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Description
表面処理層を形成する段階は、銅箔を金属、アンモニウム化合物及び錯化剤を含む表面処理液に浸漬して電解して遂行されることができる。
表面処理液に含まれるアンモニウム化合物は、硫酸アンモニウムであることができるし、錯化剤はクエン酸、グリシン及びピロリン酸のうちで少なくともいずれか一つであることができる。
金属は1乃至50g/lの含量で含まれて、アンモニウム化合物は1乃至100g/lの含量で含まれて、錯化剤は1乃至100g/lの含量で含まれることができる。
本発明のもう一つの側面によれば、銅箔を準備する段階と、及び銅箔の少なくとも一面に金属酸化物を含む表面処理層を形成する段階と、を含む銅箔の表面処理方法が提供される。すなわち、本実施例では表面が未処理された未処理銅箔の少なくとも一面に金属酸化物を含む表面処理層を形成して表面処理された銅箔を製造する。表面処理層を形成する段階は、銅箔を金属、アンモニウム化合物及び錯化剤を含む表面処理液に浸漬して電解して遂行されることができる。
本発明による銅箔の表面処理方法では、銅箔を金属と、アンモニウム化合物と、及び錯化剤を含む表面処理液に浸漬して電解して金属酸化物を含む表面処理層を形成する。金属酸化物に形成される金属はCu、Co、Ni、Fe、Sn、Zn、In及びWのうちで少なくともいずれか一つが使用される。
表面処理液にはアンモニウム化合物及び錯化剤が含まれるが、アンモニウム化合物は硫酸アンモニウムであることができるし、錯化剤はクエン酸、グリシン、ピロリン酸、及び硼酸でなされた群から選択された一つ以上であることがあるが、必ずこれらに限定されないし、当該技術分野で錯化剤で使用することができるものならすべて可能である。クエン酸は金属塩形態であることができる。例えば、クエン酸の金属塩はクエン酸カリウム、クエン酸ナトリウム、クエン酸鉄、クエン酸カルシウム、クエン酸三ナトリウム、クエン酸鉄アンモニウムまたはこれらの混合物であることができる。クエン酸の金属塩はめっき浴に添加されればシトレート(citrate)イオンになる。シトレートイオンはめっき液に含まれた金属が金属酸化物形態でメッキされることを手伝ってくれる役割をして、めっき浴の電圧を低めてくれる役割をする。
アンモニウム化合物は1乃至100g/lの含量で含まれて、錯化剤は1乃至100g/lの含量で含まれることができる。アンモニウム化合物はアンモニア水、硫酸アンモニウム、塩化アンモニウム及び酢酸アンモニウムのうちで少なくともいずれか一つであることができるが、これらに限定されないし、当該技術分野で使用することができるものならすべて可能である。
耐熱及び耐化学性処理は、例えば、ニッケル、スズ、亜鉛、クロム、モリブデン及びコバルトなどの金属のうちでいずれか一つまたはこれらの合金をスパッタリングまたは電気メッキ、無電解メッキによって金属箔上に薄膜形成することで実施することができる。コスト面では電気メッキが望ましい。金属イオンの析出を易しくするためにシトラ酸塩、酒石酸塩、スルファミン酸などの錯化剤を必要量添加することができる。
Claims (3)
- 前記表面処理層を形成する段階は、
前記銅箔を金属、アンモニウム化合物及び錯化剤を含む表面処理液に浸漬して電解する段階である請求項9に記載の銅箔の表面処理方法。 - 前記錯化剤はクエン酸、グリシン及びピロリン酸のうちの少なくともいずれか一つの請求項10に記載の銅箔の表面処理方法。
- 前記錯化剤は1乃至100g/lの含量で含まれるものである請求項10に記載の銅箔の表面処理方法。
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