JP2017111848A - 半導体装置および半導体集積回路 - Google Patents

半導体装置および半導体集積回路 Download PDF

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Abstract

【課題】電流源を制御するための制御電圧を高速に安定させることが可能な半導体装置を提供する。【解決手段】半導体装置は、電流源と、電流源を制御するための制御電圧を出力する制御電圧発生回路と、制御電圧発生回路と、電流源との間に設けられ、制御電圧のノイズを除去するためのフィルタ回路とを備える。フィルタ回路は、制御電圧発生回路と制御電圧を出力する出力ノードとの間に設けられた第1の抵抗素子と、出力ノードと第1の電圧との間に設けられた第1の容量素子と、第1の容量素子と並列に出力ノードと第1の電圧との間に接続された第2の容量素子と、第2の容量素子と出力ノードとの間に設けられた第1のスイッチ素子とを含む。第1のスイッチ素子の非導通時に第2の容量素子は、第1の電圧と第2の電圧との間に接続される。第1のスイッチ素子の導通時に第2の容量素子は、出力ノードを介して第1の容量素子と接続される。【選択図】図7

Description

本開示は、フィルタ回路を有する半導体装置および半導体集積回路に関する。
従来より、半導体集積回路に係り、フラッシュメモリ等の汎用メモリでは、低消費電力性と高速性とが強く要求されている。
一般的にフラッシュメモリ等では、低消費電力性を満たすために種々のモードが設けられており、例えば低消費電力モードを設けて電源回路を停止させる方式等が採用されている。
また、高速性を満たすために例えば、フラッシュメモリに内蔵されている電源回路から出力される電圧を高速に安定させることが求められている。
この点で、特開2001−319488号公報においては、読出系回路の高速性を担保するためにバイアス回路から出力されるバイアス電圧を安定させる方式が提案されている。
特開2001−319488号公報
一方で、半導体集積回路全体からのフィードバックノイズが当該バイアス回路から出力されるバイアス電圧に発生することが知られており、その対策として、バイアス回路等の電源回路にノイズを除去するフィルタ回路を設ける構成が取られている。
しかしながら、フィルタ回路を構成する容量成分の影響を受けて電源回路から出力される電圧レベルが所望の電圧レベルに安定するために時間がかかるという問題がある。
その他の課題と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
一実施例によれば、半導体装置は、電流源と、電流源を制御するための制御電圧を出力する制御電圧発生回路と、制御電圧発生回路と、電流源との間に設けられ、制御電圧のノイズを除去するためのフィルタ回路とを備える。フィルタ回路は、制御電圧発生回路と制御電圧を出力する出力ノードとの間に設けられた第1の抵抗素子と、出力ノードと第1の電圧との間に設けられた第1の容量素子と、第1の容量素子と並列に出力ノードと第1の電圧との間に接続された第2の容量素子と、第2の容量素子と出力ノードとの間に設けられた第1のスイッチ素子とを含む。第1のスイッチ素子の非導通時に第2の容量素子は、第1の電圧と第2の電圧との間に接続される。第1のスイッチ素子の導通時に第2の容量素子は、出力ノードを介して第1の容量素子と接続される。
一実施例によれば、電流源を制御するための制御電圧を高速に安定させることが可能である。
実施形態に基づく半導体集積回路の全体構成の概略図である。 実施形態に基づくメモリモジュール8の構成を説明する図である。 実施形態に基づくメモリモジュール8のモードの遷移を説明する図である。 実施形態に基づくメモリモジュール8のスタンバイモードおよびリードスタンバイモードの遷移について説明する図である。 実施形態に基づくデータ読出について説明する図である。 実施形態に基づく電源回路24の構成の一部を説明する図である。 実施形態に基づくチャージシェア付きフィルタ回路55の構成を説明する図である。 比較例となる電源回路の構成の一部を説明する図である。 実施形態に基づく活性化信号EAMPに従う制御電圧生成回路の制御電圧の生成について説明する図である。 電源回路24における起動時間と消費電流との関係を説明する図である。
実施形態について図面を参照しながら詳細に説明する。なお、図中同一または相当部分には同一符号を付し、その説明は繰り返さない。
<A.全体構成>
図1は、実施形態に基づく半導体集積回路の全体構成の概略図である。
図1に示されるように、本例においては、半導体集積回路1の一例として、データプロセッサもしくはマイクロプロセッサ等とも称されるシングルチップのマイクロコンピュータについて説明する。マイクロコンピュータは、特に制限されないが、公知の半導体集積回路製造技術により、単結晶シリコンのような1個の半導体基板(チップ)に形成される。
半導体集積回路1は、フラッシュメモリを有するメモリモジュールを内蔵している。
半導体集積回路1は、内部バス2と、CPU(Central Processing Unit)3と、RAM(Random Access Memory)4と、バスコントローラ5と、発振器6と、分周回路7と、メモリモジュール8と、電源回路9と、入出力ポート(I/O)10と、周辺回路11とを含む。
周辺回路11は、ADコンバータやタイマカウンタ等を含む。
内部バス2は、アドレスバス、データバス及びコントロールバスを含む。
内部バス2を介して各回路モジュールが接続されており、データの授受が実行される。
CPU3は、半導体集積回路1全体を制御する。CPU3は命令制御部と実行部とを含み、フェッチした命令を解読して解読結果に従って実行部で演算処理を実行する。
RAM4は、CPU2のワーク領域等に用いられる。
バスコントローラ5は、内部バス2の調停制御を実行し、内部バス2を用いたデータの授受を制御する。具体的には、バスコントローラ5は、CPU3からのアクセス要求に応答してそのアクセス対象アドレスに応じたアクセスサイクル数、ウェイトステート数、バス幅等の調停制御を実行する。
発振器6は、クロック信号を生成する。発振器6は、分周回路7と接続されてクロック信号を分周して各種回路を制御するための動作基準クロック信号やその他の内部クロック信号等を生成して出力する。
メモリモジュール8は、一例としてフラッシュメモリを有し、CPU3の動作プログラムあるいはデータ等を格納する。
電源回路9は、各種各回路モジュールの電圧を生成する。
CPU3は、メモリモジュール8に対する消去及び書き込み制御を実行する。
デバイステスト又は製造段階では外部の書込装置(図示せず)が入出力ポート10介してメモリモジュール8に対して直接消去及び書き込み制御を実行するようにしても良い。
電源投入後、リセット信号のローレベル期間に半導体集積回路1の内部が初期化される。リセット信号のハイレベルによりリセットが解除されると、CPU3はアドレス0番地のベクタ等によって指定されるプログラム領域のプログラムの実行を開始する。
図2は、実施形態に基づくメモリモジュール8の構成を説明する図である。
図2に示されるように、メモリモジュール8は、入出力回路21と、制御回路22と、アドレスバッファ23と、電源回路24と、プリデコーダ25と、行デコーダ・ドライバ26と、書き込みラッチ27と、センスアンプ回路28と、列デコーダ29と、メモリアレイ30と、ソースデコーダ・ドライバ31と、電流源32とを含む。
メモリアレイ30は、行列状に配置された複数のフラッシュメモリを含む。
入出力回路21は、外部の内部バス2と接続され、データやコマンドを送受信する。
制御回路22は、メモリモジュール8内の各回路を制御する。
アドレスバッファ23は、外部の内部バス2と接続され、メモリアレイ30へアクセスするためのアドレスを保持する。
電源回路24は、メモリモジュール8内の各回路へ必要な電圧を供給する。具体的には、電源回路24は、書き込みおよび消去用の電圧を生成するとともに電流源32を駆動するための制御電圧を生成する。
プリデコーダ25は、メモリアレイ30へアクセスするためのアドレスをプリデコードする。
行デコーダ・ドライバ26は、アドレスバッファ23からの行アドレスXをデコードしてワード線を駆動する。
書き込みラッチ27は、電流源32と接続されメモリアレイ30への書き込みデータを保持する。
センスアンプ回路28は、データ読出においてメモリアレイ30から読み出された信号を増幅して読出データとして出力する。
列デコーダ29は、アドレスバッファ23からの列アドレスYをデコードしてビット線等を選択する。
ソースデコーダ・ドライバ31は、ソース線を駆動する。
図3は、実施形態に基づくメモリモジュール8のモードの遷移を説明する図である。
図3に示されるように、ここでは、スタンバイモードからリードスタンバイモードに遷移して、リードスタンバイモードからリードモードあるいは書込/消去モードに遷移する場合が示されている。
スタンバイモードは、低消費電力モードであり、メモリモジュール8の内部の電源回路24および電流源32は、非活性化状態に設定される。一例として、CPU3から入力されるスタンバイ信号STBYP(「L」レベル)の入力に従って低消費電力モードからの復帰動作が実行される。本例においては、スタンバイモードからリードスタンバイモードに遷移する。これに伴い、メモリモジュール8の内部の電源回路24および電流源32が活性化状態に設定される。
そして、リードスタンバイモードからリードモードに遷移してデータ読出が実行される。
一方、CPU3から入力されるスタンバイ信号STBYP(「H」レベル)の入力に従ってリードスタンバイモードから低消費電力モードであるスタンバイモードに遷移する。
図4は、実施形態に基づくメモリモジュール8のスタンバイモードおよびリードスタンバイモードの遷移について説明する図である。
図4に示されるように、CPU3から入力されるスタンバイ信号STBYPに従ってメモリモジュール8のモードが遷移する場合が示されている。具体的には、スタンバイ信号STBYPが「L」レベルの場合にリードスタンバイモードに設定されている場合が示されている。時刻T1において、スタンバイ信号STBYPが「H」レベルに遷移するのに伴い、リードスタンバイモードからスタンバイモードに遷移する。
次に、時刻T2において、スタンバイ信号STBYPが「L」レベルに遷移するのに伴い、スタンバイモードからリードスタンバイモードに遷移する。
一方で、スタンバイモードからリードスタンバイモードに遷移する場合にメモリモジュール8の内部の電源回路24および電流源32が活性化状態に設定されるため当該電源回路24からの電圧および電流源32からの電流が安定するまで所定の待機状態を設けている。本例においては、待機時間tW=Pμs待機した後、時刻T3において、リードスタンバイモードに遷移する。
図5は、実施形態に基づくデータ読出について説明する図である。
図5に示されるように、リードスタンバイモードにおいて、CPU3からのメモリモジュール8のデータ読出命令に含まれるチップイネーブル信号CEに従ってリードモードに遷移する。
一例として、時刻T4において、チップイネーブル信号CEが「L」レベルに従って、リードスタンバイモードからリードモードに遷移する。
そして、メモリモジュール8は、分周回路7により生成された内部クロック信号CLKに同期して動作する。
内部クロック信号CLKの「L」レベルから「H」レベルの立ち上がりに従って、外部から入力される外部アドレス信号ADがメモリモジュール8のアドレスバッファ23にラッチされる。
ラッチされた外部アドレス信号ADは、XアドレスおよびYアドレスとしてプリデコーダ25および列デコーダ29にそれぞれ出力される。そして、プリデコーダ25でプリデコードされた信号は、行デコーダ・ドライバ26に入力される。そして、行デコーダ・ドライバ26は、Xアドレスに基づいて行選択を実行する。また、列デコーダ29は、Yアドレスをデコードして列選択を実行する。これによりメモリアレイ30における指定されたメモリセルがアクセスされ、当該メモリセルからのデータ読出が実行される。
そして、読出された読出データDOUTは、入出力回路21を介して内部バス2に出力される。
本例においては、リードモードにおいて、外部アドレス信号ADの入力に従って、2回のデータ読出が実行された場合が示されている。
そして、時刻T5において、チップイネーブル信号CEが「H」レベルに従って、リードモードからリードスタンバイモードに遷移する。
図6は、実施形態に基づく電源回路24の構成の一部を説明する図である。
図6を参照して、電源回路24は、制御電圧発生回路と、チャージシェア付きフィルタ回路55とを含む。
チャージシェア付きフィルタ回路55は、制御電圧発生回路と電流源32との間に設けられ、制御電圧のノイズを除去する。本例においては、抵抗素子と容量素子とで構成されるローパスフィルタ回路が設けられる。フィルタ回路の遮断周波数は、抵抗素子の抵抗成分と容量素子の容量成分とに基づき設定される。
また、チャージシェア付きフィルタ回路55は、後述するがチャージシェア可能な回路が設けられている。チャージシェア可能な回路は、活性化信号EAMPに従って動作する。
制御電圧発生回路は、電流源を制御するための制御電圧を出力する。
制御電圧発生回路は、オペアンプ(AMP)50と、PチャネルMOSトランジスタMOS1と、抵抗素子R1,R2とを含む。
PチャネルMOSトランジスタMOS1は、ソースが電源電圧VCCと接続され、ドレインは抵抗素子R1と接続される。PチャネルMOSトランジスタMOS1のゲートは、AMP50の出力信号を受ける。
AMP50は、活性化信号EAMPに従って活性化される。本例においては、活性化信号EAMP(「H」レベル)に従って、AMP50は活性化され、活性化信号(「L」レベル)に従って、AMP50は非活性化される。
スタンバイモードにおいては、活性化信号EAMPは、「L」レベルに設定される。リードスタンバイモードにおいて、活性化信号EAMPは、「H」レベルに設定される。
抵抗素子R1,R2の接続ノードは、AMP50にフィードバックされて入力端子の一方と接続される。
AMP50の他方の入力端子は、基準電圧Vrefの入力を受ける。
AMP50は、抵抗素子R1,R2の接続ノードの電圧が基準電圧Vrefと同電位となるようにPチャネルMOSトランジスタMOS1に出力する電圧を調整する。
チャージシェア付きフィルタ回路55は、AMP50の出力と接続され、AMP50から出力される制御電圧のノイズ成分を除去して電流源32に出力する。
電流源32は、AMP50から出力される制御電圧を受けて、抵抗素子R1,R2に流れる電流と同じ電流が流れるように調整される。
図7は、実施形態に基づくチャージシェア付きフィルタ回路55の構成を説明する図である。
図7を参照して、チャージシェア付きフィルタ回路55は、抵抗素子Rと、容量素子C1,C2と、スイッチ素子SW1,SW2とを含む。容量素子C1,C2とスイッチ素子SW1,SW2とはチャージシェア回路を構成する。
スイッチ素子SW1は、トランスファーゲートで構成される。具体的には、スイッチ素子SW1は、互いに並列に接続されたNチャネルMOSトランジスタおよびPチャネルMOSトランジスタを含む。NチャネルMOSトランジスタのゲートには、活性化信号EAMPが入力される。また、PチャネルMOSトランジスタのゲートには、活性化信号EAMPの反転信号/EAMPが入力される。スイッチ素子SW2は、NチャネルMOSトランジスタを含む。NチャネルMOSトランジスタのゲートには、活性化信号/EAMPが入力される。
抵抗素子Rは、制御電圧発生回路と出力ノードN1との間に設けられる。
容量素子C1は、出力ノードN1と電源電圧VCCとの間に設けられる。
容量素子C2は、容量素子C1と並列にスイッチ素子SW1を介して出力ノードN1と電源電圧VCCとの間に接続される。
容量素子C2は、電源電圧VCCと内部ノードN2との間に接続される。
スイッチ素子SW1は、出力ノードN1と内部ノードN2との間に設けられ、活性化信号EANPに従って導通/非導通状態(ON/OFF)に設定される。
スイッチ素子SW2は、内部ノードN2と接地電圧VSSとの間に設けられ、活性化信号EAMPの反転信号/EAMPに従って導通/非導通状態(ON/OFF)に設定される。
スイッチ素子SW2は、活性化信号EAMPの反転信号/EAMPに従ってスイッチ素子SW1と相補的に動作する。スイッチ素子SW1が導通状態の場合には、スイッチ素子SW2は、非導通状態であり、スイッチ素子SW1が非導通状態の場合には、スイッチ素子SW2は、導通状態である。
スタンバイモードにおいては、活性化信号EAMPは「L」レベルに設定される。この場合は、AMP50の出力は「H」レベルに設定されるためPチャネルMOSトランジスタMOS1は、非導通状態となる。これに伴い、抵抗素子R1,R2への電流は遮断される。
チャージシェア付きフィルタ回路55について説明すると、活性化信号EAMP(「L」レベル)にしたがって、スイッチ素子SW1は非導通状態、スイッチ素子SW2は導通状態となる。これに伴い、容量素子C1は、電源電圧VCCに充電されている。
一方、スイッチ素子SW2は導通状態であるため容量素子C2は、接地電圧VSSと接続され、接地電圧VSSに充電されている。
次に、リードスタンバイモードにおいては、活性化信号EAMPは「H」レベルに設定される。この場合は、AMP50が活性化されて、抵抗素子R1,R2の接続ノードの電圧が基準電圧Vrefと同電位となるようにPチャネルMOSトランジスタMOS1に出力する電圧を調整する。
これとともに、活性化信号EAMP(「H」レベル)にしたがって、スイッチ素子SW1は導通状態、スイッチ素子SW2は非導通状態となる。これによりチャージシェア回路の動作が開始する。容量素子C1とC2とが接続されることにより、容量素子C1の電源電圧VCCに充電されている電荷は、スイッチ素子SW1を介して接地電圧VSSに充電された容量素子C2にチャージシェアされて充電される。
出力ノードN1の電圧と内部ノードN2の電圧が同電位となった後、抵抗素子R1,R2の接続ノードの電圧が基準電圧Vrefと同電位となるようにAMP50が出力する制御電圧が調整されて、出力ノードN1を介して電流源32に当該制御電圧が出力される。
図8は、比較例となる電源回路の構成の一部を説明する図である。
図8を参照して、当該電源回路は、図6の構成と比較して、フィルタ回路の構成が異なる。本例においては、チャージシェア付きフィルタ回路55の代わりに通常のローパスフィルタ回路であるフィルタ回路51が設けられている場合が示されている。フィルタ回路51は、チャージシェア回路を有さない構成である。
図9は、実施形態に基づく活性化信号EAMPに従う制御電圧生成回路の制御電圧の生成について説明する図である。
図9に示されるように、活性化信号EAMPの「L」レベルから「H」レベルの立ち上がりに応答してAMP50が活性化されるとともに、チャージシェア回路が動作を開始する。これに伴い、出力ノードN1と内部ノードN2とは電気的に接続され、電源電圧VCCと接地電圧VSSとの間の中間電位に設定される。容量素子C1と容量素子C2との電荷が等しくなった後、抵抗素子R1,R2の接続ノードの電圧が基準電圧Vrefと同電位となるようにAMP50が出力する制御電圧が調整される。そして、制御電圧は、目標電圧に調整される。
一方で、図9に示されるように、比較回路においても活性化信号EAMPの「L」レベルから「H」レベルの立ち上がりに応答してAMP50が活性化されるが、制御電圧は、フィルタ回路51の容量成分により電源電圧VCCから緩やかに目標電圧へと調整される。
したがって、実施形態に基づくチャージシェア付きフィルタ回路55を設けることにより高速に目標電圧に制御電圧を調整することが可能である。これにより、図4で説明した待機時間tWを大幅に短縮することが可能となりスタンバイモードからリードスタンバイモードに高速に遷移させることが可能である。
図10は、電源回路24における起動時間と消費電流との関係を説明する図である。
図10に示されるように、起動時間と消費電流との関係として起動時間を早くするためには消費電流を大きくする必要がある。すなわち、消費電流を増加させるためにAMP50の動作電圧を高くする必要がある。
本実施形態に基づくチャージシェア付きフィルタ回路55は、チャージシェア回路による電荷の移動により電位を調整するため消費電流を増加させることなく制御電圧を目標電圧に高速に調整することが可能である。
また、容量素子C1,C2は、スイッチ素子SW1が導通している場合には、ローパスフィルタ回路として機能する。容量素子C1,C2と抵抗素子Rに基づいてフィルタ回路の遮断周波数が設定される。したがって、比較回路のフィルタ回路51と比較した場合に余分な容量素子を設ける必要が無く、スイッチ素子SW1,SW2のみを追加した構成であり回路面積の拡大を抑制することが可能である。
なお、本例において、スイッチ素子SW1は、PチャネルMOSトランジスタおよびNチャネルMOSトランジスタをともに含む構成であるがいずれか一方の構成とすることも可能である。
また、本例においては、ローパスフィルタ回路の構成として容量素子C1,C2は、電源電圧VCCと接続される構成について説明したが、ハイパスフィルタ回路等の場合には、接地電圧VSSと接続される構成とすることも可能である。
また、本例においては、スタンバイモードからリードスタンバイモードへの遷移において高速起動が可能な方式について説明したが、当該モード遷移に限られず、例えば、スタンバイモードからリードモードあるいは書込/消去モードに遷移するような場合にも同様に適用可能である。
また、本例においては、メモリモジュール8で用いる電源回路の構成について説明したが、特にメモリモジュール8に限られず他の半導体装置の電源回路においても同様に適用可能である。
以上、本開示を実施形態に基づき具体的に説明したが、本開示は、実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
1 半導体集積回路、2 内部バス、4 RAM、5 バスコントローラ、6 発振器、7 分周回路、8 メモリモジュール、9,24 電源回路、10 入出力ポート、11 周辺回路、30 メモリアレイ、21 入出力回路、22 制御回路、23 アドレスバッファ、25 プリデコーダ、26 行デコーダ・ドライバ、27 書き込みラッチ、28 センスアンプ回路、29 列デコーダ、31 ソースデコーダ・ドライバ、32 電流源、51 フィルタ回路、55 チャージシェア付きフィルタ回路。

Claims (10)

  1. 電流源と、
    前記電流源を制御するための制御電圧を出力する制御電圧発生回路と、
    前記制御電圧発生回路と、前記電流源との間に設けられ、前記制御電圧のノイズを除去するためのフィルタ回路とを備え、
    前記フィルタ回路は、
    前記制御電圧発生回路と前記制御電圧を出力する出力ノードとの間に設けられた第1の抵抗素子と、
    前記出力ノードと第1の電圧との間に設けられた第1の容量素子と、
    前記第1の容量素子と並列に前記出力ノードと前記第1の電圧との間に接続された第2の容量素子と、
    前記第2の容量素子と前記出力ノードとの間に設けられた第1のスイッチ素子とを含み、
    前記第1のスイッチ素子の非導通時に前記第2の容量素子は、前記第1の電圧と第2の電圧との間に接続され、
    前記第1のスイッチ素子の導通時に前記第2の容量素子は、前記出力ノードを介して前記第1の容量素子と接続される、半導体装置。
  2. 前記フィルタ回路は、前記第2の容量素子と前記第1のスイッチ素子との間の内部ノードと、前記第2の電圧との間に設けられ、前記第1のスイッチ素子と相補的に動作する第2のスイッチ素子をさらに含む、請求項1記載の半導体装置。
  3. 前記フィルタ回路の遮断周波数は、前記第1のスイッチ素子の導通時に前記第1の抵抗素子の抵抗成分と前記第1および第2の容量素子の容量成分とに基づき設定される、請求項1または2記載の半導体装置。
  4. 前記制御電圧発生回路は、
    前記第1の電圧とソースが接続されたトランジスタと、
    前記トランジスタのドレインと前記第2の電圧との間に設けられた第2の抵抗素子と、
    前記トランジスタと前記第2の抵抗素子との間の接続ノードの電圧と、基準電圧との入力に基づいて前記トランジスタのゲートに対して前記制御電圧を出力するオペアンプとを含む、請求項2に記載の半導体装置。
  5. 前記オペアンプは、活性化信号に従って活性化され、
    前記第1および第2のスイッチ素子は、前記活性化信号の入力を受ける、請求項4記載の半導体装置。
  6. 前記第1および第2のスイッチ素子は、MOSトランジスタで構成される、請求項2記載の半導体装置。
  7. 電流源と、
    前記電流源を制御するための制御電圧を出力する制御電圧発生回路と、
    前記制御電圧発生回路と、前記電流源との間に設けられ、前記制御電圧のノイズを除去するためのフィルタ回路とを備え、
    前記フィルタ回路は、
    前記制御電圧発生回路と前記制御電圧を出力する出力ノードとの間に設けられた抵抗素子と、
    前記出力ノードと第1の電圧との間に設けられた第1の容量素子と、
    前記第1の容量素子と並列に前記出力ノードと前記第1の電圧との間に接続された第2の容量素子と、
    前記第2の容量素子と前記出力ノードとの間に設けられた第1のスイッチ素子と、
    前記第2の容量素子と前記第1のスイッチ素子との間の内部ノードと、前記第2の電圧との間に設けられ、前記第1のスイッチ素子と相補的に動作する第2のスイッチ素子とを含む、半導体装置。
  8. 前記制御電圧発生回路は、
    前記第1の電圧とソースが接続されたトランジスタと、
    前記トランジスタのドレインと前記第2の電圧との間に設けられた第2の抵抗素子と、
    前記トランジスタと前記第2の抵抗素子との間の接続ノードの電圧と、基準電圧との入力に基づいて前記トランジスタのゲートに対して前記制御電圧を出力するオペアンプとを含む、請求項7記載の半導体装置。
  9. メモリモジュールと、
    前記メモリモジュールを制御するコントローラとを備え、
    電源回路を含むメモリモジュールは、
    前記電源回路は、
    電流源を制御するための制御電圧を出力する制御電圧発生回路と、
    前記制御電圧発生回路と、前記電流源との間に設けられ、前記制御電圧のノイズを除去するためのフィルタ回路とを含み、
    前記フィルタ回路は、
    前記制御電圧発生回路と前記制御電圧を出力する出力ノードとの間に設けられた第1の抵抗素子と、
    前記出力ノードと第1の電圧との間に設けられた第1の容量素子と、
    前記第1の容量素子と並列に前記出力ノードと前記第1の電圧との間に接続された第2の容量素子と、
    前記第2の容量素子と前記出力ノードとの間に設けられた第1のスイッチ素子とを有し、
    前記第1のスイッチ素子は、低消費電力モードにおいて非導通状態に設定され、前記低消費電力モードからの復帰時に導通状態に設定され、
    前記第2の容量素子は、前記低消費電力モードにおいて、前記第1の電圧と第2の電圧との間に接続され、前記低消費電力モードからの復帰時に前記出力ノードを介して前記第1の容量素子と接続される、半導体集積回路。
  10. 前記コントローラは、前記メモリモジュールを前記低消費電力モードからリードスタンバイモードに移行するように指示する、請求項9記載の半導体集積回路。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112967744A (zh) * 2021-05-18 2021-06-15 珠海博雅科技有限公司 调整电压摆幅的电路、电路板、调整装置及闪存存储器

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102536639B1 (ko) * 2018-08-14 2023-05-26 에스케이하이닉스 주식회사 메모리 장치의 버퍼 제어 회로

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060022660A1 (en) * 2004-07-28 2006-02-02 Kohzoh Itoh Constant voltage circuit and constant current source, amplifier, and power supply circuit using the same
JP2007128457A (ja) * 2005-11-07 2007-05-24 Freescale Semiconductor Inc リップルフィルタ回路
JP2008042524A (ja) * 2006-08-07 2008-02-21 Kddi Corp 偏波モード分散モニタ方法及び装置並びに偏波モード分散抑圧方法及びシステム
JP2008305150A (ja) * 2007-06-07 2008-12-18 Nec Electronics Corp バンドギャップ回路
US20120007660A1 (en) * 2010-07-08 2012-01-12 Derek Hummerston Bias Current Generator

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5144525A (en) * 1990-09-27 1992-09-01 Tektronix, Inc. Analog acquisition system including a high speed timing generator
US5596534A (en) * 1995-06-27 1997-01-21 Micron Technology, Inc. Circuit including DRAM and voltage regulator, and method of increasing speed of operation of a DRAM
KR19990080385A (ko) * 1998-04-16 1999-11-05 김영환 전압조정회로
US6208542B1 (en) * 1998-06-30 2001-03-27 Sandisk Corporation Techniques for storing digital data in an analog or multilevel memory
US6429719B1 (en) * 1998-11-27 2002-08-06 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Signal processing circuit for charge generation type detection device
JP3866481B2 (ja) 2000-05-12 2007-01-10 株式会社東芝 半導体集積回路
JP2002083930A (ja) * 2000-09-08 2002-03-22 Fujitsu Ltd 半導体装置
US7171601B2 (en) * 2003-08-21 2007-01-30 Credence Systems Corporation Programmable jitter generator
KR101585958B1 (ko) * 2008-12-29 2016-01-18 주식회사 동부하이텍 기준전압 발생회로
US9087578B2 (en) * 2013-09-30 2015-07-21 Micron Technology, Inc. Configurable reference current generation for non volatile memory

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060022660A1 (en) * 2004-07-28 2006-02-02 Kohzoh Itoh Constant voltage circuit and constant current source, amplifier, and power supply circuit using the same
JP2006042524A (ja) * 2004-07-28 2006-02-09 Ricoh Co Ltd 定電圧回路、その定電圧回路を使用した定電流源、増幅器及び電源回路
JP2007128457A (ja) * 2005-11-07 2007-05-24 Freescale Semiconductor Inc リップルフィルタ回路
JP2008042524A (ja) * 2006-08-07 2008-02-21 Kddi Corp 偏波モード分散モニタ方法及び装置並びに偏波モード分散抑圧方法及びシステム
JP2008305150A (ja) * 2007-06-07 2008-12-18 Nec Electronics Corp バンドギャップ回路
US20090001958A1 (en) * 2007-06-07 2009-01-01 Nec Electronics Corporation Bandgap circuit
US20120007660A1 (en) * 2010-07-08 2012-01-12 Derek Hummerston Bias Current Generator

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112967744A (zh) * 2021-05-18 2021-06-15 珠海博雅科技有限公司 调整电压摆幅的电路、电路板、调整装置及闪存存储器

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