JP2017103356A - 基板処理装置、半導体装置の製造方法およびプログラム - Google Patents
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Abstract
Description
以下に本発明の第1実施形態を図面に即して説明する。
まず、第1実施形態に係る基板処理装置について説明する。
処理温度が高温になった場合、ヒータ213からの熱が、上部容器202a方向へ発散し、ウエハ200の温度均一性が低下し、処理均一性が低下する課題が有る。ここで、熱の発散は、熱伝導や熱伝達等の熱の移動で生じる。また、熱の発散は、例えば、ガス分散部としてのガス分散板234aの外周、整流板270の外周や上方、第2排気部としての排気口240起こり、基板処理装置100の外部や、処理室201と比較して低温の部分へ熱が移動する。
熱の発散を補償するようヒータ213を制御する必要があるため、消費電力が増大する。
基板と上部容器202aの蓋231との間で温度差が発生するため、それらの間に設けられた分散板234aに熱応力がかかる。その熱応力によって、分散板234aが変形したり、破損したりする可能性が有る。また、分散板234aに付着した膜が熱応力によって剥がれ、パーティクルが発生することが有る。
整流部270の上端と下端の間や中心と外周の間で温度差が生じるため、熱応力発生する。そのため、整流板270の表面に付着した膜が剥がれ、パーティクルが発生することが有る。
排気ガイド235の上端と下端の間や中心と外周の間で、温度差を生じ、熱応力が加わり、整流板270の裏面や排気流路238に付着した膜が剥がれ、パーティクルが発生することが有る。
処理室201(上部容器202a)の内壁上面には、処理室201の雰囲気を排気する第1排気部としての第1排気口221が設けられている。第1排気口221には第1排気管としての排気管224が接続されており、排気管224には、処理室201内を所定の圧力に制御するAPC(Auto Pressure Controller)等の圧力調整器227、真空ポンプ223が順に直列に接続されている。主に、第1排気口221、排気管224、圧力調整器227により、第1の排気部(排気ライン)が構成される。なお、真空ポンプ223を第1の排気部に含めるように構成しても良い。
上部容器202aの上面(天井壁)には処理室201内に各種ガスを供給するためのガス導入口241が設けられている。ガス供給部であるガス導入口241に接続される各ガス供給ユニットの構成については後述する。この様に中央から供給する構成によれば、バッファ空間232内のガス流れが中心から外周に向かって流れ、空間内のガス流れを均一にし、ウエハ200へのガス供給量を均一化させることができる。
ガス分散ユニットとしてのシャワーヘッド234は、バッファ室(空間)232、ガス分散部としての分散板234a、整流部270により構成されている。シャワーヘッド234は、ガス導入口241と処理室201との間に設けられている。ガス導入口241から導入される処理ガスはシャワーヘッド234のバッファ空間232に供給され、分散孔234bを介して、処理室201に供給される。シャワーヘッド234を構成する、分散板234aと整流部270は、例えば、石英、アルミナなどの耐熱材料のいずれか若しくは複合材料で構成される。
整流部270に接続されたガス導入口241には、共通ガス供給管242が接続されている。図4に示す様に、共通ガス供給管242には、第一ガス供給管243a、第二ガス供給管244a、第三ガス供給管245a、クリーニングガス供給管248aが接続されている。
第一ガス供給管243aには、上流方向から順に、第一ガス供給源243b、流量制御器(流量制御部)であるマスフローコントローラ(MFC)243c、及び開閉弁であるバルブ243dが設けられている。
ここで、第一元素は、例えばシリコン(Si)である。すなわち、第一処理ガスは、例えばシリコン含有ガスである。シリコン含有ガスとしては、例えばジクロロシラン(Dichlorosilane(SiH2Cl2):DCS)ガスを用いることができる。なお、第一処理ガスの原料は、常温常圧で固体、液体、及び気体のいずれであっても良い。第一処理ガスの原料が常温常圧で液体の場合は、第一ガス供給源243bとマスフローコントローラ243cとの間に、図示しない気化器を設ければよい。ここでは原料は気体として説明する。
第二ガス供給管244aの上流には、上流方向から順に、第二ガス供給源244b、流量制御器(流量制御部)であるマスフローコントローラ(MFC)244c、及び開閉弁であるバルブ244dが設けられている。
第三ガス供給管245aには、上流方向から順に、第三ガス供給源245b、流量制御器(流量制御部)であるマスフローコントローラ(MFC)245c、及び開閉弁であるバルブ245dが設けられている。
クリーニングガス供給管243aには、上流方向から順に、クリーニングガス源248b、マスフローコントローラ(MFC)248c、バルブ248d、リモートプラズマユニット(RPU)250が設けられている。
図1に示すように基板処理装置100は、基板処理装置100の各部の動作を制御するコントローラ260を有している。
次に、基板処理工程の例について、半導体デバイスの製造工程の一つである、DCSガス及びNH3(アンモニア)ガスを用いてシリコン窒化(SixNy)膜を形成する例で説明する。なお、以下の説明において、基板処理装置を構成する各部の動作は、コントローラ260により制御される。
成膜処理に際しては、先ず、ウエハ200を処理室201に搬入させる。具体的には、基板支持部210を昇降機構218によって、下降させ、リフトピン207が、貫通孔214から基板支持部210の上面側に突出させた状態にする。また、処理室201内を所定の圧力に調圧した後、ゲートバルブ1490を開放し、リフトピン207上にウエハ200を載置させる。ウエハ200をリフトピン207上に載置させた後、昇降機構218によって基板支持部210を所定の位置まで上昇させることによって、ウエハ200が、リフトピン207から基板支持部210へ載置されるようになる。また、基板載置台212の突出部212bと仕切板204とは接触する(突き当たる)様な位置に上昇させても良い。
続いて、処理室201内が所定の圧力(真空度)となるように、排気管224を介して処理室201内を排気する。この際、圧力センサが測定した圧力値に基づき、圧力調整器227としてのAPCバルブの弁の開度をフィードバック制御する。また、温度センサ(不図示)が検出した温度値に基づき、処理室201内が所定の温度となるように、ヒータ213への通電量をフィードバック制御する。ウエハ200の温度が一定になるまでの間、処理室201内に残留している水分あるいは部材からの脱ガス等を真空排気やN2ガスの供給によるパージによって除去する工程を設けても良い。これで成膜プロセス前の準備が完了することになる。なお、処理室201内を所定の圧力に排気する際に、一度、到達可能な真空度まで真空排気しても良い。
続いて、図10に示すように、第1の処理ガス供給部から処理室201内に第1の処理ガス(原料ガス)としてのDCSガスを供給する。また、排気部による処理室201内の排気を継続し処理室201内の圧力を所定の圧力(第1圧力)となるように制御する。具体的には、第1ガス供給管243aのバルブ243d、第1不活性ガス供給管246aのバルブ246dを開き、第1ガス供給管243aにDCSガス、第1不活性ガス供給管246aにN2ガスを流す。DCSガスは、第1ガス供給管243aから流れ、MFC243cにより所定の流量に調整される。N2ガスは、第1不活性ガス供給管246aから流れ、MFC246cにより所定の流量に調整される。流量調整されたDCSガスは、流量調整されたN2ガスと第1ガス供給管243a内で混合されて、バッファ空間232から、処理室201内に供給され、排気管224から排気される。このとき、ウエハ200に対してDCSガスが供給されることとなる(原料ガス(DCS)供給工程)。DCSガスは、所定の圧力範囲(第1圧力:例えば100Pa以上10000Pa以下)で処理室201内に供給する。このようにして、ウエハ200にDCSを供給する。DCSが供給されることにより、ウエハ200上に、シリコン含有層が形成される。シリコン含有層とは、シリコン(Si)または、シリコンと塩素(Cl)を含む層である。
ウエハ200上にシリコン含有層が形成された後、第1ガス供給管243aのバルブ243dを閉じ、DCSガスの供給を停止する。このとき、排気管224の圧力調整器227は開いたままとし、真空ポンプ223により処理室201内を真空排気し、処理室201内に残留したDCSガス,未反応のDCSガスまたは、シリコン含有層形成に寄与した後のDCSガスを処理室201内から排除する。また、バルブ246dは開いたままとして、不活性ガスとしてのN2ガスの処理室201内への供給を維持しても良い。バルブ246aから供給され続けるN2ガスは、パージガスとして作用し、これにより、第1ガス供給管243a、共通ガス供給管242、処理室201内に残留する未反応もしくはシリコン含有層形成に寄与した後のDCSガスを排除する効果を更に高めることができる。
処理室201内のDCS残留ガスを除去した後、パージガスの供給を停止し、反応ガスとしてのNH3ガスを供給する。具体的には、第2ガス供給管244aのバルブ244dを開き、第2ガス供給管244a内にNH3ガスを流す。第2ガス供給管244a内を流れるNH3ガスは、MFC244cにより流量調整される。流量調整されたNH3ガスは共通ガス供給管242・バッファ空間232を介して、ウエハ200に供給される。ウエハ200上に供給されたNH3ガスは、ウエハ200上に形成されたシリコン含有層と反応し、シリコンを窒化させると共に、水素、塩素、塩化水素などの不純物が排出される。
第2の処理ガス供給工程の後、反応ガスの供給を止めて、第1パージ工程S204と同様な処理を行う。残留ガス除去工程を行うことによって、第2ガス供給管244a,共通ガス供給管242,バッファ空間232,処理室201内などに残留する未反応もしくはシリコンの窒化に寄与した後のNH3ガスを排除させることができる。残留ガスを除去することによって、残留ガスによる予期せぬ膜形成を抑制することができる。
以上の第1の処理ガス供給工程S203、第1パージ工程S204、第2の処理ガス供給工程S205、第2パージ工程S206それぞれを1工程ずつ行うことにより、ウエハ200上に所定の厚さのシリコン窒化(SixNy)層が堆積される。これらの工程を繰返すことにより、ウエハ200上のシリコン窒化膜の膜厚を制御することができる。所定膜厚となるまで、所定回数繰返すように制御される。
繰返し工程S207で所定回数実施された後、基板搬出工程S208が行われ、ウエハ200が処理室201から搬出される。具体的には、処理室201内に不活性ガスを供給し、搬送可能な圧力に調圧される。調圧後、基板支持部210が昇降機構218により降下され、リフトピン207が、貫通孔214から突き出し、ウエハ200がリフトピン207上に載置される。ウエハ200が、リフトピン207上に載置された後、ゲートバルブ205が開き、ウエハ200が処理室201から搬出される。なお、搬出前に、搬出可能温度まで降温させるようにしても良い。
本実施形態によれば、以下(a)〜(f)示す1つまたは複数の効果を奏する。
第2加熱部を設けて、分散板234aを加熱することによって、分散板234aからの熱の発散を抑制し、ウエハ200の温度均一性を向上させることができる。また、第1加熱部(ヒータ213)の消費電力を低減させることができる。
第2加熱部を複数ゾーンに分割し、第2排気口と対向する位置のゾーンの温度を、他のゾーンの温度よりも高くすることで、第2排気口への熱伝導を抑制し、ウエハ200の温度均一性を向上させることができる。
分散板234aの温度差を抑制し、分散板234aの熱応力の発生を抑制させることができる。また、分散板234aに付着した膜の剥がれを抑制することができる。
整流部270の温度差による熱応力の発生を抑制し、整流部270からの膜剥がれを抑制することができる。
排気ガイド235の温度による熱応力の発生を抑制し、排気ガイド235からの膜剥がれを抑制することができる。
蓋231の外周部231bと、分散板234aと絶縁ブロック233との間に、断熱部としての断熱材239を設けることによって、分散板234aから、分散板234aの外周方向(径方向)への熱伝導を抑制し、シャワーヘッド234の温度均一性を向上させることができる。また、ヒータ213や第2加熱部271から、上部容器シール部202cや、下部容器シール部202dへの熱伝導 を抑制することができる。これにより、上部容器シール部202cや下部容器シール部202dの劣化を抑制することができる。また、蓋の外周部231bと仕切板204との熱膨張差を小さくし、熱膨張ズレによるシール性の低下を抑制することができる。
以下に、本発明の好ましい態様について付記する。
一態様によれば、
基板を加熱する第1加熱部が設けられた基板支持部と、
前記基板支持部の上側に設けられ前記基板に処理ガスを供給するガス供給部と、
前記基板支持部上の処理空間の雰囲気を排気する第1排気口と、
前記基板支持部と対向して設けられたガス分散部と、
前記ガス供給部と前記ガス分散部との間のバッファ空間を排気する第2排気口が設けられた蓋部と、
前記バッファ空間内に設けられ、前記第2排気口と少なくとも一部が対向する第2加熱部を有し、前記処理ガスを整流するガス整流部と、
前記第2加熱部を制御する制御部と、
を有する基板処理装置、または、半導体装置の製造装置が提供される。
付記1に記載の装置であって、好ましくは、
前記第2加熱部は、複数ゾーンに分割され、
前記制御部は、
前記第2排気口と対向するゾーンの温度を、他のゾーンの温度よりも高くなるように前記第2加熱部を制御する様に構成される。
付記1又は付記2に記載の装置であって、好ましくは、
前記制御部は、
前記ガス分散部の前記バッファ空間側の面の温度と、当該ガス分散部の前記処理空間側の面の温度とが、同じになるように前記第2加熱部を制御する。
付記1乃至付記3のいずれかに記載の装置であって、好ましくは、
前記蓋部に第3加熱部が設けられ、
前記制御部は、
前記処理ガスが前記蓋部に吸着しない温度となるように前記第3加熱部を制御する。
付記1乃至付記4のいずれかに記載の装置であって、好ましくは、
前記蓋の外周部と前記ガス分散部の外周部との間に、断熱部を有する。
付記1乃至付記5のいずれかに記載の装置であって、好ましくは、
前記第2加熱部の外周端は、前記基板の外周端よりも外側に位置するように構成される。
他の態様によれば、
第1加熱部が設けられた基板支持部に基板を搬送する工程と、
前記第1加熱部で前記基板を加熱する工程と、
前記基板支持部上の処理空間の雰囲気を第1排気口から排気する工程と、
前記基板支持部の上側に設けられたガス供給部から前記基板支持部と対向して設けられたガス分散部と当該ガス分散部上に設けられたガス整流部を介して前記基板に処理ガスを供給する工程と、
前記ガス分散部上に設けられた蓋部に設けられた第2排気口から、前記ガス供給部と前記ガス分散部との間のバッファ空間の雰囲気を排気する工程と、
前記第2排気口と対向した位置であって、前記ガス整流部に設けられた第2加熱部で当該ガス整流部を加熱する工程と、
を有する半導体装置の製造方法、または、基板処理方法が提供される。
付記7に記載の方法であって、好ましくは、
前記第2加熱部は、複数ゾーンに分割され、
前記第2排気口と対向するゾーンの温度を、他のゾーンの温度よりも高くなるように加熱する工程を有する。
付記7または付記8に記載の方法であって、好ましくは、
前記第2加熱部は、前記ガス分散部の前記バッファ空間側の面の温度と、当該分散板の前記処理空間側の面の温度とが、同じになるように前記ガス分散部を加熱する工程と、
を有する。
付記7乃至付記9のいずれかに記載の方法であって、好ましくは、
前記ガスが前記蓋部に吸着しないように前記蓋部に設けられた第3の加熱部で当該蓋部を加熱する工程と、を有する。
付記7乃至付記10のいずれかに記載の方法であって、好ましくは、
前記基板を前記基板支持部に搬送する工程の後、
前記基板支持部を処理位置に移動させる際に、前記第2加熱部で加熱された不活性ガスを供給する工程と、を有する。
更に他の態様によれば、
第1加熱部が設けられた基板支持部に基板を搬送させる手順と、
前記第1加熱部で前記基板を加熱させる手順と、
前記基板支持部上の処理空間の雰囲気を第1排気口から排気させる手順と、
前記基板支持部の上側に設けられたガス供給部から前記基板支持部と対向して設けられたガス分散部と当該ガス分散部上に設けられたガス整流部を介して前記基板に処理ガスを供給させる手順と、
前記ガス分散部上に設けられた蓋部に設けられた第2排気口から、前記ガス供給部と前記ガス分散部との間のバッファ空間の雰囲気を排気させる手順と、
前記第2排気口と対向した位置であって、前記ガス整流部に設けられた第2加熱部で当該ガス整流部を加熱させる手順と、
をコンピュータに実行させるプログラム、または、当該プログラムが記録された記録媒体が提供される。
一態様によれば、
基板を加熱する第1加熱部が設けられた基板支持部と、
前記第1加熱部の温度を測定する第1温度測定部と、
前記基板に処理ガスを供給するガス供給部と、
前記基板支持部上の処理空間を排気する第1排気口と、
前記基板支持部と対向して設けられたガス分散部と、
前記ガス供給部と前記ガス分散部との間のバッファ空間を排気する第2排気口が設けられた蓋部と、
前記バッファ空間に設けられ、前記第2排気口と対向する位置に第2加熱部が設けられたガス整流部と、
前記第2加熱部の温度を測定する第2温度測定部と、
前記第1温度測定部から受信した温度情報と前記第2温度測定部から受信した温度情報とを基に、前記第1加熱部と前記第2加熱部を制御する制御部と、
を有する基板処理装置、または、半導体装置の製造装置が提供される。
付記13に記載の装置であって、好ましくは、
前記第2加熱部は、複数ゾーンに分割され、
前記第2温度検出部及び第2温度情報受信部は、前記複数ゾーン毎に設けられ、
前記制御部は、
前記第2排気口と対向するゾーンの温度を、他のゾーンの温度よりも高くなるように、前記第2温度測定部から受信した前記温度情報を基に、前記第2加熱部を制御する様に構成される。
<付記15>
付記13または付記14に記載の装置であって、好ましくは、
前記制御部は前記第2温度測定部から受信した前記温度情報と、前記第2加熱部を制御する電力値で構成されるテーブルを有する。
200 ウエハ(基板)
201 処理室
202 処理容器
211 載置面
212 基板載置台
215 外周面
232 バッファ空間
234 シャワーヘッド
234 分散板
234b 分散孔
