JP2017117916A5 - - Google Patents

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Claims (31)

  1. 半導体製造装置は、
    ダイを撮像する撮像部と、
    前記ダイと前記撮像部とを結ぶ線上に配置される照明部と、
    前記撮像部および前記照明部を制御する制御部と、
    を備え、
    前記制御部は、前記ダイの外観検査時の前記照明部の照射面積を前記ダイの位置決め時の前記照明部の照射面積よりも狭くし、前記撮像部で前記ダイを撮像するよう構成される
  2. 請求項1の半導体製造装置において、さらに、
    ウェハリングホルダを有するウェハ供給部を備え、
    前記ウェハリングホルダは、
    前記ダイが貼り付けられたダイシングテープを保持するウェハリングと、
    前記ダイシングテープを引っ張って広げるエキスパンダと、
    を備える。
  3. 請求項1の半導体製造装置において、さらに、
    前記ダイを既にボンディングされているダイ上にボンディングするボンディングヘッドを有するボンディング部を備える。
  4. 請求項2または3の半導体製造装置において、
    前記照明部は前記撮像部の中心線上に配置されるハーフミラーと前記ハーフミラーの横に配置される発光源と備える同軸照明である。
  5. 請求項4の半導体製造装置において、
    前記発光源は面発光源である。
  6. 請求項5の半導体製造装置において、
    前記発光源は周辺付近が発光する第1領域と中心付近が発光する第2領域とを備え、前記第1領域と前記第2領域との点灯および消灯を個別に制御可能であるよう構成される
  7. 請求項2または3の半導体製造装置において、
    前記照明部は、
    前記撮像部の中心線上に配置されるハーフミラーと前記ハーフミラーの横に配置される発光源と備える同軸照明部と、
    前記同軸照明部の上部配置されるリング照明と、
    を備える。
  8. 請求項7の半導体製造装置において、
    前記同軸照明部および前記リング照明部の点灯および消灯を個別に制御可能であるよう構成される
  9. 請求項2の半導体製造装置において、さらに、
    前記ダイをピックアップするピックアップ部を備える。
  10. 請求項9の半導体製造装置において、さらに、
    前記ピックアップされたダイを基板または既にボンディングされたダイ上にボンディングするボンディング部を備える。
  11. 請求項10の半導体製造装置において、さらに、
    前記ピックアップ部は中間ステージを備え、
    前記ピックアップされたダイは前記中間ステージに載置され、
    前記ボンディング部は前記中間ステージに載置されたダイを前記基板または既に前記基板にボンディングされたダイ上にボンディングするよう構成される
  12. 請求項10の半導体製造装置において、
    前記ピックアップされたダイは上下反転され、
    前記ボンディング部は前記上下反転されたダイを前記基板にボンディングするよう構成される
  13. 請求項9の半導体製造装置において、さらに、
    ダイを格納する容器を備え、
    前記ピックアップされたダイは前記容器に載置されるよう構成される
  14. a)ダイが貼付されたダイシングテープを保持するウェハリングホルダを準備する工程と、
    (b)前記ダイシングテープを引き延ばす工程と、
    (c)撮像装置および照明装置を用いて前記ダイの外観を検査する工程と、
    (d)前記撮像装置および前記照明装置を用いて前記ダイの位置決めを行う工程と、
    (e)前記ダイをピックアップする工程と、
    を備え、
    前記(c)工程は前記照明装置の発光面面積を前記(d)工程の前記照明装置の発光面面積をよりも小さくして撮像する半導体装置の製造方法
  15. 請求項14の半導体装置の製造方法において、
    前記(c)工程と前記(d)工程との間に、前記ダイシングテープを介して前記ダイを吸着する工程を有し、
    前記(d)工程と前記(e)工程との間に、前記ダイの吸着を解除する工程を有する半導体装置の製造方法
  16. 請求項14の半導体装置の製造方法において、
    前記照明装置は前記撮像装置の中心線上に配置されるハーフミラーと前記ハーフミラーの横に配置される発光源と備える同軸照明である半導体装置の製造方法
  17. 請求項16の半導体装置の製造方法において、
    前記発光源は面発光源である半導体装置の製造方法
  18. 請求項17の半導体装置の製造方法において、
    前記発光源は周辺付近が発光する第1領域と中心付近が発光する第2領域とを備え、前記第1領域と前記第2領域との点灯および消灯を個別に制御可能である半導体装置の製造方法
  19. 請求項14の半導体装置の製造方法において、
    前記照明装置は、
    前記撮像装置の中心線上に配置されるハーフミラーと前記ハーフミラーの横に配置される発光源と備える同軸照明部と、
    前記同軸照明部の上部配置されるリング照明部と、
    を備える半導体装置の製造方法
  20. 請求項19の半導体装置の製造方法において、
    前記同軸照明部および前記リング照明部の点灯および消灯を個別に制御可能である半導体装置の製造方法
  21. 請求項14の半導体装置の製造方法において、さらに、
    (f)前記ピックアップされたダイを中間ステージに載置する工程と、
    (g)前記中間ステージに載置されたダイの外観検査を行う工程と、
    を備える半導体装置の製造方法
  22. 請求項21の半導体装置の製造方法において、
    前記(g)工程はステージ認識カメラで撮像して行う半導体装置の製造方法
  23. 請求項14の半導体装置の製造方法において、さらに、
    (h)にボンディングされているダイの外観検査をする工程と、
    (i)ダイを前記既にボンディングされているダイ上にボンディングする工程と、
    を備える半導体装置の製造方法
  24. 請求項23の半導体装置の製造方法において、
    前記(h)工程は基板認識カメラで撮像して行う半導体装置の製造方法
  25. ダイボンダは、
    ダイを撮像するウェハ認識カメラと、
    前記ダイと前記ウェハ認識カメラとを結ぶ線上に配置される照明部と、
    前記ウェハ認識カメラおよび前記照明部を制御する制御部と、
    を備え、
    前記制御部は、前記ダイの外観検査時の前記照明部の照射面積を前記ダイの位置決め時の前記照明部の照射面積よりも狭くし、前記ウェハ認識カメラで前記ダイを撮像するよう構成される
  26. 請求項25のダイボンダにおいて、さらに、
    ウェハリングホルダを有するウェハ供給部を備え、
    前記ウェハリングホルダは、
    前記ダイが貼り付けられたダイシングテープを保持するウェハリングと、
    前記ダイシングテープを引っ張って広げるエキスパンダと、
    を備える。
  27. 請求項25のダイボンダにおいて、さらに、
    前記ダイを基板または既にボンディングされているダイ上にボンディングするボンディングヘッドと、
    基板認識カメラと、
    を備える。
  28. 請求項26のダイボンダにおいて、
    前記制御部は、前記ダイの外観検査を前記ダイシングテープを引っ張って広げて前記ウェハ認識カメラにて行う。
  29. 請求項25のダイボンダにおいて、さらに、
    前記ダイをピックアップするピックアップヘッドと、
    前記ピックアップされたダイを載置する中間ステージと、
    ステージ認識カメラと、
    を備え、
    前記制御部は、前記中間ステージに載置されたダイの外観検査を、前記ステージ認識カメラにて行うよう構成される
  30. 請求項27のダイボンダにおいて、
    前記制御部は、前記既にボンディングされているダイの外観検査を前記基板認識カメラにて行うよう構成される
  31. 請求項27のダイボンダにおいて、
    前記制御部は、複数のダイを積層するダイボンディングの場合、基板に既に実装された下層ダイの外観検査をピックアップされたダイのボンディング前に前記基板認識カメラにて行うよう構成される
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CN201611028994.3A CN106920762B (zh) 2015-12-24 2016-11-18 半导体制造装置、半导体器件的制造方法及芯片贴装机

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Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7082862B2 (ja) * 2017-07-27 2022-06-09 ファスフォードテクノロジ株式会社 ダイボンディング装置、半導体装置の製造方法および半導体製造システム
JP7029900B2 (ja) * 2017-08-03 2022-03-04 ファスフォードテクノロジ株式会社 ダイボンディング装置および半導体装置の製造方法
JP7010633B2 (ja) * 2017-09-19 2022-01-26 ファスフォードテクノロジ株式会社 半導体製造装置および半導体装置の製造方法
JP7010638B2 (ja) * 2017-09-26 2022-01-26 ファスフォードテクノロジ株式会社 ダイボンディング装置および半導体装置の製造方法
JP6886379B2 (ja) * 2017-09-28 2021-06-16 Towa株式会社 保持部材、保持部材の製造方法、検査装置及び切断装置
EP3723115B1 (en) * 2017-12-07 2023-06-14 Fuji Corporation Information management device and information management method
JP7102271B2 (ja) * 2018-07-17 2022-07-19 ファスフォードテクノロジ株式会社 半導体製造装置および半導体装置の製造方法
JP7146352B2 (ja) * 2018-12-10 2022-10-04 株式会社ディスコ 試験装置
WO2020157971A1 (ja) * 2019-02-01 2020-08-06 株式会社Fuji 作業機
JP7299728B2 (ja) 2019-03-22 2023-06-28 ファスフォードテクノロジ株式会社 半導体製造装置および半導体装置の製造方法
JP7300353B2 (ja) * 2019-09-13 2023-06-29 ファスフォードテクノロジ株式会社 ダイボンディング装置および半導体装置の製造方法
JP7377655B2 (ja) 2019-09-19 2023-11-10 ファスフォードテクノロジ株式会社 ダイボンディング装置および半導体装置の製造方法
JP7437987B2 (ja) * 2020-03-23 2024-02-26 ファスフォードテクノロジ株式会社 ダイボンディング装置および半導体装置の製造方法
JP7502108B2 (ja) * 2020-07-31 2024-06-18 ファスフォードテクノロジ株式会社 ダイボンディング装置および半導体装置の製造方法
JP2022098312A (ja) 2020-12-21 2022-07-01 ファスフォードテクノロジ株式会社 ダイボンディング装置および半導体装置の製造方法
DE102022118873B4 (de) 2022-07-27 2024-02-08 ASMPT GmbH & Co. KG Verfahren und Vorrichtung zum Entnehmen von Chips von einem Waferfilmframe, Bestücksystem und Computerprogramm

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3744966B2 (ja) * 1994-10-07 2006-02-15 株式会社ルネサステクノロジ 半導体基板の製造方法
KR960015001A (ko) * 1994-10-07 1996-05-22 가나이 쓰토무 반도체 기판의 제조방법과 피검사체상의 패턴결함을 검사하기 위한 방법 및 장치
JPH11345865A (ja) * 1998-06-01 1999-12-14 Sony Corp 半導体製造装置
JP2000150546A (ja) * 1998-11-16 2000-05-30 Toshiba Corp 電子部品の実装装置及び実装方法
JP2005332982A (ja) * 2004-05-20 2005-12-02 Renesas Technology Corp 半導体装置の製造方法
JP2006138830A (ja) * 2004-11-10 2006-06-01 Nippon Electro Sensari Device Kk 表面欠陥検査装置
JP4624813B2 (ja) * 2005-01-21 2011-02-02 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置の製造方法および半導体製造装置
JP4830772B2 (ja) * 2006-10-11 2011-12-07 ヤマハ株式会社 半導体チップの検査方法
JP5054949B2 (ja) * 2006-09-06 2012-10-24 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置の製造方法
JP2008215875A (ja) * 2007-02-28 2008-09-18 Omron Corp 成形体の検査方法およびこの方法を用いた検査装置
US7847927B2 (en) * 2007-02-28 2010-12-07 Hitachi High-Technologies Corporation Defect inspection method and defect inspection apparatus
JP5903229B2 (ja) * 2011-08-30 2016-04-13 ファスフォードテクノロジ株式会社 ダイボンダ及び半導体製造方法
JP2013092661A (ja) * 2011-10-26 2013-05-16 Panasonic Corp 部品実装装置に用いる撮像用照明ユニット及び部品実装装置
JP5438165B2 (ja) * 2012-06-13 2014-03-12 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置の製造方法
JP6266275B2 (ja) * 2013-09-09 2018-01-24 ファスフォードテクノロジ株式会社 ダイボンダ及びボンディング方法

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