JP2017132853A - 含フッ素エラストマーの基材への接着方法 - Google Patents
含フッ素エラストマーの基材への接着方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017132853A JP2017132853A JP2016012382A JP2016012382A JP2017132853A JP 2017132853 A JP2017132853 A JP 2017132853A JP 2016012382 A JP2016012382 A JP 2016012382A JP 2016012382 A JP2016012382 A JP 2016012382A JP 2017132853 A JP2017132853 A JP 2017132853A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- formula
- integer
- component
- elastomer composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Paints Or Removers (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
Abstract
Description
[1]
基材表面を予め酸素を含む雰囲気中でプラズマ照射することにより該基材表面を改質させ、その表面上に光硬化性フルオロポリエーテル系エラストマー組成物を塗布し、該組成物を光照射して硬化させた後、10〜120℃で静置する工程を含むことを特徴とする該基材に該エラストマー組成物の硬化物を接着させる方法。
[2]
光硬化性フルオロポリエーテル系エラストマー組成物が、
(A)1分子中に2個以上のアルケニル基を有し、且つ主鎖中にパーフルオロポリエーテル構造を有する直鎖状ポリフルオロ化合物、
(B)1分子中にケイ素原子に直結した水素原子を2個以上有する含フッ素オルガノ水素ポリシロキサン、
(C)光活性型ヒドロシリル化反応触媒、
(D)疎水性シリカ粉末、
及び
(E)1分子中にケイ素原子に直結した水素原子と、炭素原子又は炭素原子と酸素原子を介してケイ素原子に結合したエポキシ基及び/又はトリアルコキシシリル基をそれぞれ1個以上有する(B)成分以外のオルガノポリシロキサン
を含有するものである[1]に記載の接着方法。
[3]
(A)成分が、下記式(1)で表される直鎖状フルオロポリエーテル化合物である[2]に記載の接着方法。
CH2=CH−(X)a−Rf1−(X’)a−CH=CH2 (1)
[式(1)中、Xは−CH2−、−CH2O−、−CH2OCH2−又は−Y−NR1−CO−〔ここで、Yは−CH2−、−Si(CH3)2CH2CH2CH2−、−Si(CH3)(CH=CH2)CH2CH2CH2−、−Si(CH=CH2)2CH2CH2CH2−又は下記構造式(Z)
で示されるo−、m−又はp−シリルフェニレン基であり、R1は水素原子又は非置換若しくは置換の1価炭化水素基である。〕であり、X’は−CH2−、−OCH2−、−CH2OCH2−又は−CO−NR2−Y’−〔ここで、Y’は−CH2−、−CH2CH2CH2Si(CH3)2−、−CH2CH2CH2Si(CH3)(CH=CH2)−、−CH2CH2CH2Si(CH=CH2)2−又は下記構造式(Z’)
で示されるo−、m−又はp−シリルフェニレン基であり、R2は水素原子又は非置換若しくは置換の1価炭化水素基である。〕である。aは独立に0又は1である。Rf1は下記式(i)又は(ii)
で表される2価のパーフルオロポリエーテル基である。]
[4]
光硬化性フルオロポリエーテル系エラストマー組成物が、更に(F)成分として、ヒドロシリル化反応の反応制御剤を含む[2]又は[3]に記載の接着方法。
[5]
光硬化性フルオロポリエーテル系エラストマー組成物が、更に(G)成分として、カルボン酸無水物を含む[2]〜[4]のいずれかに記載の接着方法。
[6]
基材が金属、ガラス、セラミック又は合成樹脂である[1]〜[5]のいずれかに記載の接着方法。
[7]
該組成物を10〜120℃において近紫外線により光照射するものである[1]〜[6]のいずれかに記載の接着方法。
本発明の基材に光硬化性フルオロポリエーテル系エラストマー組成物の硬化物を接着させる方法は、基材表面を予め酸素を含む雰囲気中でプラズマ照射することにより該基材表面を改質させ、その表面上に光硬化性フルオロポリエーテル系エラストマー組成物を塗布し、該組成物を光照射して硬化させた後、10〜120℃で静置する工程を含むことを特徴とする。
光硬化性フルオロポリエーテル系エラストマー組成物
本発明に用いる光硬化性フルオロポリエーテル系エラストマー組成物は、次の(A)、(B)、(C)、(D)及び(E)成分を含有するものが好ましい。
(A)1分子中に2個以上のアルケニル基を有し、且つ主鎖中に直鎖状のパーフルオロポリエーテル構造を有する直鎖状ポリフルオロ化合物、
(B)1分子中にケイ素原子に直結した水素原子を2個以上有する含フッ素オルガノ水素ポリシロキサン、
(C)光活性型ヒドロシリル化反応触媒、
(D)疎水性シリカ粉末、
及び
(E)1分子中にケイ素原子に直結した水素原子と、炭素原子又は炭素原子と酸素原子を介してケイ素原子に結合したエポキシ基及び/又はトリアルコキシシリル基をそれぞれ1個以上有する(B)成分以外のオルガノポリシロキサン。
光硬化性フルオロポリエーテル系エラストマー組成物における(A)成分は、1分子中に2個以上のアルケニル基を有し、且つ主鎖中に直鎖状のパーフルオロポリエーテル構造を有する直鎖状ポリフルオロ化合物であり、下記式(1)で表される直鎖状フルオロポリエーテル化合物が好ましい。
CH2=CH−(X)a−Rf1−(X’)a−CH=CH2 (1)
[式(1)中、Xは−CH2−、−CH2O−、−CH2OCH2−又は−Y−NR1−CO−〔ここで、Yは−CH2−、−Si(CH3)2CH2CH2CH2−、−Si(CH3)(CH=CH2)CH2CH2CH2−、−Si(CH=CH2)2CH2CH2CH2−又は下記構造式(Z)
で示されるo−、m−又はp−シリルフェニレン基であり、R1は水素原子又は非置換若しくは置換の1価炭化水素基である。〕であり、X’は−CH2−、−OCH2−、−CH2OCH2−又は−CO−NR2−Y’−〔ここで、Y’は−CH2−、−CH2CH2CH2Si(CH3)2−、−CH2CH2CH2Si(CH3)(CH=CH2)−、−CH2CH2CH2Si(CH=CH2)2−又は下記構造式(Z’)
で示されるo−、m−又はp−シリルフェニレン基であり、R2は水素原子又は非置換若しくは置換の1価炭化水素基である。〕である。aは独立に0又は1である。Rf1は下記式(i)又は(ii)
で表される、好適には分岐構造を有する2価フルオロオキシアルキレン単位である−[CF2CF(CF3)O]−を含有する、2価の直鎖状パーフルオロポリエーテル基である。]
(B)成分は、1分子中に含フッ素有機基を1個以上、好ましくは1〜10個有し、且つケイ素原子に直結した水素原子(即ち、Si−Hで示されるヒドロシリル基)を2個以上、好ましくは3〜50個有する含フッ素オルガノ水素ポリシロキサンである。(B)成分は、上記(A)成分の架橋剤及び/又は鎖長延長剤として機能するものであり、また、(A)成分との相溶性、分散性、硬化後の均一性等の観点から、含フッ素有機基として、1分子中に1個以上の1価のパーフルオロアルキル基、1価のパーフルオロオキシアルキル基、2価のパーフルオロアルキレン基、又は2価のパーフルオロオキシアルキレン基等のフッ素含有基を有するものが好ましい。
なお、(B)成分は、エポキシ基及びトリアルコキシシリル基を含有しないものであることから、後述する(E)成分とは相違する。
CgF2g+1−
−CgF2g−
(式中、gは1〜20の整数、好ましくは2〜10の整数である。)
(式中、d及びeはそれぞれ1〜50の整数、好ましくは1〜40の整数である。)
−CH2CH2−、
−CH2CH2CH2−、
−CH2CH2CH2OCH2−、
−CH2CH2CH2−NH−CO−、
−CH2CH2CH2−N(Ph)−CO−、
−CH2CH2CH2−N(CH3)−CO−、
−CH2CH2CH2−N(CH2CH3)−CO−、
−CH2CH2−Si(CH3)2−Ph’−N(CH3)−CO−、
−CH2CH2CH2−Si(CH3)2−Ph’−N(CH3)−CO−、
−CH2CH2CH2−O−CO−
(式中、Phはフェニル基であり、Ph’はフェニレン基である。)
これらの含フッ素オルガノ水素ポリシロキサンは、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用できる。
(C)成分は、光活性型ヒドロシリル化反応触媒である。光活性型ヒドロシリル化反応触媒は、光、特に300〜400nmの紫外線の照射によって活性化され、(A)成分中のアルケニル基と、(B)成分中のヒドロシリル基との付加反応を促進する触媒である。この光活性型ヒドロシリル化反応触媒は、主に白金族系金属触媒及びニッケル系金属触媒が挙げられ、白金族系金属触媒としては白金系、パラジウム系、ロジウム系の金属錯体化合物、ニッケル系金属触媒としてはニッケル系、鉄系、コバルト系の金属錯体化合物が挙げられる。中でも白金系金属錯体化合物は、比較的入手し易く且つ良好な触媒活性を示すため好ましい。
(D)成分は、疎水性シリカ粉末であり、光硬化性フルオロポリエーテル系エラストマー組成物から得られる硬化物に適切な物理的強度を付与すると同時に、後述する(E)成分のオルガノポリシロキサンを該組成物中に均一に分散させる作用を有するものである。この(D)成分の疎水性シリカ粉末としては、シリコーンゴム用充填剤として公知のBET比表面積が50m2/g以上、特に50〜400m2/gの微粉末シリカを疎水化処理したものが好適である。
BET比表面積が50m2/g未満の場合は、得られる硬化物の物理的強度が不十分であり、また、(E)成分が均一に分散しないことがある。400m2/gを超えると混練作業が困難となり、(D)成分の分散が不均一になる場合がある。なお、本発明におけるBET比表面積は、DIN 66131に準拠して測定できる。
(E)成分である接着性官能性基を有するオルガノポリシロキサンは、接着性を向上させるための接着剤として配合するものである。このようなオルガノポリシロキサンは、1分子中にケイ素原子に直結した水素原子と、炭素原子又は炭素原子と酸素原子を介してケイ素原子に結合したエポキシ基及び/又はトリアルコキシシリル基をそれぞれ1個以上有するオルガノポリシロキサンであり、好ましくは更に加えてケイ素原子に結合した炭素原子又は炭素原子と酸素原子を含む2価の連結基を介してケイ素原子に結合した1価のパーフルオロアルキル基又は1価のパーフルオロオキシアルキル基を1個以上有するオルガノポリシロキサンである。なお、(E)成分は、エポキシ基及び/又はトリアルコキシシリル基を含有する点で(B)成分と相違する。
−R7−Si(OR8)3
[式中、R7は炭素数1〜10、特に1〜4の2価炭化水素基(アルキレン基等)を示し、R8は炭素数1〜8、特に1〜4の1価炭化水素基(アルキル基等)を示す。]
Cg’F2g’+1−
(式中、g’は1〜20、好ましくは2〜10の整数である。)
F−[CF(CF3)CF2O]f’−Ch’F2h’−
(式中、f’は2〜200、好ましくは2〜100の整数であり、h’は1〜3の整数である。)
−CH2CH2−、
−CH2CH2CH2−、
−CH2CH2CH2OCH2−、
−CH2CH2CH2−NH−CO−、
−CH2CH2CH2−N(CH3)−CO−、
−CH2CH2CH2−N(Ph)−CO−
(但し、Phはフェニル基である。)
等の炭素数2〜12の2価の連結基が挙げられる。
このオルガノポリシロキサンの製造に際しては、反応終了後に目的物質を単離してもよいが、未反応物及び付加反応触媒を除去しただけの混合物を使用することもできる。
(E)成分の配合量は、(A)成分100質量部に対し、0.05〜5.0質量部が好ましく、より好ましくは0.1〜3.0質量部である。0.05質量部未満の場合にはこれを配合する効果が得られず、5.0質量部を超えると組成物の流動性が悪くなり、得られる硬化物の物理的強度が低下し、また硬化性を阻害する可能性がある。
(F)成分は、ヒドロシリル化反応の反応制御剤である。ここで、反応制御剤の例としては、例えば、1−エチニル−1−ヒドロキシシクロヘキサン、3−メチル−1−ブチン−3−オール、3,5−ジメチル−1−ヘキシン−3−オール、3−メチル−1−ペンテン−3−オール、フェニルブチノールなどのアセチレンアルコールや、3−メチル−3−ペンテン−1−イン、3,5−ジメチル−3−ヘキセン−1−イン等のアセチレン化合物、以下の構造式で示される含フッ素アセチレンアルコール化合物、ポリメチルビニルシロキサン環式化合物及び有機リン化合物などが挙げられる。
(G)成分であるカルボン酸無水物は、これを配合することによって(E)成分の接着付与能力を向上させ、光硬化性フルオロポリエーテル系エラストマー組成物の接着性の発現を促進させるためのものである。このような成分としては、エポキシ樹脂用の硬化剤として使用されているものはすべて包含され、室温で固体状でも液体状でもよく、トリアルコキシシリル基を含んでいてもよい。
光硬化性フルオロポリエーテル系エラストマー組成物においては、その実用性を高めるために上記の成分以外にも、可塑剤、粘度調節剤、可撓性付与剤、無機充填剤、接着促進剤、シランカップリング剤等の各種配合剤を必要に応じて添加することができる。これら添加剤の配合量は、本発明の目的を損なわない範囲、組成物の特性及び得られる硬化物の物性を損なわない限りにおいて任意である。
[式中、X’は上記(A)成分の式(1)の化合物中のX’の定義と同じであり、aは0又は1であり、Rf2は、下記式(iii)である。
(式中、D1及びD2は、それぞれ独立に式:CsF2s+1−(sは0〜3)で表される基であり、c1は1〜200の整数、好ましくは2〜100の整数であり、且つ、c1は、好適には、前記(A)成分のRf1基に関するp+q(平均)及びrの和、並びにu及びvの和のいずれの和よりも小さい。)
(式中、D3は式:CsF2s+1−(sは0〜3)で表される基であり、d1及びe1はそれぞれ1〜200の整数、好ましくは1〜100の整数であり、且つ、d1とe1の和は、好適には、前記(A)成分のRf1基に関するp+q(平均)及びrの和、並びにu及びvの和のいずれの和以下である。)
(式中、D3は上記と同じであり、f1及びg1はそれぞれ1〜200の整数、好ましくは1〜100の整数であり、且つ、f1とg1の和は、好適には、前記(A)成分のRf1基に関するp+q(平均)及びrの和、並びにu及びvの和のいずれの和以下である。)
CF3−[(OCF2CF2)e1’(OCF2)d1’]−O−CF3
CF3−[(OCF(CF3)CF2)g1’(OCF2)f1’]−O−CF3
(式中、c1’は1〜200の整数であり、d1’は1〜200の整数、e1’は1〜200の整数で、d1’+e1’=2〜201、f1’は1〜200の整数、g1’は1〜200の整数で、f1’+g1’=2〜201である。)
基材と光硬化性フルオロポリエーテル系エラストマー組成物の硬化物との接着方法
本発明の基材に光硬化性フルオロポリエーテル系エラストマー組成物の硬化物(含フッ素エラストマー)を接着させる方法は、以下3つの工程よりなる。つまり、
1.まず、基材表面をプラズマ照射により改質させる工程、
2.次に、表面改質を行った基材上に上記光硬化性フルオロポリエーテル系エラストマー組成物を塗布し、光硬化させる工程、
3.最後に、上記得られた含フッ素エラストマーを一定時間放置することで、プライマー皮膜を介して含フッ素エラストマーを基材に接着させる工程
である。以下、それぞれの工程に関して詳述する。