241 第1ガス導入口
Claims (12)
- 基板を加熱する第1加熱部が設けられた基板支持部と、
前記基板支持部の上側に設けられ前記基板に処理ガスを供給するガス供給部と、
前記基板支持部上の処理空間の雰囲気を排気する第1排気口と、
前記基板支持部と対向して設けられたガス分散部と、
前記ガス供給部と前記ガス分散部との間のバッファ空間を排気する第2排気口が設けられた蓋部と、
前記バッファ空間内に設けられ、前記第2排気口と少なくとも一部が対向する第2加熱部を有し、前記処理ガスを整流するガス整流部と、
前記第2加熱部を制御する制御部と、
を有する基板処理装置。 - 前記第2加熱部は、複数ゾーンに分割され、
前記制御部は、
前記第2排気口と対向するゾーンの温度を、他のゾーンの温度よりも高くなるように前記第2加熱部を制御する請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記制御部は、
前記ガス分散部の前記バッファ空間側の面の温度と、当該ガス分散部の前記処理空間側の面の温度とが、同じになるように前記第2加熱部を制御する請求項1または2に記載の基板処理装置。 - 前記蓋部には第3加熱部が設けられ、
前記制御部は、
前記ガスが前記蓋部に吸着しない温度となるように前記第3加熱部を制御する請求項1乃至3のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記蓋部の外周部と前記ガス分散部の外周部との間に断熱部が設けられる請求項1乃至4のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記第2加熱部の外周端は、前記基板の外周端よりも外側に位置するように構成される請求項1乃至5のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 第1加熱部が設けられた基板支持部に基板を搬送する工程と、
前記第1加熱部で前記基板を加熱する工程と、
前記基板支持部上の処理空間の雰囲気を第1排気口から排気する工程と、
前記基板支持部の上側に設けられたガス供給部から前記基板支持部と対向して設けられたガス分散部と当該ガス分散部上に設けられたガス整流部を介して前記基板に処理ガスを供給する工程と、
前記ガス分散部上に設けられた蓋部に設けられた第2排気口から、前記ガス供給部と前記ガス分散部との間のバッファ空間の雰囲気を排気する工程と、
前記第2排気口と対向した位置であって、前記ガス整流部に設けられた第2加熱部で当該ガス整流部を加熱する工程と、
を有する半導体装置の製造方法。 - 前記第2加熱部は、複数ゾーンに分割され、
前記第2排気部の排気口と対向するゾーンの温度を、他のゾーンの温度よりも高くなるように加熱する工程を有する請求項7に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記第2加熱部は、前記ガス分散板の前記バッファ空間側の面の温度と、当該ガス分散部の前記処理空間側の面の温度とが、同じになるように前記ガス分散部を加熱する工程と、
を有する請求項7または請求項8に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記処理ガスが前記蓋部に吸着しないように前記蓋部に設けられた第3の加熱部で当該蓋部を加熱する工程と、を有する請求項7乃至9のいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記基板を前記基板支持部に搬送する工程の後、
前記基板支持部を処理位置に移動させる際に、前記第2加熱部で加熱された不活性ガスを供給する工程と、を有する請求項7乃至10のいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。 - 第1加熱部が設けられた基板支持部に基板を搬送させる手順と、
前記第1加熱部で前記基板を加熱させる手順と、
前記基板支持部上の処理空間の雰囲気を第1排気口から排気させる手順と、
前記基板支持部の上側に設けられたガス供給部から前記基板支持部と対向して設けられたガス分散部と当該ガス分散部上に設けられたガス整流部を介して前記基板に処理ガスを供給させる手順と、
前記ガス分散部上に設けられた蓋部に設けられた第2排気口から、前記ガス供給部と前記ガス分散部との間のバッファ空間の雰囲気を排気させる手順と、
前記第2排気口と対向した位置であって、前記ガス整流部に設けられた第2加熱部で当該ガス整流部を加熱させる手順と、
をコンピュータに実行させるプログラム。
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