JP4664658B2 - プラズマcvd成膜装置及びガスバリア性を有するプラスチック容器の製造方法 - Google Patents
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Description
図1は本実施形態に係るプラズマCVD成膜装置の一形態を示す概略構成図である。図1において真空チャンバ6については容器の鉛直方向の断面概略図である。図1に示すように本実施形態に係るプラズマCVD成膜装置100は、プラスチック容器7の内部に挿脱可能に配置され、プラスチック容器7の内部ガスを排気する排気管9と、プラスチック容器7の内部へ原料ガスを供給する原料ガス供給手段30と、プラスチック容器7の内部に供給された原料ガスをプラズマ化させるプラズマ発生手段40と、を有している。ここで、プラズマ発生手段40は、少なくとも、プラスチック容器7の外側に配置された外部電極3と、外部電極3に高周波を供給する高周波供給電源12とを有している。このとき、排気管9が外部電極3の対向電極である内部電極を兼ねている。この成膜装置100は、プラスチック容器の内表面にガスバリア膜を成膜する成膜装置であり、ガスバリア性が高いプラスチック容器が得られる。
)、ヘキサメチルジシラン、ビニルトリメチルシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、メチルトリエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン等の有機シラン化合物、オクタメチルシクロテトラシロキサン、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン(HMDSO)等の有機シロキサン化合物等が使用される。また、これらの材料以外にも、アミノシラン、シラザンなども用いられる。
図5は本実施形態に係るプラズマCVD成膜装置の第2実施形態を示す概略構成図である。図5においても真空チャンバ60については容器の鉛直方向の断面概略図である。図5に示したプラズマCVD成膜装置500は、マイクロ波を印加することにより、プラスチック容器7内の原料ガスをプラズマ化する装置である。図1に示したプラズマCVD成膜装置100との差異を中心に説明する。
次に、図4を参照しながら本実施形態に係る高周波によるプラズマCVD成膜装置(第1実施形態)を用いてプラスチック容器7の内表面にDLC膜を形成する場合の手順について説明する。図4に示した成膜装置の場合を例として説明することとするが、図1〜図3に示した成膜装置についても、同様である。プラスチック容器7は丸型500mlのPETボトルとする。容器壁の肉厚は約0.3mmとする。
まず、ベント(不図示)を開いて真空チャンバ6内を大気開放する。上部外部電極1から下部外部電極2を離した後、上部外部電極1の下方からプラスチック容器7を挿入し、再び、上部外部電極1に下部外部電極2を密接させる。これにより、真空チャンバ6にプラスチック容器7が収容された状態となる。このとき、プラスチック容器7の開口部分7aに二重管24が挿入された状態となっている。
次いでベントを閉じたのち、排気ポンプ22を作動させ、真空バルブ21を開とすることにより、真空チャンバ6内の空気が二重管24のうち内側管である排気管9の先端の開口部9aを通して排気される。そして真空チャンバ6内が必要な圧力、例えば4Paに到達するまで減圧される。これは、4Paを超える真空度で良いとすると容器内に不純物が多くなり過ぎるためである。
その後、原料ガス発生源16からマスフローコントローラー15によって流量制御されて送られた原料ガス(例えば、アセチレンガス)が、二重管24の外側管である原料ガス供給管11の先端の吹き出し口11cからプラスチック容器7の内部に導入される。この原料ガスの供給量は、20〜200ml/minが好ましい。原料ガスの濃度が一定となり、制御されたガス流量と排気能力のバランスによって所定の成膜圧力、例えば7〜22Paで安定させる。
高周波供給電源12を動作させることによりマッチングボックス13を介してステンレスで作製された排気管9及び原料供給管11からなる二重管24と外部電極3との間に高周波電圧が印加され、プラスチック容器7内に原料ガス系プラズマが発生する。このとき、マッチングボックス13は、二重管24と外部電極3のインピーダンスに、インダクタンスL、キャパシタンスCによって合わせている。これによって、プラスチック容器7の内表面にDLC膜が形成される。なお、高周波供給電源12の出力(例えば13.56MHz)は、おおよそ200〜2000Wである。
高周波供給電源12からの高周波出力を停止し、さらに原料ガスの供給を停止する。この後、真空チャンバ6内のアセチレンガスを排気ポンプ22によって排気する。その後、真空バルブ21を閉じ、排気ポンプ22を停止する。この後、ベント(不図示)を開いて真空チャンバ6内を大気開放し、前述した成膜方法を繰り返すことにより、次のプラスチック容器内にDLC膜が成膜される。DLC膜の膜厚は、胴部において10〜80nmとなるように形成する。
2,下部外部電極
3,外部電極
4,絶縁部材
5,蓋体
6,60,真空チャンバ
7,プラスチック容器
7a,プラスチック容器の開口部分
7b,プラスチック容器の口部
8,O−リング
9,排気管
9a,排気管の開口部
11,原料ガス供給管
11a,外側管
11b,内側管
11c,吹き出し口
12,高周波供給電源
13,マッチングボックス
14,14a,14b,導電性メッシュ部材
15,マスフローコントローラー
16,原料ガス発生源
17,貫通孔
21,53,真空バルブ
22,54,排気ポンプ
23,排気系統
24,二重管
25,空間
30,原料ガス供給手段
40,プラズマ発生手段
51,下部チャンバ
52,石英管
55,58,管
56,マイクロ波供給電源
57,プランジャスクルリュー
59,調整プランジャ
100,200,300,400,500 プラズマCVD成膜装置
Claims (15)
- 真空チャンバの内部に収容したプラスチック容器の内表面にガスバリア膜を成膜するプラズマCVD成膜装置において、
前記プラスチック容器の内部に挿脱可能に配置され、該プラスチック容器の内部ガスを排気する排気管と、
前記プラスチック容器の内部へ原料ガスを供給する原料ガス供給手段と、
前記プラスチック容器の内部に供給された前記原料ガスをプラズマ化させるプラズマ発生手段と、
を有し、
前記原料ガスのプラズマ化に際して、前記プラスチック容器の開口部分側から容器底部側に向って原料ガスの流れを形成することを特徴とするプラズマCVD成膜装置。 - 前記原料ガス供給手段は、前記プラスチック容器の開口部分の上方に、真空チャンバの内壁によって形成される原料ガス供給経路を備えるか、又は、前記プラスチック容器の開口部分の上方まで伸び且つ前記プラスチック容器の内部には挿入されずに配置された原料ガス供給管を備えることを特徴とする請求項1に記載のプラズマCVD成膜装置。
- 前記原料ガス供給手段は、前記プラスチック容器の内部に挿脱可能に配置された原料ガス供給管を備え、さらに該原料ガス供給管と前記排気管とは、該原料ガス供給管を外側管とし且つ該排気管を内側管とした二重管を形成していることを特徴とする請求項1に記載のプラズマCVD成膜装置。
- 前記プラズマ発生手段が、少なくとも、前記プラスチック容器の外側に配置された外部電極と、該外部電極に高周波を供給する高周波供給電源とを有し、且つ、前記排気管が内部電極を兼ねることを特徴とする請求項1、2又は3記載のプラズマCVD成膜装置。
- 前記プラスチック容器の口部の外周を取り囲んだ絶縁部材を有することを特徴とする請求項4記載のプラズマCVD成膜装置。
- 前記プラズマ発生手段は、少なくとも、前記プラスチック容器を収容するチャンバと、該チャンバの内部にマイクロ波を供給するマイクロ波供給電源と、を有することを特徴とする請求項1、2又は3記載のプラズマCVD成膜装置。
- 前記原料ガス供給手段の原料ガス供給経路のうち、前記プラスチック容器の開口部分の上方、前記原料ガス供給管の内部、又は、前記外側管と前記内側管とで挟まれた空間、のいずれかに配置した導電性メッシュ部材を有することを特徴とする請求項1、2、3、4、5又は6記載のプラズマCVD成膜装置。
- 前記排気管の内部に配置した導電性メッシュ部材を有することを特徴とする請求項1、2、3、4、5、6又は7記載のプラズマCVD成膜装置。
- 前記原料ガス供給管又は前記外側管の前記プラスチック容器の内部への挿入長さを調整する可変手段を設けたことを特徴とする請求項2又は3記載のプラズマCVD成膜装置。
- プラズマCVD法によりプラスチック容器の内表面にガスバリア膜を成膜してガスバリア性を有するプラスチック容器を得る製造方法において、
前記プラスチック容器の内部に挿入した排気管により前記プラスチック容器の内部ガスを排気し且つ前記プラスチック容器の開口部分から内部へ原料ガスを供給して、前記プラスチック容器の開口部分側から容器底部側に向って原料ガスの流れを形成している状態とし、前記プラスチック容器の内部の前記原料ガスをプラズマ化させて前記ガスバリア膜を成膜することを特徴とするガスバリア性を有するプラスチック容器の製造方法。 - 高周波又はマイクロ波によって前記原料ガスをプラズマ化させることを特徴とする請求項10記載のガスバリア性を有するプラスチック容器の製造方法。
- 前記プラスチック容器の口部の外周を絶縁部材で取り囲んだ状態としたのち、高周波によって前記原料ガスをプラズマ化させ、前記口部への前記ガスバリア膜の成膜を低減させることを特徴とする請求項10記載のガスバリア性を有するプラスチック容器の製造方法。
- 前記原料ガスの供給経路のいずれかの箇所に導電性メッシュ部材を配置したのち、前記原料ガスをプラズマ化させ、前記供給経路のうち前記導電性メッシュ部材よりも上流側へのプラズマ漏洩を低減させることを特徴とする請求項10、11又は12記載のガスバリア性を有するプラスチック容器の製造方法。
- 前記プラスチック容器の内部への前記原料ガスの供給は、前記プラスチック容器の内部に挿入した原料ガス供給管によって行ない、前記原料ガスをプラズマ化させているときに前記原料ガス供給管が挿入される長さをゼロから前記プラスチック容器の高さに相当する長さの間で変化させ、前記ガスバリア膜の膜厚分布を調整することを特徴とする請求項10、11、12又は13記載のガスバリア性を有するプラスチック容器の製造方法。
- 前記ガスバリア膜としてSiOx膜又は炭素含有膜を成膜することを特徴とする請求項10、11、12、13又は14記載のガスバリア性を有するプラスチック容器の製造方法。
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