まず、基材表面を酸素を含む雰囲気中でのプラズマ照射により改質させる。本発明における基材の表面改質方法は、酸素を含む雰囲気中にてプラズマ照射により行われる。なお、プラズマ照射による基材の表面改質とは、一般的に、金属基材やガラス、セラミック等の無機基材に対しては、ゴミや脂分などの有機物を分解・クリーニングする効果が、有機樹脂製の基材に対しては、上記のクリーニング効果に加え、更に、該樹脂表面を分解して基材の表面に凹凸を与えたり、カルボニル基などの極性基を生やしたりする効果(親水性化効果)があると考えられている。
ここで、本発明で用いられる基材は特に限定されないが、例えば、鉄、アルミニウム、ステンレス等の金属、ガラス、セラミック等の無機材料、及びPPS、PBT、PET、ナイロン等の合成樹脂(有機樹脂)などが挙げられる。
また、表面改質の効果を高めるため、上記プラズマ照射を実施する前に、基材表面を有機溶剤等による脱脂処理やプリベーク処理等を行うことが好ましい。
プラズマ処理方法
本発明に用いるプラズマ処理の方法については、大気圧、低圧いずれのプラズマ処理を用いてもよいが、該プラズマ処理は少なくとも酸素を含む雰囲気中で行うことが必要であり、好ましくは空気、より好ましくは酸素を含むガス(例えば、窒素ガス、アルゴンガス等の不活性ガス等)の雰囲気中でプラズマを発生させ表面改質を行うとよい。
また、大気圧プラズマの照射時間は1〜120秒、好ましくは5〜60秒である。照射時間がこれよりも短いと所望の改質効果が得られない可能性があり、逆に長いと作業性低下や基材の劣化を招く可能性がある等の理由から好ましくない。
次に、上記工程1で得られた表面改質を行った基材表面上に、上記光硬化性フルオロポリエーテル系エラストマー組成物を塗布し、該組成物に光照射して硬化させることにより、含フッ素エラストマーを得る。
複数の発光スペクトルを有する光を照射する光源としては、メタルハライドランプ、キセノンランプ、カーボンアーク灯、ケミカルランプ、ナトリウムランプ、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ等のランプ等、窒素等の気体レーザー、有機色素溶液の液体レーザー、無機単結晶に希土類イオンを含有させた固体レーザー等が挙げられる。
上記、基材上で硬化した含フッ素エラストマーを所定時間以上静置することで、基材に含フッ素エラストマーを接着させることができる。ここで十分な時間静置しないと、ゴム弾性を有する硬化物は得られるものの、基材との接着性が不十分になる場合がある。
その際、静置する環境温度は10〜120℃であることが必要である。この温度範囲より低いと接着性の発現により長時間を要することになり、逆にこの温度範囲より高いと基材によっては熱劣化(熱変形・熱変色)を引き起こす可能性があるため好ましくない。
また静置する時間については、環境温度によって左右されるため特に限定されず、適宜選択すればよいが、5分間〜7日間が好ましく、更に10分間〜48時間が好ましく、特に6時間〜48時間が好ましい。
下記式(7)で示されるポリマー(粘度11,000mPa・s、数平均分子量17,500、ビニル基量0.012モル/100g)100部をプラネタリーミキサー内に仕込み、内温を50〜100℃に保持しながら、ジメチルジクロロシランで表面処理された煙霧質シリカ(BET比表面積110m2/g)10部を分割添加した。その後、加熱を停止して1時間減圧下(ゲージ圧;−0.093MPa)で混練した。引き続き混練しながら装置を加熱し、内温が130℃に達してから130〜160℃に保持しながら1時間減圧下(ゲージ圧;−0.093MPa)で熱処理した。次に、内容物を40℃以下に冷却後、内容物を取り出し、三本ロールを2回通してベースコンパウンドを得た。
[調製例1]
上記ベースコンパウンド110部に対して上記式(7)で示されるポリマー100部、下記式(10)で示されるカルボン酸無水物0.5部をプラネタリーミキサー内に仕込み、均一になるまで混合した。これに(メチルシクロペンタジエニル)トリメチル白金(IV)の1,3−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン溶液(白金濃度3.0質量%)0.11部、1−エチニル−1−ヒドロキシシクロヘキサンのトルエン溶液(5.0質量%)0.06部を添加し、均一になるまで混合した。次に下記式(8)で示される含フッ素オルガノ水素ポリシロキサン3.0部(Si−H基量0.0050モル/g)、下記式(9)で示される含フッ素オルガノ水素ポリシロキサン2.6部(Si−H基量0.00683モル/g)、下記式(11)で示される接着付与剤4.4部、下記式(12)で示されるエポキシ基含有シラン化合物0.2部を順次添加し、均一になるように混合した。その後、脱泡操作を行うことにより組成物を調製した。
上記ベースコンパウンド70.0部に、上記式(7)で示されるポリマー63.8部をプラネタリーミキサー内に仕込み、均一になるまで混合した。これに(メチルシクロペンタジエニル)トリメチル白金(IV)の1,3−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン溶液(白金濃度3.0質量%)0.07部、1−エチニル−1−ヒドロキシシクロヘキサンのトルエン溶液(5.0質量%)0.04部を添加し、均一になるまで混合した。次に上記式(8)で示される含フッ素オルガノ水素ポリシロキサン1.6部、上記式(9)で示される含フッ素オルガノ水素ポリシロキサン1.6部、下記式(13)で示される接着付与剤2.5部、下記式(14)で示される接着付与剤0.6部を順次添加し、均一になるように混合した。その後、脱泡操作を行うことにより組成物を調製した。
上記調製例1において、光活性型ヒドロシリル化反応触媒;(メチルシクロペンタジエニル)トリメチル白金(IV)の1,3−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン溶液(白金濃度3.0質量%)0.11部の代わりに、非光活性型ヒドロシリル化反応触媒;白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のエタノール溶液(白金濃度3.0質量%)0.11部に変更した以外は同様にして組成物を調製した。
[参考例1、2]
上記調製例1、2より得られた組成物の遮光中23℃での保存安定性を確認した。その際、保存安定性の評価方法としては、JIS K7117−1に準拠し、TV−10U型回転粘度計(東機産業(株)製)による23℃における初期粘度と23℃×2週間後の粘度変化より評価を行った。その結果を調製例1、2の組成物の組成と共に表1に示す。
上記調製例3より得られた組成物において、上記参考例1、2と同様にして保存安定性を確認した。その結果を調製例3の組成物の組成と共に表1に示す。
[参考例3]
上記調製例1より得られた組成物を、25℃、8mmφのアルミニウム基材上、試料厚み0.5mmで塗布し、UV照射を行い、25℃での弾性率の経時変化を測定した。測定にはTAインスツルメント社製アレスG2を使用し、UV照射にはLumen Dynamics社製OmniCure S2000に320−390nmのバンドパスフィルターを付け、365nmで100mW/cm2のUV照度で45秒間照射を行った。その結果を図1に示す。
上記参考例3において、用いる組成物を調製例2より得られた組成物に変更した。その結果を図1に示す。
[参考例5]
エタノール洗浄による脱脂処理を行ったエポキシガラス、PPS、PBT及びPETの基材表面に大気圧プラズマ処理(浅草製作所社製プラズマシャワー照射装置、照射距離;3cm、照射時間;20秒)を実施し、水接触角を測定した。
なお、水接触角は、自動接触角計(協和界面科学社製)を用いて測定した。その結果を表2に示す。
上記参考例5において、プラズマ処理を低圧プラズマ照射装置(ヤマト科学社製プラズマドライクリーナー、O2/Ar=80cc/20cc、RF出力;250W、照射時間;30秒)に変更した以外は同様に試験を行った。その結果を表2に示す。
上記参考例5において、エタノール洗浄による脱脂処理のみ行った基材の水接触角を測定した。その結果を表2に示す。
[実施例1]
上記参考例5と同様に大気圧プラズマ処理を行ったエポキシガラス、PPS、PBT及びPETの基材上に上記調製例1より得られた光硬化性フルオロポリエーテル系エラストマー組成物を約2gポッティングし、UV−LED照射器(365nmタイプ、CCS社製)を用いて光照射を行った。その際、365nmで100mW/cm2のUV照度で23℃×90秒間照射を行った。光照射後、23℃×24時間静置し、その後各基材への接着性を確認した。ゴムの凝集破壊が確認された場合は○、界面剥離が確認された場合は×で評価した。なお、接着性の評価基準として、基材上のゴム硬化物層(含フッ素エラストマー層)をスパチュラで削り取って、基材とゴム硬化物層との接着界面を目視にて観察し、ゴム硬化物層の表層部だけが削れて、深部(基材とゴム硬化物層との界面)が基材上に残っていれば「凝集破壊」、ゴム硬化物層の全体が深部(基材との界面)から根こそぎ削れて、基材上にゴム硬化物層が全く残らなかったら「界面剥離」とした。その結果を表3に示す。
上記実施例1において、使用する光硬化性フルオロポリエーテル系エラストマー組成物を調製例2で作製したものに変更した以外は、同様に評価を行った。その結果を表3に示す。
上記実施例1において、使用する基材を上記参考例6と同様に低圧プラズマ処理を行ったものに変更した以外は、同様に評価を行った。その結果を表3に示す。
上記実施例2において、使用する基材を上記参考例6と同様に低圧プラズマ処理を行ったものに変更した以外は、同様に評価を行った。その結果を表3に示す。
上記実施例1において、使用する基材を上記比較参考例2と同様にエタノール洗浄による脱脂処理のみ行ったものに変更した以外は、同様に評価を行った。その結果を表3に示す。
上記実施例2において、使用する基材を上記比較参考例2と同様にエタノール洗浄による脱脂処理のみ行ったものに変更した以外は、同様に評価を行った。その結果を表3に示す。
上記実施例1において、プラズマ処理を低圧プラズマ照射の条件を「O2/Ar=80cc/20cc、RF出力;250W、照射時間;30秒」から「Ar=10cc、RF出力;250W、照射時間;30秒」に変更した以外は、同様に評価を行った。その結果を表3に示す。
上記実施例1において、光照射後の静置条件を5℃×24時間に変更した以外は、同様に評価を行った。その結果を表3に示す。
上記実施例1において、光照射後の静置条件を150℃×24時間に変更した以外は、同様に評価を行った。その結果を表3に示す。
Claims (7)
- 基材表面を予め酸素を含む雰囲気中でプラズマ照射することにより該基材表面を改質させ、その表面上に光硬化性フルオロポリエーテル系エラストマー組成物を塗布し、該組成物を光照射して硬化させた後、10〜120℃で静置する工程を含むことを特徴とする該基材に該エラストマー組成物の硬化物を接着させる方法。
- 光硬化性フルオロポリエーテル系エラストマー組成物が、
(A)1分子中に2個以上のアルケニル基を有し、且つ主鎖中にパーフルオロポリエーテル構造を有する直鎖状ポリフルオロ化合物、
(B)1分子中にケイ素原子に直結した水素原子を2個以上有する含フッ素オルガノ水素ポリシロキサン、
(C)光活性型ヒドロシリル化反応触媒、
(D)疎水性シリカ粉末、
及び
(E)1分子中にケイ素原子に直結した水素原子と、炭素原子又は炭素原子と酸素原子を介してケイ素原子に結合したエポキシ基及び/又はトリアルコキシシリル基をそれぞれ1個以上有する(B)成分以外のオルガノポリシロキサン
を含有するものである請求項1に記載の接着方法。 - (A)成分が、下記式(1)で表される直鎖状フルオロポリエーテル化合物である請求項2に記載の接着方法。
CH2=CH−(X)a−Rf1−(X’)a−CH=CH2 (1)
[式(1)中、Xは−CH2−、−CH2O−、−CH2OCH2−又は−Y−NR1−CO−〔ここで、Yは−CH2−、−Si(CH3)2CH2CH2CH2−、−Si(CH3)(CH=CH2)CH2CH2CH2−、−Si(CH=CH2)2CH2CH2CH2−又は下記構造式(Z)
で示されるo−、m−又はp−シリルフェニレン基であり、R1は水素原子又は非置換若しくは置換の1価炭化水素基である。〕であり、X’は−CH2−、−OCH2−、−CH2OCH2−又は−CO−NR2−Y’−〔ここで、Y’は−CH2−、−CH2CH2CH2Si(CH3)2−、−CH2CH2CH2Si(CH3)(CH=CH2)−、−CH2CH2CH2Si(CH=CH2)2−又は下記構造式(Z’)
で示されるo−、m−又はp−シリルフェニレン基であり、R2は水素原子又は非置換若しくは置換の1価炭化水素基である。〕である。aは独立に0又は1である。Rf1は下記式(i)又は(ii)
で表される2価のパーフルオロポリエーテル基である。] - 光硬化性フルオロポリエーテル系エラストマー組成物が、更に(F)成分として、ヒドロシリル化反応の反応制御剤を含む請求項2又は3に記載の接着方法。
- 光硬化性フルオロポリエーテル系エラストマー組成物が、更に(G)成分として、カルボン酸無水物を含む請求項2〜4のいずれか1項に記載の接着方法。
- 基材が金属、ガラス、セラミック又は合成樹脂である請求項1〜5のいずれか1項に記載の接着方法。
- 該組成物を10〜120℃において近紫外線により光照射するものである請求項1〜6のいずれか1項に記載の接着方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016012382A JP6512120B2 (ja) | 2016-01-26 | 2016-01-26 | 含フッ素エラストマーの基材への接着方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016012382A JP6512120B2 (ja) | 2016-01-26 | 2016-01-26 | 含フッ素エラストマーの基材への接着方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017132853A true JP2017132853A (ja) | 2017-08-03 |
JP6512120B2 JP6512120B2 (ja) | 2019-05-15 |
Family
ID=59502187
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016012382A Active JP6512120B2 (ja) | 2016-01-26 | 2016-01-26 | 含フッ素エラストマーの基材への接着方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6512120B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018088485A1 (ja) * | 2016-11-14 | 2018-05-17 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | 共変性シリコーン |
CN111311888A (zh) * | 2020-01-15 | 2020-06-19 | 广东小天才科技有限公司 | 一种设定半成品放置时长的方法、系统、存储介质及设备 |
WO2021095621A1 (ja) * | 2019-11-11 | 2021-05-20 | 信越化学工業株式会社 | 光硬化性フルオロポリエーテル系エラストマー組成物とその接着方法 |
JP2021512804A (ja) * | 2018-02-08 | 2021-05-20 | シュールフィックス ベスローテン フェンノートシャップ | 固体表面の改質方法 |
JPWO2021172066A1 (ja) * | 2020-02-26 | 2021-09-02 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004182516A (ja) * | 2002-12-02 | 2004-07-02 | Tokai Univ | 固体材料表面の光化学的改質方法 |
