JP2000079944A - プラスチック容器およびその製造方法 - Google Patents
プラスチック容器およびその製造方法Info
- Publication number
- JP2000079944A JP2000079944A JP4861599A JP4861599A JP2000079944A JP 2000079944 A JP2000079944 A JP 2000079944A JP 4861599 A JP4861599 A JP 4861599A JP 4861599 A JP4861599 A JP 4861599A JP 2000079944 A JP2000079944 A JP 2000079944A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- barrier layer
- plastic container
- container
- oxygen
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Details Of Rigid Or Semi-Rigid Containers (AREA)
- Containers Having Bodies Formed In One Piece (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】バリアー性、透明性、対衝撃性、フレキシビリ
ティーに優れたガスバリアー性プラスチック容器とその
製造方法を提供することを目的とする。 【解決手段】容器の内面のみにバリアー層を有し、該バ
リアー層は珪素酸化物と、炭素、水素、珪素及び酸素の
中から少なくとも１種あるいは２種以上の元素からなる
化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とするプ
ラスチック容器を提供する。
ティーに優れたガスバリアー性プラスチック容器とその
製造方法を提供することを目的とする。 【解決手段】容器の内面のみにバリアー層を有し、該バ
リアー層は珪素酸化物と、炭素、水素、珪素及び酸素の
中から少なくとも１種あるいは２種以上の元素からなる
化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とするプ
ラスチック容器を提供する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はガスバリアー膜を設
けたプラスチック容器とその製造方法に係わり、ガスバ
リアー性、透明性、対衝撃性に優れたガスバリアー性プ
ラスチック容器とその製造方法に関する。
けたプラスチック容器とその製造方法に係わり、ガスバ
リアー性、透明性、対衝撃性に優れたガスバリアー性プ
ラスチック容器とその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、プラスチック容器は、その成形
の容易性や軽量性、さらには低コストである点等の種々
の特性から、食品分野や医薬品分野等の様々な分野にお
いて、包装容器として広く使用されている。
の容易性や軽量性、さらには低コストである点等の種々
の特性から、食品分野や医薬品分野等の様々な分野にお
いて、包装容器として広く使用されている。
【０００３】しかしながら、プラスチックは、よく知ら
れているように、酸素や二酸化炭素、水蒸気のような低
分子ガスを透過する性質を有し、さらに低分子有機化合
物が内部に吸着してしまうという性質を有しているた
め、プラスチック容器はガラス等の他の容器に比べて、
その使用対象や使用形態が様々な制約を受ける。
れているように、酸素や二酸化炭素、水蒸気のような低
分子ガスを透過する性質を有し、さらに低分子有機化合
物が内部に吸着してしまうという性質を有しているた
め、プラスチック容器はガラス等の他の容器に比べて、
その使用対象や使用形態が様々な制約を受ける。
【０００４】ここでいう吸着とは、プラスチックの組成
中に低分子有機化合物が浸透し拡散してプラスチック中
に吸収されている現象をいう。たとえば、ビール等の炭
酸飲料をプラスチック容器に充填した場合、プラスチッ
クを透過して容器の内部に浸透する酸素によって、内容
物である飲料が経時的に酸化を起こして劣化してしまっ
たり、また、炭酸飲料の炭酸ガスがプラスチックを透過
し容器の外部に放出されてしまうため、炭酸飲料が気の
抜けた飲料になってしまう。
中に低分子有機化合物が浸透し拡散してプラスチック中
に吸収されている現象をいう。たとえば、ビール等の炭
酸飲料をプラスチック容器に充填した場合、プラスチッ
クを透過して容器の内部に浸透する酸素によって、内容
物である飲料が経時的に酸化を起こして劣化してしまっ
たり、また、炭酸飲料の炭酸ガスがプラスチックを透過
し容器の外部に放出されてしまうため、炭酸飲料が気の
抜けた飲料になってしまう。
【０００５】また、オレンジジュース等の香気成分を有
する飲料をプラスチック容器に充填した場合、飲料に含
まれる低分子有機化合物である香気成分（たとえばオレ
ンジジュースのリモネン等）がプラスチックに吸着され
るため、飲料の香気成分の組成がバランスを崩して、飲
料の品質が劣化してしまうおそれがある。
する飲料をプラスチック容器に充填した場合、飲料に含
まれる低分子有機化合物である香気成分（たとえばオレ
ンジジュースのリモネン等）がプラスチックに吸着され
るため、飲料の香気成分の組成がバランスを崩して、飲
料の品質が劣化してしまうおそれがある。
【０００６】さらに、インスタントコーヒー等の粉末を
プラスチック容器中で保存する際にも、プラスチックを
透過して容器内部に浸透した水蒸気により、内容物の品
質が劣化してしまうおそれがある。
プラスチック容器中で保存する際にも、プラスチックを
透過して容器内部に浸透した水蒸気により、内容物の品
質が劣化してしまうおそれがある。
【０００７】また、プラスチック容器については、その
組成中に含まれる低分子化合物の溶質が問題になる場合
がある。すなわち、プラスチック容器に純度が要求され
る内容物（特に液体）を充填した場合、プラスチック組
成中に含まれている可塑剤や残留モノマー、その他添加
剤が内容物中に溶出し、内容物の純度を損なったりする
可能性がある。
組成中に含まれる低分子化合物の溶質が問題になる場合
がある。すなわち、プラスチック容器に純度が要求され
る内容物（特に液体）を充填した場合、プラスチック組
成中に含まれている可塑剤や残留モノマー、その他添加
剤が内容物中に溶出し、内容物の純度を損なったりする
可能性がある。
【０００８】一方、使用済み容器の回収が、現在、社会
問題化しており資源のリサイクル化が進められている
が、プラスチック容器を再充填容器として使用しようと
しても、ガラス容器の場合と異なり、使用後、回収まで
環境中に放置されていると、その間にカビ臭など種々の
低分子有機化合物がプラスチック容器に吸着する。この
吸着した低分子有機化合物は、洗浄後もプラスチック中
に残存する。このためプラスチック容器を再充填容器と
して使用した場合、吸着した低分子有機化合物が異成分
として充填された内容物中に徐々に溶けだしてしまい、
内容物の品質低下や衛生上の問題が生じる。このため、
プラスチック容器は、リターナブル容器として使用され
ている例はほとんどない。
問題化しており資源のリサイクル化が進められている
が、プラスチック容器を再充填容器として使用しようと
しても、ガラス容器の場合と異なり、使用後、回収まで
環境中に放置されていると、その間にカビ臭など種々の
低分子有機化合物がプラスチック容器に吸着する。この
吸着した低分子有機化合物は、洗浄後もプラスチック中
に残存する。このためプラスチック容器を再充填容器と
して使用した場合、吸着した低分子有機化合物が異成分
として充填された内容物中に徐々に溶けだしてしまい、
内容物の品質低下や衛生上の問題が生じる。このため、
プラスチック容器は、リターナブル容器として使用され
ている例はほとんどない。
【０００９】上記のようなプラスチック容器の低分子ガ
スを透過する性質や低分子有機化合物が内部に吸着して
しまうという性質を抑制するために、プラスチックを配
向させ結晶化度を向上させたり、より吸着性の低いプラ
スチックやアルミの薄膜等を積層する方法も使用されて
いるが、いずれもプラスチック容器の特質を維持したま
まで、ガスバリアー性や吸着の問題を完全に解決するこ
とができていない。
スを透過する性質や低分子有機化合物が内部に吸着して
しまうという性質を抑制するために、プラスチックを配
向させ結晶化度を向上させたり、より吸着性の低いプラ
スチックやアルミの薄膜等を積層する方法も使用されて
いるが、いずれもプラスチック容器の特質を維持したま
まで、ガスバリアー性や吸着の問題を完全に解決するこ
とができていない。
【００１０】ここで、近年プラスチック容器にプラズマ
ＣＶＤ法を用いてコーティングを行う技術が知られてき
ているが、ボトルの外面に成膜する方法では容器内面に
吸着する低分子有機化合物の問題に対して効力がないた
め、特にボトルの内面に成膜する必要がある。
ＣＶＤ法を用いてコーティングを行う技術が知られてき
ているが、ボトルの外面に成膜する方法では容器内面に
吸着する低分子有機化合物の問題に対して効力がないた
め、特にボトルの内面に成膜する必要がある。
【００１１】ボトル内面へのプラズマＣＶＤ法でのコー
ティング例としてＤＬＣ膜によるものが報告されている
（特開平８−５３１１７号公報）。このＤＬＣ膜は、炭
素間のＳＰ３ 、ＳＰ２ 結合を主体としたアモルファス
な炭素で、非常に硬く、高屈折率で非常になめらかなモ
ルフォロジを有する硬質炭素膜である。
ティング例としてＤＬＣ膜によるものが報告されている
（特開平８−５３１１７号公報）。このＤＬＣ膜は、炭
素間のＳＰ３ 、ＳＰ２ 結合を主体としたアモルファス
な炭素で、非常に硬く、高屈折率で非常になめらかなモ
ルフォロジを有する硬質炭素膜である。
【００１２】さらにプラスチック容器の内面コーティン
グ例として珪素酸化物膜によるものも報告されている。
（特開平８−１７５５２８号公報）この例では有機重合
膜と珪素酸化物膜の２層構造にすることも述べられてい
る。
グ例として珪素酸化物膜によるものも報告されている。
（特開平８−１７５５２８号公報）この例では有機重合
膜と珪素酸化物膜の２層構造にすることも述べられてい
る。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、ＤＬＣ膜は茶
色味を帯びており、無色透明にすることはできない。淡
色の飲料等の食品を充填する場合、容器自身は無色透明
である方が好ましい。
色味を帯びており、無色透明にすることはできない。淡
色の飲料等の食品を充填する場合、容器自身は無色透明
である方が好ましい。
【００１４】また、完全な珪素酸化物をコーティングし
てしまうと膜自身にフレキシビリティーがないため容器
の変形等により珪素酸化物膜が割れ、バリアー性が低下
することが考えられる。
てしまうと膜自身にフレキシビリティーがないため容器
の変形等により珪素酸化物膜が割れ、バリアー性が低下
することが考えられる。
【００１５】さらに、食品用の充填容器は工場内の製造
工程において、または、販売ルートにおいて充填容器同
士がぶつかったり擦れあったりする機会が多い。このた
め、食品用の充填容器外面にコーティングを行った場
合、薄く硬いものでは膜自体が損傷して、商品価値を損
なうことが考えられる。従って、食品用の充填容器につ
いては、容易の内壁面のみにコーティングを行うか、容
器の外壁面に行う場合は特にフレキシビリティーのある
膜を形成することが要求される。
工程において、または、販売ルートにおいて充填容器同
士がぶつかったり擦れあったりする機会が多い。このた
め、食品用の充填容器外面にコーティングを行った場
合、薄く硬いものでは膜自体が損傷して、商品価値を損
なうことが考えられる。従って、食品用の充填容器につ
いては、容易の内壁面のみにコーティングを行うか、容
器の外壁面に行う場合は特にフレキシビリティーのある
膜を形成することが要求される。
【００１６】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであり、バリアー性、透明性、対衝撃性、フレキ
シビリティーに優れたガスバリアー性プラスチック容器
とその製造方法を提供することを目的とする。
たものであり、バリアー性、透明性、対衝撃性、フレキ
シビリティーに優れたガスバリアー性プラスチック容器
とその製造方法を提供することを目的とする。
【００１７】特に請求項１２、１３に関しては、プラズ
マＣＶＤ法では原料を大量に供給し、大量に排気する事
が求められるが、排気系を強化するには多くのコストが
必要となる。
マＣＶＤ法では原料を大量に供給し、大量に排気する事
が求められるが、排気系を強化するには多くのコストが
必要となる。
【００１８】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明のガスバリアー性プラスチック容器
は、請求項１の発明においては、容器の内面のみにバリ
アー層を有し、該バリアー層は珪素酸化物と、炭素、水
素、珪素及び酸素の中から少なくとも１種あるいは２種
以上の元素からなる化合物を少なくとも１種類含有する
ことを特徴とするプラスチック容器を提供する。
るために、本発明のガスバリアー性プラスチック容器
は、請求項１の発明においては、容器の内面のみにバリ
アー層を有し、該バリアー層は珪素酸化物と、炭素、水
素、珪素及び酸素の中から少なくとも１種あるいは２種
以上の元素からなる化合物を少なくとも１種類含有する
ことを特徴とするプラスチック容器を提供する。
【００１９】請求項２の発明においては、容器内外面に
バリアー層を有し、該バリアー層は珪素酸化物と、炭
素、水素、珪素及び酸素の中から少なくとも１種あるい
は２種以上の元素からなる化合物を少なくとも１種類含
有することを特徴とするプラスチック容器を提供する。
バリアー層を有し、該バリアー層は珪素酸化物と、炭
素、水素、珪素及び酸素の中から少なくとも１種あるい
は２種以上の元素からなる化合物を少なくとも１種類含
有することを特徴とするプラスチック容器を提供する。
【００２０】請求項３の発明においては、容器内面のバ
リアー層中の前記化合物の濃度が、基材界面からバリア
ー層表面への深さ方向に対して、連続、非連続的に変化
することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のプ
ラスチック容器を提供する。
リアー層中の前記化合物の濃度が、基材界面からバリア
ー層表面への深さ方向に対して、連続、非連続的に変化
することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のプ
ラスチック容器を提供する。
【００２１】請求項４の発明においては、容器外面のバ
リアー層中の前記化合物の濃度が、基材界面からバリア
ー層表面への深さ方向に対して、連続、非連続的に変化
することを特徴とする請求項２又は請求項３に記載のプ
ラスチック容器を提供する。
リアー層中の前記化合物の濃度が、基材界面からバリア
ー層表面への深さ方向に対して、連続、非連続的に変化
することを特徴とする請求項２又は請求項３に記載のプ
ラスチック容器を提供する。
【００２２】請求項５の発明においては、容器内面のバ
リアー層中にて、基材界面においてこの化合物濃度が低
く、バリアー層表面においてこの化合物濃度が高い事を
特徴とする請求項１又は請求項２、請求項３に記載のプ
ラスチック容器を提供する。
リアー層中にて、基材界面においてこの化合物濃度が低
く、バリアー層表面においてこの化合物濃度が高い事を
特徴とする請求項１又は請求項２、請求項３に記載のプ
ラスチック容器を提供する。
【００２３】請求項６の発明においては、容器外面のバ
リアー層中にて、基材界面においてこの化合物濃度が低
く、バリアー層表面においてこの化合物濃度が高い事を
特徴とする請求項２又は請求項３、請求項４、請求項５
に記載のプラスチック容器を提供する。
リアー層中にて、基材界面においてこの化合物濃度が低
く、バリアー層表面においてこの化合物濃度が高い事を
特徴とする請求項２又は請求項３、請求項４、請求項５
に記載のプラスチック容器を提供する。
【００２４】請求項７の発明においては、容器内面のバ
リアー層中にて、バリアー層内部においてこの化合物濃
度が高く、バリアー層表面及び基材との界面においてこ
の化合物濃度が低いを特徴とする請求項１又は請求項
２、請求項３に記載のプラスチック容器を提供する。
リアー層中にて、バリアー層内部においてこの化合物濃
度が高く、バリアー層表面及び基材との界面においてこ
の化合物濃度が低いを特徴とする請求項１又は請求項
２、請求項３に記載のプラスチック容器を提供する。
【００２５】請求項８の発明においては、容器外面のバ
リアー層中にて、バリアー層内部においてこの化合物濃
度が高く、バリアー層表面及び基材との界面においてこ
の化合物濃度が低いを特徴とする請求項２又は請求項
３、請求項４、請求項５に記載のプラスチック容器を提
供する。
リアー層中にて、バリアー層内部においてこの化合物濃
度が高く、バリアー層表面及び基材との界面においてこ
の化合物濃度が低いを特徴とする請求項２又は請求項
３、請求項４、請求項５に記載のプラスチック容器を提
供する。
【００２６】請求項９の発明においては、少なくとも有
機珪素化合物の蒸気と酸素もしくは酸化力を有するガス
を用い、プラズマＣＶＤ法により基材上に珪素酸化物
と、炭素、水素、珪素及び酸素の中から少なくとも１種
あるいは２種以上の元素からなる化合物を少なくとも１
種類含有するバリアー層を内面のみに形成することを特
徴とするプラスチック容器の製造方法を提供する。
機珪素化合物の蒸気と酸素もしくは酸化力を有するガス
を用い、プラズマＣＶＤ法により基材上に珪素酸化物
と、炭素、水素、珪素及び酸素の中から少なくとも１種
あるいは２種以上の元素からなる化合物を少なくとも１
種類含有するバリアー層を内面のみに形成することを特
徴とするプラスチック容器の製造方法を提供する。
【００２７】請求項１０の発明においては、少なくとも
有機珪素化合物の蒸気と酸素もしくは酸化力を有するガ
スを用い、プラズマＣＶＤ法により基材上に珪素酸化物
と、炭素、水素、珪素及び酸素の中から少なくとも１種
あるいは２種以上の元素からなる化合物を少なくとも１
種類含有するバリアー層を内外面両方に形成することを
特徴とするプラスチック容器の製造方法を提供する。
有機珪素化合物の蒸気と酸素もしくは酸化力を有するガ
スを用い、プラズマＣＶＤ法により基材上に珪素酸化物
と、炭素、水素、珪素及び酸素の中から少なくとも１種
あるいは２種以上の元素からなる化合物を少なくとも１
種類含有するバリアー層を内外面両方に形成することを
特徴とするプラスチック容器の製造方法を提供する。
【００２８】請求項１１の発明においては、前記バリア
ー層中の化合物濃度を深さ方向に対して変化させること
を特徴とする請求項９又は請求項１０に記載のプラスチ
ック容器の製造方法を提供する。
ー層中の化合物濃度を深さ方向に対して変化させること
を特徴とする請求項９又は請求項１０に記載のプラスチ
ック容器の製造方法を提供する。
【００２９】請求項１２の発明においては、有機珪素化
合物の蒸気を用い、プラズマＣＶＤ法により基材上に有
機珪素化合物層を設け、その後、酸素プラズマにより有
機珪素化合物層表面近傍を酸化させたバリアー層を内面
のみに形成することを特徴とするプラスチック容器の製
造方法を提供する。
合物の蒸気を用い、プラズマＣＶＤ法により基材上に有
機珪素化合物層を設け、その後、酸素プラズマにより有
機珪素化合物層表面近傍を酸化させたバリアー層を内面
のみに形成することを特徴とするプラスチック容器の製
造方法を提供する。
【００３０】請求項１３の発明においては、有機珪素化
合物の蒸気を有するガスを用い、プラズマＣＶＤ法によ
り基材上に有機珪素化合物層を設け、その後、酸素プラ
ズマにより有機珪素化合物層表面近傍を酸化させたバリ
アー層を内外面両方に形成することを特徴とするプラス
チック容器の製造方法を提供する。
合物の蒸気を有するガスを用い、プラズマＣＶＤ法によ
り基材上に有機珪素化合物層を設け、その後、酸素プラ
ズマにより有機珪素化合物層表面近傍を酸化させたバリ
アー層を内外面両方に形成することを特徴とするプラス
チック容器の製造方法を提供する。
【００３１】請求項１の発明の様な場合、少なくとも容
器内面にもうけられたバリアー層を有し、該バリアー層
は珪素酸化物と、炭素、水素、珪素及び酸素の中から少
なくとも１種あるいは２種以上の元素からなる化合物を
含有する層で、酸化珪素の酸化数が１．０−２．０で、
炭素、水素、珪素及び酸素の中から少なくとも１種ある
いは２種以上の元素からなる化合物がバリアー層の０．
１−８０％含有されているのが好ましいが、この層は連
続的でも非連続的でもかまわないものとする。
器内面にもうけられたバリアー層を有し、該バリアー層
は珪素酸化物と、炭素、水素、珪素及び酸素の中から少
なくとも１種あるいは２種以上の元素からなる化合物を
含有する層で、酸化珪素の酸化数が１．０−２．０で、
炭素、水素、珪素及び酸素の中から少なくとも１種ある
いは２種以上の元素からなる化合物がバリアー層の０．
１−８０％含有されているのが好ましいが、この層は連
続的でも非連続的でもかまわないものとする。
【００３２】この際に酸化珪素の酸素のサイトが炭素、
窒素等の他の元素に置換されている場合もあり得る。ま
た、膜中には透明性、バリアー性を損なわない範囲で金
属酸化物や弗素化合物、窒素化合物等を含有させてもか
まわないものとする。
窒素等の他の元素に置換されている場合もあり得る。ま
た、膜中には透明性、バリアー性を損なわない範囲で金
属酸化物や弗素化合物、窒素化合物等を含有させてもか
まわないものとする。
【００３３】本発明のガスバリアー性プラスチック容器
はバリアー層中に珪素酸化物と炭素、水素、珪素及び酸
素の中から少なくとも１種あるいは２種以上の元素から
なる化合物を含ませることにより高いガスバリアー性と
柔軟性、フレキシビリティーを持たせるものである。
はバリアー層中に珪素酸化物と炭素、水素、珪素及び酸
素の中から少なくとも１種あるいは２種以上の元素から
なる化合物を含ませることにより高いガスバリアー性と
柔軟性、フレキシビリティーを持たせるものである。
【００３４】さらに、容器内面のバリアー層については
上記の化合物濃度が表面から基材方向に向かって増加さ
せている。この際の化合物濃度の変化は連続的に傾斜さ
せても、非連続的であってもかまわないものとする。
上記の化合物濃度が表面から基材方向に向かって増加さ
せている。この際の化合物濃度の変化は連続的に傾斜さ
せても、非連続的であってもかまわないものとする。
【００３５】また、容器外面のバリアー層についても上
記の化合物濃度が表面から基材方向に向かって増加させ
ている。この際の化合物濃度の変化は連続的に傾斜させ
ても、非連続的であってもかまわないものとする。
記の化合物濃度が表面から基材方向に向かって増加させ
ている。この際の化合物濃度の変化は連続的に傾斜させ
ても、非連続的であってもかまわないものとする。
【００３６】一方、本装置によるガスバリアープラスチ
ック容器の製造方法は、気化させた有機珪素化合物と酸
素もしくはプラズマ中で酸化力を有するガスを用い、プ
ラズマＣＶＤ法によりプラスチック容器に珪素酸化物と
炭素、水素、珪素及び酸素の中から少なくとも１種ある
いは２種以上の元素からなる化合物による連続、非連続
のバリアー層を形成するものである。
ック容器の製造方法は、気化させた有機珪素化合物と酸
素もしくはプラズマ中で酸化力を有するガスを用い、プ
ラズマＣＶＤ法によりプラスチック容器に珪素酸化物と
炭素、水素、珪素及び酸素の中から少なくとも１種ある
いは２種以上の元素からなる化合物による連続、非連続
のバリアー層を形成するものである。
【００３７】珪素酸化物層を構成する有機珪素化合物は
１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメ
チルジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、メチルト
リメトキシシラン、ヘキサメチルジシラン、メチルシラ
ン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラ
ンプロピルシラン、フェニルシラン、ビニルトリエトキ
シシラン、ビニルトリメトキシシラン、テトラメトキシ
シラン、テトラエトキシシラン、フェニルトリメトキシ
シラン、メチルトリエトキシシラン、オクタメチルシク
ロテトラシロキサン等の中から選択することができ、特
に１，１，３，３，−テトラメチルジシロキサン、ヘキ
サメチルジシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロ
キサンが好ましい。ただし、これらに限定されるもので
はなくアミノシラン、シラザン等も用いられる。
１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメ
チルジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、メチルト
リメトキシシラン、ヘキサメチルジシラン、メチルシラ
ン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラ
ンプロピルシラン、フェニルシラン、ビニルトリエトキ
シシラン、ビニルトリメトキシシラン、テトラメトキシ
シラン、テトラエトキシシラン、フェニルトリメトキシ
シラン、メチルトリエトキシシラン、オクタメチルシク
ロテトラシロキサン等の中から選択することができ、特
に１，１，３，３，−テトラメチルジシロキサン、ヘキ
サメチルジシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロ
キサンが好ましい。ただし、これらに限定されるもので
はなくアミノシラン、シラザン等も用いられる。
【００３８】いずれも液体である上記有機珪素化合物を
気化させ、酸素もしくは酸化力を有するガス（例えばＮ
２ Ｏ、ＣＯ２ 等）と混合したガス、又は、上記の混合
ガスに不活性ガスであるヘリウム及び／又はアルゴンを
混合した原料ガス、もしくはこれに窒素、弗化炭素等を
適宣加え、プラスチック容器が設置されているプラズマ
化学的気層蒸着機に導入して、厚さ３０−５０００Åの
珪素酸化物層を形成する。望ましくはバリアー性、柔軟
性の面から１００−５００Åの膜厚が望ましい。
気化させ、酸素もしくは酸化力を有するガス（例えばＮ
２ Ｏ、ＣＯ２ 等）と混合したガス、又は、上記の混合
ガスに不活性ガスであるヘリウム及び／又はアルゴンを
混合した原料ガス、もしくはこれに窒素、弗化炭素等を
適宣加え、プラスチック容器が設置されているプラズマ
化学的気層蒸着機に導入して、厚さ３０−５０００Åの
珪素酸化物層を形成する。望ましくはバリアー性、柔軟
性の面から１００−５００Åの膜厚が望ましい。
【００３９】請求項１２、１３の発明においては、原料
ガスを有機珪素化合物、酸素に分けて供給することによ
り、排気系にかける負担を軽減することが出来る。
ガスを有機珪素化合物、酸素に分けて供給することによ
り、排気系にかける負担を軽減することが出来る。
【００４０】
【発明の実施の形態】ボトルの一例を図１に示す。プラ
スチック容器１内面にバリアー層を設けたものである。
具体的にその製造方法としては、以下に示す通りであ
る。 ：図２の様にプラスチック容器１を覆うような外部電
極２内にプラスチック容器１をセットし、アース５とな
るガス導入管３と排気口４をセットする。 ：図３の様に真空ポンプ（図示せず）を用いてプラス
チック容器１の内外を真空に引く。 ：ガス導入管３から有機珪素化合物蒸気と酸化力を有
するガス等を流し、外部電極２に高周波を電源６印可す
ることによりプラスチック容器１内部にプラズマを発生
させ、成膜を行う。 外部電極から取り出す。
スチック容器１内面にバリアー層を設けたものである。
具体的にその製造方法としては、以下に示す通りであ
る。 ：図２の様にプラスチック容器１を覆うような外部電
極２内にプラスチック容器１をセットし、アース５とな
るガス導入管３と排気口４をセットする。 ：図３の様に真空ポンプ（図示せず）を用いてプラス
チック容器１の内外を真空に引く。 ：ガス導入管３から有機珪素化合物蒸気と酸化力を有
するガス等を流し、外部電極２に高周波を電源６印可す
ることによりプラスチック容器１内部にプラズマを発生
させ、成膜を行う。 外部電極から取り出す。
【００４１】以上のような方法によりボトルに成膜を行
うが、電極は一枚構造でも複数枚の組み合わせでもかま
わないものとする。また、導入する有機珪素化合物蒸気
と酸化力を有するガスの混合比を変化させることにより
膜中の炭素含有量を調整できる。さらに、外部にも原料
を供給することによりプラスチック容器の外側にも成膜
する事ができる。酸素プラズマによる後処理によって最
表面層の膜質をより二酸化珪素に近く変化させることも
できる。
うが、電極は一枚構造でも複数枚の組み合わせでもかま
わないものとする。また、導入する有機珪素化合物蒸気
と酸化力を有するガスの混合比を変化させることにより
膜中の炭素含有量を調整できる。さらに、外部にも原料
を供給することによりプラスチック容器の外側にも成膜
する事ができる。酸素プラズマによる後処理によって最
表面層の膜質をより二酸化珪素に近く変化させることも
できる。
【００４２】このようにして形成された珪素酸化物層に
はＳｉ−Ｏ結合をもつ化合物が存在し、他にも炭素、水
素、珪素及び酸素の中から１種、あるいは２種以上の元
素からなる化合物が含有する。例えば、Ｃ−Ｈ結合をも
つ化合物、Ｓｉ−Ｈ結合をもつ化合物、Ｃ−Ｏ結合をも
つ化合物、Ｓｉ−Ｃ結合をもつ化合物、又は炭素単体が
グラファイト状、ダイヤモンド状、フラーレン状になっ
ている場合、さらに原料の有機珪素化合物やそれらの誘
導体を含む場合がある。
はＳｉ−Ｏ結合をもつ化合物が存在し、他にも炭素、水
素、珪素及び酸素の中から１種、あるいは２種以上の元
素からなる化合物が含有する。例えば、Ｃ−Ｈ結合をも
つ化合物、Ｓｉ−Ｈ結合をもつ化合物、Ｃ−Ｏ結合をも
つ化合物、Ｓｉ−Ｃ結合をもつ化合物、又は炭素単体が
グラファイト状、ダイヤモンド状、フラーレン状になっ
ている場合、さらに原料の有機珪素化合物やそれらの誘
導体を含む場合がある。
【００４３】具体的に例を挙げるとメチル基等のアルキ
ル基やメチレン基をもつハイドロカーボン、ヒドロキシ
ル基やケトン基を含むヒドロキシカーボン、又は、シリ
ル基、シリレン基をもつハイドロシリカ、さらに、シラ
ノール等の水酸基をもつ誘導体がある。上記以外でも、
原料ガスの組成、蒸着条件を変化させることにより、バ
リアー層に含有する化合物の種類、量を制御することが
できる。
ル基やメチレン基をもつハイドロカーボン、ヒドロキシ
ル基やケトン基を含むヒドロキシカーボン、又は、シリ
ル基、シリレン基をもつハイドロシリカ、さらに、シラ
ノール等の水酸基をもつ誘導体がある。上記以外でも、
原料ガスの組成、蒸着条件を変化させることにより、バ
リアー層に含有する化合物の種類、量を制御することが
できる。
【００４４】上記のバリアー層を設ける容器のプラスチ
ック材としては、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹
脂、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、シクロオレ
フィンコポリマー樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹
脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナ
フタレート樹脂、エチレン−ビニルアルコール共重合樹
脂、ポリメタクリル酸メチル樹脂、ポリビニルアルコー
ル樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ア
クリロニトリル・スチレン樹脂、アクリロニトリル・ブ
タジエン・スチレン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリ塩化
ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリアミド樹
脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリ
カーボネート樹脂、セルロース樹脂、アイオノマ樹脂、
ポリスルホン樹脂、４フッ化エチレン樹脂等があげられ
る。また、この基材は単層であっても良いが、２種以上
の樹脂からなる多層、混合構造であっても良い。さらに
基材表面上に表面処理がなされていたり、他の有機化合
物や無機化合物、金属等が、１層もしくは２層以上、コ
ーティングもしくは蒸着されていてもかまわない。
ック材としては、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹
脂、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、シクロオレ
フィンコポリマー樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹
脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナ
フタレート樹脂、エチレン−ビニルアルコール共重合樹
脂、ポリメタクリル酸メチル樹脂、ポリビニルアルコー
ル樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ア
クリロニトリル・スチレン樹脂、アクリロニトリル・ブ
タジエン・スチレン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリ塩化
ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリアミド樹
脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリ
カーボネート樹脂、セルロース樹脂、アイオノマ樹脂、
ポリスルホン樹脂、４フッ化エチレン樹脂等があげられ
る。また、この基材は単層であっても良いが、２種以上
の樹脂からなる多層、混合構造であっても良い。さらに
基材表面上に表面処理がなされていたり、他の有機化合
物や無機化合物、金属等が、１層もしくは２層以上、コ
ーティングもしくは蒸着されていてもかまわない。
【００４５】請求項１２、１３の発明における装置によ
るガスバリアープラスチック容器の製造方法は、気化さ
せた有機珪素化合物を有するガスを用い、プラズマＣＶ
Ｄ法によりプラスチック容器に有機珪素化合物の重合物
による薄膜を生成した後、さらに酸素あるいはプラズマ
中で酸化力を有するガスによるプラズマにより表面を酸
化させ、表面近傍において前記化合物濃度の低い、連
続、非連続のバリアー層を形成するものである。
るガスバリアープラスチック容器の製造方法は、気化さ
せた有機珪素化合物を有するガスを用い、プラズマＣＶ
Ｄ法によりプラスチック容器に有機珪素化合物の重合物
による薄膜を生成した後、さらに酸素あるいはプラズマ
中で酸化力を有するガスによるプラズマにより表面を酸
化させ、表面近傍において前記化合物濃度の低い、連
続、非連続のバリアー層を形成するものである。
【００４６】一例を以下示すが、断面図は図１から図３
と同様で、の工程以外は同様なので他は省略する。
と同様で、の工程以外は同様なので他は省略する。
【００４７】：ガス導入管から有機珪素化合物蒸気を
有するガス等を流し、外部電極に高周波を印可すること
によりボトル内部にプラズマを発生させ、成膜を行う。
更に、ガス導入管から酸化力を有するガス等を流し、
外部電極に高周波を印可することによりボトル内部にプ
ラズマを発生させ、酸化処理を行う。
有するガス等を流し、外部電極に高周波を印可すること
によりボトル内部にプラズマを発生させ、成膜を行う。
更に、ガス導入管から酸化力を有するガス等を流し、
外部電極に高周波を印可することによりボトル内部にプ
ラズマを発生させ、酸化処理を行う。
【００４８】以上のような方法によりボトルに成膜を行
うが、電極は一枚構造でも複数枚の組み合わせでもかま
わないものとする。また、酸化処理時のガス種および時
間、高周波出力を調整することにより膜中の炭素含有量
を調整できる。
うが、電極は一枚構造でも複数枚の組み合わせでもかま
わないものとする。また、酸化処理時のガス種および時
間、高周波出力を調整することにより膜中の炭素含有量
を調整できる。
【００４９】（実施例１）膜厚を変化させそのバリアー
性の変化を示す。
性の変化を示す。
【００５０】膜厚は成膜時間の変化により調整した。基
材として容量５００ｍｌのポリエチレンテレフタレート
樹脂製容器（日本ユニペット社ＰＥＴ樹脂ＲＴ−５２３
Ｃ）を使用し、原料の有機珪素化合物はヘキサメチルジ
シロキサンを用いた。膜厚は透過型電子顕微鏡により、
バリアー層中の構成原子比についてはＸＰＳ（島津製作
所製ＥＳＣＡ３２００）により、酸素透過度については
ＭＯＣＯＮ社のＯＸＴＲＡＮにより、水蒸気透過度につ
いいてはＭＯＣＯＮ社のＰＥＲＭＡＴＲＡＮによって測
定を行った。比較例としてＤＬＣ膜を成膜した試料もし
めす。
材として容量５００ｍｌのポリエチレンテレフタレート
樹脂製容器（日本ユニペット社ＰＥＴ樹脂ＲＴ−５２３
Ｃ）を使用し、原料の有機珪素化合物はヘキサメチルジ
シロキサンを用いた。膜厚は透過型電子顕微鏡により、
バリアー層中の構成原子比についてはＸＰＳ（島津製作
所製ＥＳＣＡ３２００）により、酸素透過度については
ＭＯＣＯＮ社のＯＸＴＲＡＮにより、水蒸気透過度につ
いいてはＭＯＣＯＮ社のＰＥＲＭＡＴＲＡＮによって測
定を行った。比較例としてＤＬＣ膜を成膜した試料もし
めす。
【００５１】（実施例２）炭素含有量を変化させそのバ
リアー性の変化を示す。
リアー性の変化を示す。
【００５２】膜中の炭素含有量はＨＭＤＳＯと酸素の混
合比を変化させることにより調整した。基材としては容
量５００ｍｌのポリエチレンテレフタレート樹脂製容器
（日本ユニペット社ＰＥＴ樹脂ＲＴ−５２３Ｃ）を使用
し、原料の有機珪素化合物はヘキサメチルジシロキサン
を用いた。バリアー層中の炭素含有量についてはＸＰＳ
（島津製作所製ＥＳＣＡ３２００）により、酸素透過度
についてはＭＯＣＯＮ社のＯＸＴＲＡＮにて測定を行っ
た。
合比を変化させることにより調整した。基材としては容
量５００ｍｌのポリエチレンテレフタレート樹脂製容器
（日本ユニペット社ＰＥＴ樹脂ＲＴ−５２３Ｃ）を使用
し、原料の有機珪素化合物はヘキサメチルジシロキサン
を用いた。バリアー層中の炭素含有量についてはＸＰＳ
（島津製作所製ＥＳＣＡ３２００）により、酸素透過度
についてはＭＯＣＯＮ社のＯＸＴＲＡＮにて測定を行っ
た。
【００５３】（実施例３）炭素含有量を変化させた試料
を用いて引っ張り試験を行いそのバリアー性の変化を示
す。
を用いて引っ張り試験を行いそのバリアー性の変化を示
す。
【００５４】膜中の炭素含有量はＨＭＤＳＯと酸素の混
合比を変化させることにより調整した。基材としては厚
さ２５０μｍのポリエチレンテレフタレート樹脂を使用
し、原料の有機珪素化合物はヘキサメチルジシロキサン
を用いた。バリアー層中の炭素含有量についてはＸＰＳ
（島津製作所製ＥＳＣＡ３２００）により、酸素透過度
についてはＭＯＣＯＮ社のＯＸＴＲＡＮ、フレキシビリ
ティーについてはオリエンテック社の引っ張り試験器テ
ンシロンを用いてフィルムを４％引っ張った後、ＯＸＴ
ＲＡＮにて測定を行った。参考として有機珪素化合物の
代わりにシランガスを使用し膜中に炭素を含まない試料
をもちいた。
合比を変化させることにより調整した。基材としては厚
さ２５０μｍのポリエチレンテレフタレート樹脂を使用
し、原料の有機珪素化合物はヘキサメチルジシロキサン
を用いた。バリアー層中の炭素含有量についてはＸＰＳ
（島津製作所製ＥＳＣＡ３２００）により、酸素透過度
についてはＭＯＣＯＮ社のＯＸＴＲＡＮ、フレキシビリ
ティーについてはオリエンテック社の引っ張り試験器テ
ンシロンを用いてフィルムを４％引っ張った後、ＯＸＴ
ＲＡＮにて測定を行った。参考として有機珪素化合物の
代わりにシランガスを使用し膜中に炭素を含まない試料
をもちいた。
【００５５】（実施例４）炭素含有量を変化させその吸
着特性の変化を示す。
着特性の変化を示す。
【００５６】膜中の炭素含有量はＨＭＤＳＯと酸素の混
合比を変化させることにより調整した。基材としては容
量１０００ｍｌのポリエチレンテレフタレート樹脂製容
器（日本ユニペット社ＰＥＴ樹脂ＲＴ−５２３Ｃ）を使
用し、原料の有機珪素化合物はヘキサメチルジシロキサ
ンを用いた。バリアー層中の炭素含有量についてはＸＰ
Ｓ（島津製作所製ＥＳＣＡ３２００）により、抽出物に
ついてはガスクロマトグラフ（ＨＥＷＬＥＴＴＰＡＣＫ
ＡＲＤ社製５８９０ＳＥＲＩＥＳ ＩＩ）により分析し
た。
合比を変化させることにより調整した。基材としては容
量１０００ｍｌのポリエチレンテレフタレート樹脂製容
器（日本ユニペット社ＰＥＴ樹脂ＲＴ−５２３Ｃ）を使
用し、原料の有機珪素化合物はヘキサメチルジシロキサ
ンを用いた。バリアー層中の炭素含有量についてはＸＰ
Ｓ（島津製作所製ＥＳＣＡ３２００）により、抽出物に
ついてはガスクロマトグラフ（ＨＥＷＬＥＴＴＰＡＣＫ
ＡＲＤ社製５８９０ＳＥＲＩＥＳ ＩＩ）により分析し
た。
【００５７】手順は以下の通りである。 １．香気成分としてリモネンを１００ｐｐｍ添加した
０．３％シュガーエステル溶液を作る。 ２．この溶液を１０００ｍｌ充填し、容器にふたをした
後、２０℃で１カ月間保管する。 ３．１カ月後、この溶液を破棄し、６０℃の蒸留水で容
器の内部を洗浄した後乾燥させる。 ４．容器にジエチルエーテルを充填し、容器に付着した
リモネンを抽出する。 ５．ジエチルエーテルを容器から取り出し無水硫酸ナト
リウムを添加し脱水する。 ６．アミルベンゼンを内標準試料としてガスクロマトグ
ラフにより分析した。
０．３％シュガーエステル溶液を作る。 ２．この溶液を１０００ｍｌ充填し、容器にふたをした
後、２０℃で１カ月間保管する。 ３．１カ月後、この溶液を破棄し、６０℃の蒸留水で容
器の内部を洗浄した後乾燥させる。 ４．容器にジエチルエーテルを充填し、容器に付着した
リモネンを抽出する。 ５．ジエチルエーテルを容器から取り出し無水硫酸ナト
リウムを添加し脱水する。 ６．アミルベンゼンを内標準試料としてガスクロマトグ
ラフにより分析した。
【００５８】結果は、１ｐｐｍのリモネンを含んだ溶液
を容器内に入れた際に、容器に吸着するリモネンの量μ
ｇでしめす。従って単位はμｇ／ｐｐｍ／ｂｏｔｔｌｅ
となる。
を容器内に入れた際に、容器に吸着するリモネンの量μ
ｇでしめす。従って単位はμｇ／ｐｐｍ／ｂｏｔｔｌｅ
となる。
【００５９】
【表１】
【００６０】表１に示されるように、ＣＶＤ法で成膜し
たサンプルでは膜厚が４００Å程度以上あれば、酸素透
過量０．０２０ｃｃ／ｍ２ ／ｄａｙ，水蒸気透過量
０．０３０ｇ／ｍ２ ／ｄａｙ以下の十分なガスバリア
ー性を示すことがわかる。さらに、この際のサンプルの
色は無色透明であった。これに対して、ＤＬＣ膜では膜
厚を厚くつけたにもかかわらず酸素、水蒸気バリアー性
がともに低く、サンプルも茶色く色味がついていた。
たサンプルでは膜厚が４００Å程度以上あれば、酸素透
過量０．０２０ｃｃ／ｍ２ ／ｄａｙ，水蒸気透過量
０．０３０ｇ／ｍ２ ／ｄａｙ以下の十分なガスバリア
ー性を示すことがわかる。さらに、この際のサンプルの
色は無色透明であった。これに対して、ＤＬＣ膜では膜
厚を厚くつけたにもかかわらず酸素、水蒸気バリアー性
がともに低く、サンプルも茶色く色味がついていた。
【００６１】
【表２】
【００６２】表２に示したように炭素含有量が多いほど
酸素透過度は高くなっている。この結果から、酸素バリ
アー性を持たせるには、バリアー層中に炭素濃度の低い
部位を作る必要があることがわかった。
酸素透過度は高くなっている。この結果から、酸素バリ
アー性を持たせるには、バリアー層中に炭素濃度の低い
部位を作る必要があることがわかった。
【００６３】
【表３】
【００６４】表３に示したように、４％の引っ張り試験
を行うと、シランガスで作成した試料では大きく、炭素
濃度変化を持たせずにプラズマＣＶＤ法により作成した
サンプルでもある程度、酸素バリアー性の劣化がみられ
るが、基材との界面での炭素濃度を低く、バリアー層表
面での炭素濃度を高く作成した試料では酸素バリアー性
の劣化がみられていない。この結果から、基材との界面
に炭素濃度の高い部位を作ることはバリアー膜にフレキ
シビリティーを持たせる上で有効であることが分かる。
を行うと、シランガスで作成した試料では大きく、炭素
濃度変化を持たせずにプラズマＣＶＤ法により作成した
サンプルでもある程度、酸素バリアー性の劣化がみられ
るが、基材との界面での炭素濃度を低く、バリアー層表
面での炭素濃度を高く作成した試料では酸素バリアー性
の劣化がみられていない。この結果から、基材との界面
に炭素濃度の高い部位を作ることはバリアー膜にフレキ
シビリティーを持たせる上で有効であることが分かる。
【００６５】
【表４】
【００６６】表４に示したように、ＳｉＯｘ膜をつける
ことにより容器内面への低分子有機化合物の吸着が押さ
えられることがわかった。
ことにより容器内面への低分子有機化合物の吸着が押さ
えられることがわかった。
【００６７】（実施例５）ＨＭＤＳＯ、酸素それぞれの
ガスを流した際のチャンバー内の圧力変化を示す。圧力
の測定は大亜真空製ピラニー真空計ＰＴ−ＤＢ１を用
い、真空ポンプはＥＤＷＡＲＤＳ社製ロータリーポンプ
Ｅ２Ｍ−１８とＵＬＶＡＣ社製メカニカルブースターポ
ンプＭＢＳ−０３０を使用した。
ガスを流した際のチャンバー内の圧力変化を示す。圧力
の測定は大亜真空製ピラニー真空計ＰＴ−ＤＢ１を用
い、真空ポンプはＥＤＷＡＲＤＳ社製ロータリーポンプ
Ｅ２Ｍ−１８とＵＬＶＡＣ社製メカニカルブースターポ
ンプＭＢＳ−０３０を使用した。
【００６８】
【表５】
【００６９】表５に示したようにＨＭＤＳＯのみを流す
と流量を多く流してもチャンバー内の圧力を低く保つこ
とが出来、また、酸素後処理では成膜時ほど大量の酸素
を必要としないため、やはり、チャンバー内の圧力を低
く保つことが出来る。
と流量を多く流してもチャンバー内の圧力を低く保つこ
とが出来、また、酸素後処理では成膜時ほど大量の酸素
を必要としないため、やはり、チャンバー内の圧力を低
く保つことが出来る。
【００７０】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば珪
素酸化物を含む物質により構成されるバリアー層は薄く
ても極めて高いバリアー性を示し、また、高い濃度で、
少なくとも珪素酸化物と炭素、水素、珪素及び酸素の中
から１種あるいは２種以上の元素からなる化合物を含有
する部位と、低い濃度で、少なくとも珪素酸化物と炭
素、水素、珪素及び酸素の中から１種あるいは２種以上
の元素からなる化合物を含有する部位とを垂直方向の分
布中に有するため、高いバリアー性を持ちつつ、対衝撃
性に優れ、且つ、フレキシビリティーにとんでいる。
素酸化物を含む物質により構成されるバリアー層は薄く
ても極めて高いバリアー性を示し、また、高い濃度で、
少なくとも珪素酸化物と炭素、水素、珪素及び酸素の中
から１種あるいは２種以上の元素からなる化合物を含有
する部位と、低い濃度で、少なくとも珪素酸化物と炭
素、水素、珪素及び酸素の中から１種あるいは２種以上
の元素からなる化合物を含有する部位とを垂直方向の分
布中に有するため、高いバリアー性を持ちつつ、対衝撃
性に優れ、且つ、フレキシビリティーにとんでいる。
【００７１】これにより、本発明のガスバリアー性プラ
スチック容器は優れたバリアー性と透明性をもち、対衝
撃性に優れ、且つ、フレキシビリティーに富んでおり、
廃棄時における環境上の問題もない容器を得ることがで
きる。
スチック容器は優れたバリアー性と透明性をもち、対衝
撃性に優れ、且つ、フレキシビリティーに富んでおり、
廃棄時における環境上の問題もない容器を得ることがで
きる。
【図１】本願発明のガスバリア性プラスチック容器の概
念断面図である。
念断面図である。
【図２】本願発明のガスバリア性プラスチック容器の成
膜前の状態の概念断面図である。
膜前の状態の概念断面図である。
【図３】本願発明のガスバリア性プラスチック容器の成
膜中の状態の概念断面図である。
膜中の状態の概念断面図である。
１ プラスチック容器 ２ 外部電極 ３ ガス導入管 ４ 排気口 ５ アース ６ 電源
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 白井 励 東京都台東区台東１丁目５番１号 凸版印 刷株式会社内 (72)発明者 掛村 敏明 東京都台東区台東１丁目５番１号 凸版印 刷株式会社内
Claims (13)
- 【請求項１】容器の内面のみにバリアー層を有し、該バ
リアー層は珪素酸化物と、炭素、水素、珪素及び酸素の
中から少なくとも１種あるいは２種以上の元素からなる
化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とするプ
ラスチック容器。 - 【請求項２】容器内外面にバリアー層を有し、該バリア
ー層は珪素酸化物と、炭素、水素、珪素及び酸素の中か
ら少なくとも１種あるいは２種以上の元素からなる化合
物を少なくとも１種類含有することを特徴とするプラス
チック容器。 - 【請求項３】容器内面のバリアー層中の前記化合物の濃
度が、基材界面からバリアー層表面への深さ方向に対し
て、連続、非連続的に変化することを特徴とする請求項
１又は請求項２に記載のプラスチック容器。 - 【請求項４】容器外面のバリアー層中の前記化合物の濃
度が、基材界面からバリアー層表面への深さ方向に対し
て、連続、非連続的に変化することを特徴とする請求項
２又は請求項３に記載のプラスチック容器。 - 【請求項５】容器内面のバリアー層中にて、基材界面に
おいてこの化合物濃度が低く、バリアー層表面において
この化合物濃度が高い事を特徴とする請求項１又は請求
項２、請求項３に記載のプラスチック容器。 - 【請求項６】容器外面のバリアー層中にて、基材界面に
おいてこの化合物濃度が低く、バリアー層表面において
この化合物濃度が高い事を特徴とする請求項２又は請求
項３、請求項４、請求項５に記載のプラスチック容器。 - 【請求項７】容器内面のバリアー層中にて、バリアー層
内部においてこの化合物濃度が高く、バリアー層表面及
び基材との界面においてこの化合物濃度が低いを特徴と
する請求項１又は請求項２、請求項３に記載のプラスチ
ック容器。 - 【請求項８】容器外面のバリアー層中にて、バリアー層
内部においてこの化合物濃度が高く、バリアー層表面及
び基材との界面においてこの化合物濃度が低いを特徴と
する請求項２又は請求項３、請求項４、請求項５に記載
のプラスチック容器。 - 【請求項９】少なくとも有機珪素化合物の蒸気と酸素も
しくは酸化力を有するガスを用い、プラズマＣＶＤ法に
より基材上に珪素酸化物と、炭素、水素、珪素及び酸素
の中から少なくとも１種あるいは２種以上の元素からな
る化合物を少なくとも１種類含有するバリアー層を内面
のみに形成することを特徴とするプラスチック容器の製
造方法。 - 【請求項１０】少なくとも有機珪素化合物の蒸気と酸素
もしくは酸化力を有するガスを用い、プラズマＣＶＤ法
により基材上に珪素酸化物と、炭素、水素、珪素及び酸
素の中から少なくとも１種あるいは２種以上の元素から
なる化合物を少なくとも１種類含有するバリアー層を内
外面両方に形成することを特徴とするプラスチック容器
の製造方法。 - 【請求項１１】前記バリアー層中の化合物濃度を深さ方
向に対して変化させることを特徴とする請求項９又は請
求項１０に記載のプラスチック容器の製造方法。 - 【請求項１２】有機珪素化合物の蒸気を用い、プラズマ
ＣＶＤ法により基材上に有機珪素化合物層を設け、その
後、酸素プラズマにより有機珪素化合物層表面近傍を酸
化させたバリアー層を内面のみに形成することを特徴と
するプラスチック容器の製造方法。 - 【請求項１３】有機珪素化合物の蒸気を有するガスを用
い、プラズマＣＶＤ法により基材上に有機珪素化合物層
を設け、その後、酸素プラズマにより有機珪素化合物層
表面近傍を酸化させたバリアー層を内外面両方に形成す
ることを特徴とするプラスチック容器の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4861599A JP2000079944A (ja) | 1998-07-01 | 1999-02-25 | プラスチック容器およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10-186393 | 1998-07-01 | ||
| JP18639398 | 1998-07-01 | ||
| JP4861599A JP2000079944A (ja) | 1998-07-01 | 1999-02-25 | プラスチック容器およびその製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006171974A Division JP2006264791A (ja) | 1998-07-01 | 2006-06-21 | プラスチック容器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000079944A true JP2000079944A (ja) | 2000-03-21 |
Family
ID=26388913
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4861599A Pending JP2000079944A (ja) | 1998-07-01 | 1999-02-25 | プラスチック容器およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000079944A (ja) |
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002002649A (ja) * | 2000-06-27 | 2002-01-09 | Hokkai Can Co Ltd | ポリエチレンテレフタレート樹脂製容器 |
| JP2002128045A (ja) * | 2000-10-31 | 2002-05-09 | Toppan Printing Co Ltd | バリア性プラスチック容器 |
| JP2002153830A (ja) * | 2000-11-17 | 2002-05-28 | Hokkai Can Co Ltd | プラスチック容器内面の清浄化方法 |
| JP2002274521A (ja) * | 2001-03-16 | 2002-09-25 | Yoshino Kogyosho Co Ltd | 環境に優しいプラスチック容器 |
| JP2003034342A (ja) * | 2001-07-24 | 2003-02-04 | Toppan Printing Co Ltd | バリア性チューブ状容器 |
| JP2003095273A (ja) * | 2001-09-18 | 2003-04-03 | Dainippon Printing Co Ltd | プラスチック製容器 |
| JP2003095272A (ja) * | 2001-09-18 | 2003-04-03 | Dainippon Printing Co Ltd | プラスチック製容器 |
| JP2006082814A (ja) * | 2004-09-14 | 2006-03-30 | Dainippon Printing Co Ltd | ガスバリア性プラスチック容器 |
| JP2006082816A (ja) * | 2004-09-14 | 2006-03-30 | Dainippon Printing Co Ltd | ガスバリア性プラスチック容器の製造方法 |
| JP2006160269A (ja) * | 2004-12-02 | 2006-06-22 | Kirin Brewery Co Ltd | プラズマｃｖｄ成膜装置及びガスバリア性を有するプラスチック容器の製造方法 |
| WO2007026554A1 (ja) * | 2005-08-31 | 2007-03-08 | Yoshino Kogyosho Co., Ltd. | 高いバリア性を有する合成樹脂製容器 |
| JP2007284127A (ja) * | 2006-04-19 | 2007-11-01 | Takeuchi Press Ind Co Ltd | バリア性を有するチューブ容器 |
| WO2009107542A1 (ja) * | 2008-02-29 | 2009-09-03 | フジテック・インターナショナル株式会社 | 発光装置の製造方法およびそれに用いる製造装置 |
| CN106516358A (zh) * | 2016-10-13 | 2017-03-22 | 无锡市金武助剂厂有限公司 | 一种具有高保护措施的清洗剂瓶 |
-
1999
- 1999-02-25 JP JP4861599A patent/JP2000079944A/ja active Pending
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002002649A (ja) * | 2000-06-27 | 2002-01-09 | Hokkai Can Co Ltd | ポリエチレンテレフタレート樹脂製容器 |
| JP2002128045A (ja) * | 2000-10-31 | 2002-05-09 | Toppan Printing Co Ltd | バリア性プラスチック容器 |
| JP2002153830A (ja) * | 2000-11-17 | 2002-05-28 | Hokkai Can Co Ltd | プラスチック容器内面の清浄化方法 |
| JP2002274521A (ja) * | 2001-03-16 | 2002-09-25 | Yoshino Kogyosho Co Ltd | 環境に優しいプラスチック容器 |
| JP2003034342A (ja) * | 2001-07-24 | 2003-02-04 | Toppan Printing Co Ltd | バリア性チューブ状容器 |
| JP2003095273A (ja) * | 2001-09-18 | 2003-04-03 | Dainippon Printing Co Ltd | プラスチック製容器 |
| JP2003095272A (ja) * | 2001-09-18 | 2003-04-03 | Dainippon Printing Co Ltd | プラスチック製容器 |
| JP2006082816A (ja) * | 2004-09-14 | 2006-03-30 | Dainippon Printing Co Ltd | ガスバリア性プラスチック容器の製造方法 |
| JP2006082814A (ja) * | 2004-09-14 | 2006-03-30 | Dainippon Printing Co Ltd | ガスバリア性プラスチック容器 |
| JP2006160269A (ja) * | 2004-12-02 | 2006-06-22 | Kirin Brewery Co Ltd | プラズマｃｖｄ成膜装置及びガスバリア性を有するプラスチック容器の製造方法 |
| JP4664658B2 (ja) * | 2004-12-02 | 2011-04-06 | 麒麟麦酒株式会社 | プラズマｃｖｄ成膜装置及びガスバリア性を有するプラスチック容器の製造方法 |
| WO2007026554A1 (ja) * | 2005-08-31 | 2007-03-08 | Yoshino Kogyosho Co., Ltd. | 高いバリア性を有する合成樹脂製容器 |
| AU2006286041B2 (en) * | 2005-08-31 | 2010-07-01 | Yoshino Kogyosho Co., Ltd. | Synthetic resin container with high barrier capability |
| JP2007284127A (ja) * | 2006-04-19 | 2007-11-01 | Takeuchi Press Ind Co Ltd | バリア性を有するチューブ容器 |
| WO2009107542A1 (ja) * | 2008-02-29 | 2009-09-03 | フジテック・インターナショナル株式会社 | 発光装置の製造方法およびそれに用いる製造装置 |
| CN106516358A (zh) * | 2016-10-13 | 2017-03-22 | 无锡市金武助剂厂有限公司 | 一种具有高保护措施的清洗剂瓶 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4158265B2 (ja) | プラスチック容器の製造方法及び容器 | |
| CN101878322B (zh) | 包括至少三层的等离子体沉积的阻隔涂层,获得该涂层的方法及带有该涂层的容器 | |
| JP2000079944A (ja) | プラスチック容器およびその製造方法 | |
| EP1852522B1 (en) | Vapor deposited film by plasma cvd method | |
| CN1446124A (zh) | 通过等离子体沉积的、包括一个界面层的封隔涂层,以及得到这种涂层的方法和有这样涂层的容器 | |
| EP1630250B1 (en) | Chemical vapor deposition film formed by plasma cvd process and method for forming same | |
| JP4747605B2 (ja) | プラズマｃｖｄ法による蒸着膜 | |
| CN1287004C (zh) | 封隔涂层 | |
| JP4887808B2 (ja) | プラズマｃｖｄ法による蒸着膜 | |
| DK2597175T3 (en) | A process for the preparation of coated polymer | |
| CN1432035A (zh) | 用于聚合物与容器的阻隔层 | |
| JPH08175528A (ja) | プラスチックス材料からなる立体形状の容器に均一の膜厚の珪素酸化物被膜を形成する方法 | |
| CN100347229C (zh) | 在容器中沉积等离子体涂层的方法和设备 | |
| JP2005132416A (ja) | 酸化珪素薄膜コーティング中空容器 | |
| JP2006264791A (ja) | プラスチック容器 | |
| JP4973081B2 (ja) | ポリ乳酸成形品の製造方法 | |
| JP5273760B2 (ja) | プラスチック製容器 | |
| JP2009286041A (ja) | ガスバリア性フィルム及びその製造方法 | |
| JPH0732531A (ja) | 透明な珪素化合物の薄膜を設けたガス遮断性プラスチックス材およびその製造方法 | |
| JP4268545B2 (ja) | プラスチック製容器 | |
| JP2008100398A (ja) | プラスチック容器及びプラスチック容器の製造方法 | |
| JP4899471B2 (ja) | ガスバリア性プラスチック容器およびその製造方法 | |
| JP2009190747A (ja) | 薄膜被覆されたプラスチック容器 | |
| JP2004168325A (ja) | バリア性プラスチック容器 | |
| JP2001301731A (ja) | プラスチック容器 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060125 |
|
| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20060621 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20071024 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071116 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080115 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080304 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080501 |
|
| A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20080509 |
|
| A912 | Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20080606 |