JP2002153830A

JP2002153830A - プラスチック容器内面の清浄化方法

Info

Publication number: JP2002153830A
Application number: JP2000351067A
Authority: JP
Inventors: Akihisa Suzuki; 明久鈴木; Yuji Yamashita; 裕二山下; Toshihiro Aso; 俊裕安曽; Shunzo Miyazaki; 俊三宮崎; Koji Matsushima; 浩二松島
Original assignee: Hokkaican Co Ltd
Current assignee: Hokkaican Co Ltd
Priority date: 2000-11-17
Filing date: 2000-11-17
Publication date: 2002-05-28

Abstract

(57)【要約】【課題】ガスバリア被膜の微粉末を容易に除去できるプ
ラスチック容器内面の清浄化方法を提供する。【解決手段】プラズマＣＶＤ法により内面にガスバリア
被膜を形成した後、該ガスバリア被膜が形成されたプラ
スチック容器１０或いは前記ガスバリア被膜の微粉末の
帯電を除去し、容器１０内に加圧空気を導入する。前記
加圧空気は、イオン化された帯電空気であり、交流コロ
ナ放電または直流コロナ放電によりイオン化されてい
る。容器１０は、前記ガスバリア被膜の形成前に予め帯
電を除去されている。前記加圧空気は、２．０〜１０ｋ
ｇ／ｃｍ²の範囲の圧力に加圧されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマＣＶＤ法
により内面にガスバリア被膜を形成したプラスチック容
器内面の清浄化方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、飲料、食品、エアゾール、化粧品
容器等の分野では、プラスチック容器としてポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリエステル等からなる容器が一
般に用いられている。このようなプラスチック容器は、
金属容器やガラス容器に比べ、ガスバリア性が劣り、酸
素や炭酸ガス等のガスを透過するため、例えば炭酸飲料
の容器として使用することが難しい等、容器により保存
する内容物が限定されるという問題がある。

【０００３】前記問題を解決するために、容器内面にガ
スバリア被膜を形成したプラスチック容器が、特開平２
−７００５９号公報、特開平８−５３１１７号公報、特
開平８−１７５５２８号公報、特表平８−５０９１６６
号公報、特開２０００−７９９４４号公報等に提案され
ている。前記各公報記載の技術によれば、プラスチック
容器に、アモルファス炭素、珪素含有化合物等からなる
ガスバリア被膜を備えることにより、ガスバリア性を改
善することができる。

【０００４】前記ガスバリア被膜は、例えば、中空の処
理室に前記プラスチック容器を配置し、該容器口部から
該容器内部に原料ガス導入管を挿入して、該処理室及び
容器内部を真空に排気した後、原料ガスを供給すると共
に高周波またはマイクロ波電圧を印加することによって
プラズマを発生させる方法により形成することができ
る。前記原料ガスとしては、アモルファス炭素からなる
被覆層を形成する場合には常温で気体または液体の脂肪
族炭化水素、芳香族炭化水素、含酸素炭化水素類、含窒
素炭化水素類が用いられ、珪素含有化合物等からなる被
覆層を形成する場合には、シラン、アルキルシラン、ア
ルキルシロキサン、アルコキシシラン等の珪素含有化合
物と、酸素等の酸化性ガスとの混合物が用いられる。

【０００５】ところで、前記方法によると、前記処理室
に配置された前記プラスチック容器の口部方向に前記原
料ガスが流れるため、口部近傍に厚膜の前記ガスバリア
被膜が形成される傾向がある。また、前記プラスチック
容器の口部から内部に導入される前記ガス導入管等にも
前記ガスバリア被膜が付着し、処理の繰り返しにより次
第に厚膜になる。