JP2007106785A (ja) * | 2005-10-11 | 2007-04-26 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 光硬化性フルオロポリエーテルゴム組成物及びゴム材料 |
JP2007126496A (ja) * | 2005-11-01 | 2007-05-24 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 接着剤組成物 |
JP2009120733A (ja) * | 2007-11-15 | 2009-06-04 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ポリアミド樹脂とフッ素エラストマーとの接着方法 |
JP2011523911A (ja) * | 2008-05-22 | 2011-08-25 | ダウ・コーニング・コーポレイション | 縫製されていない継ぎ目を製造するための方法及び組成物 |
JP2013191687A (ja) * | 2012-03-13 | 2013-09-26 | Sekisui Chem Co Ltd | 光半導体装置の製造方法及び光半導体装置 |
JP2014077070A (ja) * | 2012-10-11 | 2014-05-01 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 接着剤組成物 |
WO2014156662A1 (ja) * | 2013-03-28 | 2014-10-02 | リンテック株式会社 | 剥離フィルム |
JP2014210831A (ja) * | 2013-04-17 | 2014-11-13 | 信越化学工業株式会社 | 光硬化性フルオロポリエーテル系ゲル組成物、その硬化方法、そのゲル硬化物及びその硬化物を用いたゲル製品 |
JP2015523926A (ja) * | 2012-06-11 | 2015-08-20 | モーメンテイブ・パーフオーマンス・マテリアルズ・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | プラスチック複合成形体の製造方法 |
-
2016
- 2016-01-26 JP JP2016012382A patent/JP6512120B2/ja active Active
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004182516A (ja) * | 2002-12-02 | 2004-07-02 | Tokai Univ | 固体材料表面の光化学的改質方法 |
JP2007106785A (ja) * | 2005-10-11 | 2007-04-26 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 光硬化性フルオロポリエーテルゴム組成物及びゴム材料 |
JP2007126496A (ja) * | 2005-11-01 | 2007-05-24 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 接着剤組成物 |
JP2009120733A (ja) * | 2007-11-15 | 2009-06-04 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ポリアミド樹脂とフッ素エラストマーとの接着方法 |
JP2011523911A (ja) * | 2008-05-22 | 2011-08-25 | ダウ・コーニング・コーポレイション | 縫製されていない継ぎ目を製造するための方法及び組成物 |
JP2013191687A (ja) * | 2012-03-13 | 2013-09-26 | Sekisui Chem Co Ltd | 光半導体装置の製造方法及び光半導体装置 |
JP2015523926A (ja) * | 2012-06-11 | 2015-08-20 | モーメンテイブ・パーフオーマンス・マテリアルズ・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | プラスチック複合成形体の製造方法 |
JP2014077070A (ja) * | 2012-10-11 | 2014-05-01 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 接着剤組成物 |
WO2014156662A1 (ja) * | 2013-03-28 | 2014-10-02 | リンテック株式会社 | 剥離フィルム |
JP2014210831A (ja) * | 2013-04-17 | 2014-11-13 | 信越化学工業株式会社 | 光硬化性フルオロポリエーテル系ゲル組成物、その硬化方法、そのゲル硬化物及びその硬化物を用いたゲル製品 |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018088485A1 (ja) * | 2016-11-14 | 2018-05-17 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | 共変性シリコーン |
JP2021512804A (ja) * | 2018-02-08 | 2021-05-20 | シュールフィックス ベスローテン フェンノートシャップ | 固体表面の改質方法 |
JP7340864B2 (ja) | 2018-02-08 | 2023-09-08 | シュールフィックス ベスローテン フェンノートシャップ | 固体表面の改質方法 |
WO2021095621A1 (ja) * | 2019-11-11 | 2021-05-20 | 信越化学工業株式会社 | 光硬化性フルオロポリエーテル系エラストマー組成物とその接着方法 |
JPWO2021095621A1 (ja) * | 2019-11-11 | 2021-05-20 | ||
CN114667317A (zh) * | 2019-11-11 | 2022-06-24 | 信越化学工业株式会社 | 光固化性氟聚醚系弹性体组合物及其粘接方法 |
JP7306472B2 (ja) | 2019-11-11 | 2023-07-11 | 信越化学工業株式会社 | 光硬化性フルオロポリエーテル系エラストマー組成物とその接着方法 |
CN111311888A (zh) * | 2020-01-15 | 2020-06-19 | 广东小天才科技有限公司 | 一种设定半成品放置时长的方法、系统、存储介质及设备 |
JPWO2021172066A1 (ja) * | 2020-02-26 | 2021-09-02 | ||
WO2021172066A1 (ja) * | 2020-02-26 | 2021-09-02 | 信越化学工業株式会社 | 硬化性フルオロポリエーテル系接着剤組成物及び光学部品 |
CN115151621A (zh) * | 2020-02-26 | 2022-10-04 | 信越化学工业株式会社 | 固化性氟聚醚系粘接剂组合物及光学部件 |
JP7444234B2 (ja) | 2020-02-26 | 2024-03-06 | 信越化学工業株式会社 | 硬化性フルオロポリエーテル系接着剤組成物及び光学部品 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6512120B2 (ja) | 2019-05-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6852743B2 (ja) | 光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物及びその硬化物、並びにその硬化方法 | |
JP6020327B2 (ja) | 光硬化性フルオロポリエーテル系ゲル組成物、その硬化方法、そのゲル硬化物及びその硬化物を用いたゲル製品 | |
TWI722198B (zh) | 光硬化性氟聚醚系橡膠組成物及其硬化物、以及抑制氟聚醚系橡膠硬化物的密閉硬化時之發泡的方法 | |
JP2017132853A (ja) | 含フッ素エラストマーの基材への接着方法 | |
JP5811985B2 (ja) | 接着剤組成物 | |
JP5035555B2 (ja) | 室温硬化性フルオロポリエーテルゴム組成物及びその硬化物 | |
JP6459845B2 (ja) | 光硬化性フルオロポリエーテル系エラストマー組成物の接着方法 | |
JP6344256B2 (ja) | 光硬化性フルオロポリエーテル系エラストマー組成物の接着方法 | |
JP7306472B2 (ja) | 光硬化性フルオロポリエーテル系エラストマー組成物とその接着方法 | |
JP6866810B2 (ja) | チキソ性光硬化型フルオロポリエーテル系ゴム組成物及びその硬化物、並びにその硬化方法 | |
JP7087686B2 (ja) | 光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物及びその硬化物 | |
JP7255610B2 (ja) | 光硬化性フルオロポリエーテル系エラストマー組成物の塗膜形成方法 | |
JP7081682B2 (ja) | 硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物及び光学部品 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180125 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20181004 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20181016 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181206 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190312 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190325 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6512120 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |