内面の処理装置 |
US20130337171A1 (en) * | 2012-06-13 | 2013-12-19 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | N2 purged o-ring for chamber in chamber ald system |
CN202753490U (zh) * | 2012-08-27 | 2013-02-27 | 英作纳米科技(北京)有限公司 | 新型包装耗材容器 |
-
2014
- 2014-03-03 KR KR1020167023834A patent/KR102286345B1/ko active IP Right Grant
- 2014-03-03 SG SG11201606030UA patent/SG11201606030UA/en unknown
- 2014-03-03 WO PCT/FI2014/050153 patent/WO2015132444A1/en active Application Filing
- 2014-03-03 JP JP2016549485A patent/JP6374973B2/ja active Active
- 2014-03-03 EP EP14884857.5A patent/EP3114249B1/en active Active
- 2014-03-03 US US15/123,019 patent/US10329662B2/en active Active
- 2014-03-03 RU RU2016136052A patent/RU2016136052A/ru not_active Application Discontinuation
- 2014-03-03 CN CN201480076747.3A patent/CN106062246B/zh active Active
-
2015
- 2015-03-02 TW TW104106517A patent/TWI699450B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201546322A (zh) | 2015-12-16 |
KR102286345B1 (ko) | 2021-08-06 |
JP2017507246A (ja) | 2017-03-16 |
TWI699450B (zh) | 2020-07-21 |
CN106062246B (zh) | 2020-05-08 |
EP3114249B1 (en) | 2020-07-08 |
WO2015132444A1 (en) | 2015-09-11 |
EP3114249A1 (en) | 2017-01-11 |
US10329662B2 (en) | 2019-06-25 |
CN106062246A (zh) | 2016-10-26 |
KR20160125982A (ko) | 2016-11-01 |
US20170073807A1 (en) | 2017-03-16 |
SG11201606030UA (en) | 2016-08-30 |
RU2016136052A (ru) | 2018-04-03 |
EP3114249A4 (en) | 2017-03-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6302082B2 (ja) | Aldコーティングによるガスコンテナ内部の保護 | |
JP6374973B2 (ja) | Aldコーティングによる中空ボディ内面の保護 | |
KR102230543B1 (ko) | 기판 처리 장치, 인젝터, 및 기판 처리 방법 | |
US20230383404A1 (en) | Ald apparatus, method and valve | |
US20160076148A1 (en) | Protecting a target pump interior with an ALD coating | |
JP6582075B2 (ja) | Aldコーティングによるガスコンテナ内部の保護 | |
US20210087687A1 (en) | Uniform deposition | |
JP6595671B2 (ja) | Aldコーティングによる中空ボディ内面の保護 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170217 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170524 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20170524 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20171220 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180110 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180405 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180625 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180720 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6374973 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |