JP2017121601A5 - - Google Patents
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Description
本発明の好ましい態様は、前記撹拌翼の回転速度を400min−1以上に設定することを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記回転領域の体積Vaは、0.1L〜2.0Lの範囲にあることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記注入率決定工程は、前記数値解析値に基づいて、前記凝集剤の注入率が適正であるか否かを決定し、前記凝集剤の適正な注入率が決定されるまで、前記供給工程、前記注入工程、前記撹拌工程、前記光学的測定工程、および前記数値解析工程を、前記注入率を変えながら繰り返す工程であることを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記注入率の変更は、前記撹拌装置に流入する前記原液の流量および前記原液に注入される前記凝集剤の流量のうちのいずれか一方または両方を変えることであることを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記回転領域の体積Vaは、0.1L〜2.0Lの範囲にあることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記注入率決定工程は、前記数値解析値に基づいて、前記凝集剤の注入率が適正であるか否かを決定し、前記凝集剤の適正な注入率が決定されるまで、前記供給工程、前記注入工程、前記撹拌工程、前記光学的測定工程、および前記数値解析工程を、前記注入率を変えながら繰り返す工程であることを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記注入率の変更は、前記撹拌装置に流入する前記原液の流量および前記原液に注入される前記凝集剤の流量のうちのいずれか一方または両方を変えることであることを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記光学的測定工程は、前記撹拌された原液に光を照射して透過光強度を測定する工程であることを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記光学的測定工程は、前記撹拌された原液に光を照射して散乱光強度を測定する工程であることを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記光学的測定工程は、前記撹拌された原液に光を照射して透過光強度および散乱光強度の両方を測定する工程であることを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記光学的測定工程は、前記撹拌された原液に光を照射して散乱光強度を測定する工程であることを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記光学的測定工程は、前記撹拌された原液に光を照射して透過光強度および散乱光強度の両方を測定する工程であることを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記光学的測定値の分散が、前記数値解析値として用いられることを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記光学的測定値のピーク面積が、前記数値解析値として用いられることを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記光学的測定値の標準偏差が、前記数値解析値として用いられることを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記数値解析値は、前記懸濁物質のフロックの粒径であることを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記光学的測定値のピーク面積が、前記数値解析値として用いられることを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記光学的測定値の標準偏差が、前記数値解析値として用いられることを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記数値解析値は、前記懸濁物質のフロックの粒径であることを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記注入率決定工程は、前記供給工程、前記注入工程、前記撹拌工程、前記光学的測定工程、および前記数値解析工程を、前記注入率を変えながら、複数回繰り返すことにより複数の数値解析値を取得し、前記複数の数値解析値に基づいて、前記凝集剤の適正な注入率を決定する工程であることを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記複数の数値解析値のうち最大値または最小値が得られた注入率を、前記適正な注入率として決定することを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記複数の数値解析値のうち最大値が得られた注入率と2番目に大きな値が得られた注入率との平均値、または前記複数の数値解析値のうち最小値が得られた注入率と2番目に小さな値が得られた注入率との平均値を、前記適正な注入率として決定することを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記注入率決定工程で決定された適正な注入率に、補正係数を乗算して補正注入率を決定する補正注入率決定工程をさらに備えたことを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記撹拌された原液を希釈液で希釈する希釈工程をさらに含み、前記希釈工程は、前記撹拌工程と前記光学的測定工程の間で実施されることを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記複数の数値解析値のうち最大値または最小値が得られた注入率を、前記適正な注入率として決定することを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記複数の数値解析値のうち最大値が得られた注入率と2番目に大きな値が得られた注入率との平均値、または前記複数の数値解析値のうち最小値が得られた注入率と2番目に小さな値が得られた注入率との平均値を、前記適正な注入率として決定することを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記注入率決定工程で決定された適正な注入率に、補正係数を乗算して補正注入率を決定する補正注入率決定工程をさらに備えたことを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記撹拌された原液を希釈液で希釈する希釈工程をさらに含み、前記希釈工程は、前記撹拌工程と前記光学的測定工程の間で実施されることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記撹拌翼の回転速度を400min−1以上に設定することを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記光学的測定装置の原液入口が前記撹拌装置の原液出口よりも高い位置にあることを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記光学的測定装置の原液出口が前記光学的測定装置の原液入口よりも高い位置にあることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記光学的測定装置の原液入口が前記撹拌装置の原液出口よりも高い位置にあることを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記光学的測定装置の原液出口が前記光学的測定装置の原液入口よりも高い位置にあることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記制御装置は、前記数値解析値に基づいて、前記凝集剤の注入率が適正であるか否かを決定し、前記凝集剤の適正な注入率が決定されるまで、前記凝集剤注入装置および前記供給装置のうちのいずれか一方または両方と、前記撹拌装置、前記光学的測定装置、および前記数値解析装置を操作して、前記撹拌槽への原液の供給、前記原液への凝集剤の注入、前記原液の撹拌、前記光学的測定値の取得、および前記数値解析値の取得を、前記注入率を変えながら繰り返すことを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記光学的測定装置は、前記撹拌された原液に光を照射して透過光強度を測定することを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記光学的測定装置は、前記撹拌された原液に光を照射して散乱光強度を測定することを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記光学的測定装置が、透過光強度を測定する測定装置と、散乱光強度を測定する測定装置の両方であることを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記光学的測定装置は、前記撹拌された原液に光を照射して透過光強度を測定することを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記光学的測定装置は、前記撹拌された原液に光を照射して散乱光強度を測定することを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記光学的測定装置が、透過光強度を測定する測定装置と、散乱光強度を測定する測定装置の両方であることを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記数値解析装置は、前記光学的測定値の分散を前記数値解析値として取得することを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記数値解析装置は、前記光学的測定値のピーク面積を前記数値解析値として取得することを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記数値解析装置は、前記光学的測定値の標準偏差を前記数値解析値として取得することを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記数値解析装置は、前記懸濁物質のフロックの粒径を前記数値解析値として取得することを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記数値解析装置は、前記光学的測定値のピーク面積を前記数値解析値として取得することを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記数値解析装置は、前記光学的測定値の標準偏差を前記数値解析値として取得することを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記数値解析装置は、前記懸濁物質のフロックの粒径を前記数値解析値として取得することを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記制御装置は、前記凝集剤注入装置および前記供給装置のうちのいずれか一方または両方と、前記撹拌装置、前記光学的測定装置、および前記数値解析装置を操作して、前記撹拌槽への原液の供給、前記原液への凝集剤の注入、前記原液の撹拌、前記光学的測定値の取得、および前記数値解析値の取得を、前記注入率を変えながら、複数回繰り返すことにより複数の数値解析値を取得し、前記複数の数値解析値に基づいて、前記凝集剤の適正な注入率を決定することを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記制御装置は、前記複数の数値解析値のうち最大値または最小値が得られた注入率を、前記適正な注入率として決定することを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記制御装置は、前記複数の数値解析値のうち最大値が得られた注入率と2番目に大きな値が得られた注入率との平均値、または前記複数の数値解析値のうち最小値が得られた注入率と2番目に小さな値が得られた注入率との平均値を、前記適正な注入率として決定することを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記制御装置は、前記複数の数値解析値のうち最大値または最小値が得られた注入率を、前記適正な注入率として決定することを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記制御装置は、前記複数の数値解析値のうち最大値が得られた注入率と2番目に大きな値が得られた注入率との平均値、または前記複数の数値解析値のうち最小値が得られた注入率と2番目に小さな値が得られた注入率との平均値を、前記適正な注入率として決定することを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記制御装置は、前記決定された適正な注入率に、補正係数を乗算して補正注入率を決定することを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記数値解析装置は、前記制御装置内に組み込まれていることを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記撹拌された原液に希釈液を供給する希釈液供給装置をさらに備えたことを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記数値解析装置は、前記制御装置内に組み込まれていることを特徴とする。
本発明の一参考例は、前記撹拌された原液に希釈液を供給する希釈液供給装置をさらに備えたことを特徴とする。
Claims (7)
- 撹拌槽と、駆動源により回転される回転軸と、前記回転軸に連結され、前記撹拌槽内に配置された撹拌翼と、前記撹拌槽に連結された原液供給配管とを備えた撹拌装置を用いて、懸濁物質を含む原液を凝集させる凝集方法において、
前記原液を前記原液供給配管から前記撹拌槽に供給する供給工程と、
前記撹拌槽又は前記原液供給配管に凝集剤を供給し、前記原液に凝集剤を注入する注入工程と、
前記撹拌翼を回転させて前記凝集剤が注入された原液を撹拌する撹拌工程と、
前記撹拌された原液に光を照射して光学的測定値を得る光学的測定工程と、
前記光学的測定値を数値解析して、数値解析値を得る数値解析工程と、
前記数値解析値に基づいて、前記凝集剤の適正な注入率を決定する注入率決定工程と、を含み、
前記撹拌翼と前記撹拌槽内の回転軸とからなる回転体が回転することによって形成される回転領域の体積をVa[L]とし、前記撹拌槽を通過する前記原液の流量をFb[L/秒]とすると、体積Vaの流量Fbに対する比の値は1.1〜10.2の範囲にあることを特徴とする凝集方法。 - 前記撹拌翼の回転速度を400min−1以上に設定することを特徴とする請求項1に記載の凝集方法。
- 前記注入率決定工程は、
前記数値解析値に基づいて、前記凝集剤の注入率が適正であるか否かを決定し、
前記凝集剤の適正な注入率が決定されるまで、前記供給工程、前記注入工程、前記撹拌工程、前記光学的測定工程、および前記数値解析工程を、前記注入率を変えながら繰り返す工程であることを特徴とする請求項1または2に記載の凝集方法。 - 撹拌槽と、駆動源により回転される回転軸と、前記回転軸に連結され、前記撹拌槽内に配置された撹拌翼と、前記撹拌槽に連結された原液供給配管とを備え、凝集剤が注入された懸濁物質を含む原液を撹拌する撹拌装置と、
前記原液を前記撹拌槽に供給する供給装置と、
前記撹拌槽又は前記原液供給配管に凝集剤を供給し、原液に凝集剤を注入する注入装置と、
前記撹拌された原液に光を照射して光学的測定値を得る光学的測定装置と、
前記光学的測定値を数値解析して、数値解析値を得る数値解析装置と、
前記数値解析値に基づいて、前記凝集剤の適正な注入率を決定する制御装置と、を備え、
前記撹拌翼と前記撹拌槽内の回転軸とからなる回転体が回転することによって形成される回転領域の体積をVa[L]とし、前記撹拌槽を通過する前記原液の流量をFb[L/秒]とすると、体積Vaの流量Fbに対する比の値は1.1〜10.2の範囲にあることを特徴とする凝集装置。 - 前記撹拌翼の回転速度を400min−1以上に設定することを特徴とする請求項4に記載の凝集装置。
- 前記光学的測定装置の原液入口が前記撹拌装置の原液出口よりも高い位置にあることを特徴とする請求項4または5に記載の凝集装置。
- 前記制御装置は、
前記数値解析値に基づいて、前記凝集剤の注入率が適正であるか否かを決定し、
前記凝集剤の適正な注入率が決定されるまで、前記凝集剤注入装置および前記供給装置のうちのいずれか一方または両方と、前記撹拌装置、前記光学的測定装置、および前記数値解析装置を操作して、前記撹拌槽への原液の供給、前記原液への凝集剤の注入、前記原液の撹拌、前記光学的測定値の取得、および前記数値解析値の取得を、前記注入率を変えながら繰り返すことを特徴とする請求項4乃至6のいずれか一項に記載の凝集装置。
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