【０００６】前記プラスチック容器の口部近傍または前
記ガス導入管等に形成された厚膜の被膜は、前記ガス導
入管等の装着または取り外しの際に、或いは装置作動時
の振動等により、剥離、脱落し、微粉末となってプラス
チック容器内部に侵入することがある。前記微粉末は人
体に無害であるが、該プラスチック容器に清涼飲料等の
内容物を充填すると該微粉末が容器底部に沈殿し、利用
者に恰も前記内容物の成分の一部が分離したかのような
印象を与えるとの問題がある。

【０００７】前記微粉末が前記プラスチック容器内に侵
入しないようにするためには、該プラスチック容器の口
部にマスキング部材を装着して前記ガスバリア被膜の形
成を防止するようにしたり、前記ガス導入管等、前記装
置の前記ガスバリア被膜が付着しやすい部分を頻繁に清
掃する等の対策が考えられる。しかし、前記対策を施し
ても、前記微粉末が前記プラスチック容器内に侵入する
ことを完全に阻止することは難しい。

【０００８】前記プラスチック容器内に侵入した前記微
粉末は、該プラスチック容器に内容物を充填する前の加
圧水による水洗により完全に除去できるが、内容物によ
っては水洗を行わない場合もある。そこで、前記水洗を
行わない場合には、前記プラスチック容器内に加圧空気
を導入して前記微粉末を除去することが考えられる。

【０００９】しかしながら、前記微粉末が前記プラスチ
ック容器に強固に付着している場合には、前記加圧空気
を長時間導入するか、或いは高圧の空気を導入する必要
があり、生産性を低減させるとの不都合がある。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる不都
合を解消して、プラスチック容器内部に侵入したガスバ
リア被膜の微粉末を容易に除去することができるプラス
チック容器内面の清浄化方法を提供することを目的とす
る。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記ガス
バリア被膜の微粉末が前記プラスチック容器の内部に強
固に付着する理由について検討した結果、プラズマＣＶ
Ｄ法により前記ガスバリア被膜を形成する際には、前記
プラスチック容器或いは前記ガスバリア被膜の微粉末が
静電気により帯電し、前記微粉末が静電気的に付着して
いることが判明した。

【００１２】そこで、本発明の清浄化方法は、かかる目
的を達成するために、プラズマＣＶＤ法により内面にガ
スバリア被膜を形成したプラスチック容器内面の清浄化
方法であって、前記ガスバリア被膜の形成後、該ガスバ
リア被膜が形成されたプラスチック容器或いは前記ガス
バリア被膜の微粉末の帯電を除去し、該プラスチック容
器内に加圧空気を導入することを特徴とする。

【００１３】本発明の清浄化方法によれば、前記ガスバ
リア被膜の形成後、該ガスバリア被膜が形成されたプラ
スチック容器或いは前記微粉末の帯電を除去した後、或
いは帯電の除去と同時に前記プラスチック容器内に加圧
空気を導入する。このようにすると、前記プラスチック
容器或いは前記微粉末の帯電が除去されることにより、
前記微粉末が付着しにくくなるので、前記加圧空気によ
り該微粉末を容易に除去することができる。

【００１４】本発明の清浄化方法において、前記加圧空
気は、イオン化された帯電空気であり、該帯電空気によ
り前記プラスチック容器或いは前記ガスバリア被膜の微
粉末の帯電を除去することを特徴とする。前記帯電空気
は前記プラスチック容器内に導入されると、該プラスチ
ック容器或いは前記微粉末の帯電を中和して除去するこ
とができる。そこで、該帯電空気を加圧しておくことに
より、該プラスチック容器の帯電の除去と同時に前記微
粉末を除去することができる。

【００１５】前記帯電空気は、交流コロナ放電または直
流コロナ放電によりイオン化されているものを用いるこ
とができる。このようにイオン化により帯電された加圧
空気は、コンプレッサ等により供給された加圧空気をコ
ロナ放電によりイオン化して噴出する形式の市販のイオ
ン生成装置により容易に得ることができる。

【００１６】また、本発明の清浄化方法において、前記
プラスチック容器は、前記ガスバリア被膜の形成前に予
め帯電を除去されていることを特徴とする。このように
することにより、プラズマＣＶＤ法による前記プラスチ
ック容器の帯電を低減することができ、前記微粉末が付
着しにくくすると共に、前記ガスバリア被膜の形成後の
該プラスチック容器の帯電の除去をさらに容易にするこ
とができる。

【００１７】また、本発明の清浄化方法において、前記
加圧空気は、２．０〜１０ｋｇ／ｃｍ²の範囲の圧力に
加圧されていることを特徴とする。前記加圧空気の圧力
が２．０ｋｇ／ｃｍ²未満のときには、前記微粉末の除
去に長時間を要することがある。また、前記加圧空気の
圧力が１０ｋｇ／ｃｍ²を超えると、加圧空気の圧力に
抗してプラスチック容器を保持することが困難になった
り、該加圧空気の圧力自体を維持することが難しくな
り、作業性が低下する。

【００１８】

【発明の実施の形態】次に、添付の図面を参照しながら
本発明の実施の形態についてさらに詳しく説明する。図
１はプラズマＣＶＤ装置の構成例を示す説明的断面図で
あり、図２は本実施形態の清浄化方法を示す説明的断面
図である。また、図３は図１示のプラズマＣＶＤ装置に
供給される前のプラスチック容器の搬送路の構成を示す
説明的断面図である。

【００１９】本実施形態の清浄化方法は、図１示のプラ
ズマＣＶＤ装置１により内面にガスバリア被膜が形成さ
れたプラスチック容器に適用される。

【００２０】図１において、プラズマＣＶＤ装置１は、
パイレックス（登録商標）ガラスで形成された側壁２
と、昇降自在の底板３とにより画成された処理室４を備
え、側壁２に臨む位置にマイクロ波発生装置５を備え
る。処理室４の上方には、側壁６と上壁７とにより画成
された排気室８が備えられ、処理室４との間には隔壁９
が設けられている。

【００２１】底板２は、ポリエチレンテレフタレート樹
脂製ボトル等のプラスチック容器１０を配置して上昇移
動することにより、プラスチック容器１０を処理室４内
に収納する。このようにして収納されたプラスチック容
器１０は、マスキング部材１１を介してプラスチック容
器１０の内部が隔壁９に設けられた排気孔１２と連通す
るように配置される。マスキング部材１１は上部突出部
１３が排気孔１２に密に挿入され、マスキング部１４が
プラスチック容器１０の口部に所定の間隔を存して挿入
される。

【００２２】処理室４と排気室８とは隔壁９に設けられ
た通気口１５のバルブ１６を介して連通しており、排気
室８の側壁６に形成された開口１７は図示しない真空装
置に接続されている。排気室８の上壁７にはシール１８
を介してガス導入管１９が支持されており、ガス導入管
１９は上壁７とマスキング部材１１とを貫通して、プラ
スチック容器１０内に挿入される。

【００２３】図１示のプラズマＣＶＤ装置１では、ま
ず、プラスチック容器１０を載置した底板２を上昇移動
せしめ、処理室４内にプラスチック容器１０を収納す
る。次に、図示しない真空装置を作動して、排気室７内
を排気し、これにより排気孔１２及び通気口１５を介し
て処理室４及びプラスチック容器１０の内部を１〜１０
^-2Ｐａ、好ましくは１０^-1〜１０^-2Ｐａの真空度に減圧
する。

【００２４】次に、前記減圧下に、ガス導入管１９から
プラスチック容器１０内に、原料ガスを供給する。前記
原料ガスとしては、アモルファス炭素からなる被覆層を
形成する場合には常温で気体または液体の脂肪族炭化水
素、芳香族炭化水素、含酸素炭化水素類、含窒素炭化水
素類が用いられ、珪素含有化合物等からなる被覆層を形
成する場合には、シラン、アルキルシラン、アルキルシ
ロキサン、アルコキシシラン等の珪素含有化合物と、酸
素等の酸化性ガスとの混合物が用いられる。

【００２５】そして、前記原料ガスが供給されている
間、マイクロ波発生装置５を作動して、ＵＨＦ領域の周
波数、例えば２．４５ＧＨｚ、４００Ｗのマイクロ波を
印加することにより、前記原料ガスを電磁励起してプラ
ズマを発生せしめ、プラスチック容器１０の内壁にアモ
ルファス炭素被覆層または珪素含有化合物被覆層等から
なるガスバリア被膜（図示せず）を形成する。

【００２６】次に、前記原料ガスの供給が終了したなら
ば、マイクロ波発生装置５を停止すると共に、処理室４
及びプラスチック容器１０内を大気圧に戻し、底板３を
降下させてプラスチック容器１０を取り出すことによ
り、処理を終了する。

【００２７】図１示のプラズマＣＶＤ装置１によれば、
ガス導入管１９からプラスチック容器１０内に導入され
る原料ガスは、プラスチック容器１０の口部方向に流れ
るため、口部内壁に形成される前記ガスバリア被膜が厚
膜化する傾向があるが、該口部にはマスキング部材１１
が装着されているので、前記傾向を低減することができ
る。しかし、マスキング部材１１及び該口部近傍のガス
導入管１９の表面には、前記アモルファス炭素被覆層ま
たは珪素含有化合物被覆層等が形成され、前記処理の繰
り返しにより次第に厚膜になる。この結果、マスキング
部材１１及びガス導入管１９の清掃を行わずに前記処理
を繰り返すと、マスキング部材１１及びガス導入管１９
をプラスチック容器１０の口部に装着したり取り外した
りする際に、前記厚膜化したアモルファス炭素被覆層ま
たは珪素含有化合物被覆層等が剥離、脱落し、微粉末と
なってプラスチック容器１０内部に侵入する。

【００２８】そこで、次に、プラズマＣＶＤ装置１から
取り出されたプラスチック容器１０の内面を清浄化す
る。前記清浄化は、図２示のように、プラスチック容器
１０の口部にイオン生成装置２１のノズル２２を挿入
し、帯電した加圧空気をプラスチック容器１０の内部に
導入して、前記微粉末をプラスチック容器１０の外部に
排出することにより行う。

【００２９】図２において、プラスチック容器１０は、
口部下方で保持部材２３に保持されており、保持部材２
３上には口部を囲繞する排気室２４が備えられ、排気導
管２５を介して図示しない真空装置に接続されている。

【００３０】イオン生成装置２１は内部に突起状の放電
電極（図示せず）と、該放電電極に対向して設けられた
平板状の接地電極（図示せず）とを備え、高圧ケーブル
２６を介して接続された圧電トランス２７から供給され
る直流または交流電流を両電極に通じることにより、両
電極間にコロナ放電を生じさせる。そして、前記コロナ
放電により、図示しないコンプレッサから空気導管２８
を介して供給される加圧空気をイオン化により帯電させ
て、ノズル２２から噴出せしめる。

【００３１】ノズル２２は、排気室２４を介してプラス
チック容器１０内部に挿入され、イオン生成装置２１と
共に上下動自在に設けられている。ノズル２２は、前記
のようにイオン化された加圧空気の帯電を低減しない材
料を用いることが好ましく、例えばステンレス、アルミ
ニウム、プラスチック等を用いることができる。

【００３２】また、ノズル２２の先端は、前記微粉末を
プラスチック容器１０の外部に排出するために、前記加
圧空気を噴出させたときに前記微粉末を飛散させやすい
形状とされていることが好ましい。前記先端が前記微粉
末を飛散させやすい形状とされているノズル２２とし
て、例えば、先端部に四角錐台形状の空気噴出部材２９
を備え、空気噴出部材２９は四角錐台形の各側面及びプ
ラスチック容器１０の底部に対向する面に設けられた噴
気孔３０から、各方向に均等に加圧空気を噴出するよう
にしたものを挙げることができる。

【００３３】この結果、プラスチック容器１０及び前記
微粉末は、ノズル２２から噴出される帯電した加圧空気
により帯電が除去されると共に、帯電の除去により付着
力を失った前記微粉末が該加圧空気に伴われてプラスチ
ック容器１０の外部に排出される。前記加圧空気は、前
記微粉末を短時間でプラスチック容器１０の外部に排出
するために、１．５ｋｇ／ｃｍ²以上、より好ましくは
２．０〜１０ｋｇ／ｃｍ²の範囲の圧力とする。前記加
圧空気は、前記範囲の圧力とすることにより、そのまま
でも自発的にプラスチック容器１０の口部から外部に流
出するが、排気室２４、排気導管２５を介して吸引され
ることにより、前記微粉末を容易にプラスチック容器１
０の外部に排出することができる。

【００３４】前記ノズル２２及び圧電トランス２７を備
え、ノズル２２から帯電した加圧空気を噴出することが
できるイオン生成装置２１としては、市販の装置を使用
することができる。

【００３５】また、前記加圧空気を作用させるときに、
プラスチック容器１０の外部には、プラスチック容器１
０の外面に沿って棒状または紐状のイオン生成装置３１
が設けられていることが好ましい。前記棒状または紐状
のイオン生成装置３１は、イオン生成装置２１と同様に
内部に突起状の放電電極と、該放電電極に対向して設け
られた平板状または線状の接地電極を備えており、図示
しない圧電トランスから供給される直流または交流電流
を両電極に通じることにより、両電極間にコロナ放電を
生じさせる。そして、前記コロナ放電により、近傍の空
気をイオン化して帯電せしめる。従って、プラスチック
容器１０の外面に沿ってイオン生成装置３１を設けるこ
とにより、該イオン生成装置３１が生成する帯電した空
気が、ノズル２２からプラスチック容器１０内部に噴出
される帯電した加圧空気と協働し、プラスチック容器１
０の帯電の除去をさらに効果的に行うことができる。

【００３６】また、プラスチック容器１０は、図３に示
すように、口部下方で保持部材３２に保持されて、搬送
され、図１示のプラズマＣＶＤ装置１に供給される。そ
こで、プラズマＣＶＤ装置１に供給される前のプラスチ
ック容器１０の搬送路３３に、プラスチック容器１０の
外面に沿って棒状または紐状のイオン生成装置３４を設
けるようにしてもよい。イオン生成装置３４はイオン生
成装置３１と同一の構成であり、プラズマＣＶＤ装置１
に供給される前のプラスチック容器１０の帯電を除去す
ることができる。

【００３７】このようにすることにより、プラズマＣＶ
Ｄ装置１によるプラスチック容器１０の帯電を低減する
ことができ、図２示のようにして清浄化する際に、前記
微粉末の除去をさらに容易に行うことができる。

【００３８】また、搬送路３３では前記イオン生成装置
３４に替えて、図２示のイオン生成装置２１と同一の装
置を設け、保持部材３２に保持されて搬送されるプラス
チック容器１０の外面に帯電した加圧空気を吹き付ける
ようにしてもよい。

【００３９】前記各イオン生成装置２１，３１，３４
は、いずれも直流または交流電流によりコロナ放電を行
うことができるが、正負のイオンが交互に生成され、イ
オンバランスの制御が容易であることから、交流電流に
よりコロナ放電を行うことが好ましい。

【００４０】次に実施例を示す。

【００４１】

【実施例１】本実施例では、プラスチック容器１０とし
て５００ｍｌのポリエチレンテレフタレート樹脂製ボト
ル（以下、ペットボトルと略記する）を用い、図１示の
プラズマＣＶＤ装置１により、ペットボトル１０の内面
にガスバリア被膜を形成した。前記ガスバリア被膜の形
成は、ペットボトル１０を処理室４に収納した後、処理
室４及びペットボトル１０の内部を減圧し、原料ガスと
して少量のアセチレンを供給しながら、マイクロ波発生
装置５によりマイクロ波を短時間印加することにより行
った。この結果、ペットボトル１０の内面には、アモル
ファスカーボンからなるガスバリア被膜が１０００オン
グストローム（１００ｎｍ）の厚さで形成された。

【００４２】前記被膜形成処理を多数回繰り返したとこ
ろ、ペットボトル１０の口部近傍のガス導入管１９に前
記アモルファスカーボンが付着し、次第に厚膜となっ
た。前記ガス導入管１９を清掃せずに、さらに前記被膜
形成処理を繰り返したところ、前記アモルファスカーボ
ンが剥離、脱落し、微粉末となって、極少量の該微粉末
がペットボトル１０の内部に侵入した。

【００４３】ペットボトル１０は弱く帯電しており、前
記アモルファスカーボンの微粉末は、ペットボトル１０
の内面に強固に付着しており、加圧水洗では除去できた
が、イオン化していない単なる加圧空気を導入しただけ
では除去に長時間を要した。

【００４４】そこで、次に、前記アモルファスカーボン
の微粉末が付着したペットボトル１０を試料として、図
２のようにして清浄化処理を行った。前記清浄化処理
は、イオン生成装置２１を用い、交流コロナ放電により
帯電された加圧空気を４．５ｋｇ／ｃｍ²の圧力でペッ
トボトル１０内部に導入することにより行った。

【００４５】この結果、帯電していない単なる加圧空気
を導入した場合に比較して、極く短時間で前記アモルフ
ァスカーボンの微粉末を除去することができた。

【００４６】

【実施例２】本実施例では、プラズマＣＶＤ装置１に供
給される前のペットボトル１０を図３示の搬送路３３に
おいてイオン生成装置３４により帯電を除去し、該ペッ
トボトル１０を用いた以外は、実施例１と全く同一にし
て、プラズマＣＶＤ装置１で前記被膜形成処理を行っ
た。

【００４７】本実施例においても前記被膜形成処理を多
数回繰り返したところ、実施例１と同様にペットボトル
１０の口部近傍のガス導入管１９に前記アモルファスカ
ーボンが付着し、次第に厚膜となった。前記ガス導入管
１９を清掃せずに、さらに前記被膜形成処理を繰り返し
たところ、前記アモルファスカーボンが剥離、脱落し、
微粉末となって、ペットボトル１０の内部に微量の前記
微粉末が侵入した。

【００４８】本実施例では、予め帯電が除去されたペッ
トボトル１０を用いて前記被膜形成処理を行ったので、
プラズマＣＶＤ法による帯電が低減された。この結果、
前記アモルファスカーボンの微粉末は加圧水洗で除去で
き、帯電していない単なる加圧空気を導入しただけで
も、実施例１で帯電していない単なる加圧空気を導入し
ただけの場合に比較してやや短い時間で除去することが
できた。

【００４９】次に、前記アモルファスカーボンの微粉末
が付着したペットボトル１０を試料として、実施例１と
全く同一にして清浄化処理を行ったところ、実施例１の
前記清浄化処理よりもさらに短時間で前記アモルファス
カーボンの微粉末を除去することができた。

【００５０】

【実施例３】本実施例では、図３示の搬送路３３におい
てイオン生成装置３４に替えて、実施例１と同一のイオ
ン生成装置２１を用い、交流コロナ放電により帯電され
た加圧空気を４．５ｋｇ／ｃｍ²の圧力でペットボトル
１０の外面に吹き付けるようにして、プラズマＣＶＤ装
置１に供給される前のペットボトル１０の帯電を除去し
た以外は、実施例２と全く同一にして、被膜形成処理を
行った。

【００５１】本実施例においても前記被膜形成処理を多
数回繰り返したところ、実施例１と同様にペットボトル
１０の口部近傍のガス導入管１９に前記アモルファスカ
ーボンが付着し、次第に厚膜となった。前記ガス導入管
１９を清掃せずに、さらに前記被膜形成処理を繰り返し
たところ、前記アモルファスカーボンが剥離、脱落し、
微粉末となって、ペットボトル１０の内部に微量の前記
微粉末が侵入した。

【００５２】本実施例では、予め帯電が除去されたペッ
トボトル１０を用いて前記被膜形成処理を行ったので、
プラズマＣＶＤ法による帯電が低減された。この結果、
実施例２と同様に、前記アモルファスカーボンの微粉末
は加圧水洗で除去でき、帯電していない単なる加圧空気
を導入しただけでも、実施例２と同程度の時間で除去す
ることができた。

【００５３】次に、前記アモルファスカーボンの微粉末
が付着したペットボトル１０を試料として、実施例１と
全く同一にして清浄化処理を行ったところ、実施例２と
同様に、実施例１の前記清浄化処理よりもさらに短時間
で前記アモルファスカーボンの微粉末を除去することが
できた。

【００５４】尚、前記各実施例では、アモルファスカー
ボンからなるガスバリア被膜を形成する場合について説
明しているが、珪素含有化合物からなるガスバリア被膜
を形成する場合にも同様の結果を得ることができる。

【００５５】また、前記実施形態では電磁励起手段とし
てマイクロ波によるプラズマＣＶＤ法を用いる場合につ
いて説明しているが、プラスチック容器１０の内外面に
沿って電極を配設し、該電極に高周波を印加してプラズ
マを発生させるプラズマＣＶＤ法を用いる場合にも同様
の結果を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】プラズマＣＶＤ装置の構成例を示す説明的断面
図。

【図２】本発明の清浄化方法の一実施形態を示す説明的
断面図。

【図３】プラズマＣＶＤ装置に供給される前のプラスチ
ック容器の搬送路の構成を示す説明的断面図。

【符号の説明】

１…プラズマＣＶＤ装置、２１，３１，３４…イオン
生成装置、１０…プラスチック容器。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者安曽俊裕埼玉県岩槻市上野４−５−15 北海製罐株式会社中央研究所内 (72)発明者宮崎俊三埼玉県岩槻市上野４−５−15 北海製罐株式会社中央研究所内 (72)発明者松島浩二埼玉県岩槻市上野４−５−15 北海製罐株式会社中央研究所内Ｆターム(参考） 3B116 AA23 AB08 AB43 BB88 BB89 BB90 BC01 CC01 CD11 CD31 4K030 BA27 BA44 BB05 CA07 CA15 DA08

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】プラズマＣＶＤ法により内面にガスバリア
被膜を形成したプラスチック容器内面の清浄化方法であ
って、前記ガスバリア被膜の形成後、該ガスバリア被膜が形成
されたプラスチック容器或いは前記ガスバリア被膜の微
粉末の帯電を除去し、該プラスチック容器内に加圧空気
を導入することを特徴とするプラスチック容器内面の清
浄化方法。
【請求項２】前記加圧空気は、イオン化された帯電空気
であり、該帯電空気により前記プラスチック容器或いは
前記ガスバリア被膜の微粉末の帯電を除去することを特
徴とする請求項１記載のプラスチック容器内面の清浄化
方法。
【請求項３】前記帯電空気は、交流コロナ放電または直
流コロナ放電によりイオン化されていることを特徴とす
る請求項２記載のプラスチック容器内面の清浄化方法。
【請求項４】前記プラスチック容器は、前記ガスバリア
被膜の形成前に予め帯電を除去されていることを特徴と
する請求項１乃至請求項３のいずれか１項記載のプラス
チック容器内面の清浄化方法。
【請求項５】前記加圧空気は、２．０〜１０ｋｇ／ｃｍ
²の範囲の圧力に加圧されていることを特徴とする請求
項１乃至請求項４のいずれか１項記載のプラスチック容
器内面の清浄化方法。