JP2017102258A - 液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】カラーフィルタへの優れた平坦性を維持し、高温高湿下においても表示性能が良好な液晶表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】視認側から、第１の基板３０と、液晶層２０と、第２の基板４０とをこの順に有する液晶表示装置であって、第１の基板３０が、基材１５と、配向保護層２１とを具備し、第２の基板４０が、基材１４と、薄膜トランジスタ１６と、表示電極１９と、配向膜２３とを具備し、配向保護層２１が、液晶層２０と接する面を有し、配向保護層２１が、共有結合を介して互いに連結した配向性基および架橋構造を有し、飛行時間型二次イオン質量分析法で検出される配向性基に由来するフラグメントについて、配向保護層２１の液晶層２０に接する面におけるフラグメントの強度ＥＬｑと、配向保護層の基材側の面におけるフラグメントの強度ＥＳｕｂとが、所定の関係を満たし、架橋構造が、所定の構造式で表される、液晶表示装置。
【選択図】図１

Description

本発明は、液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法に関する。

液晶表示装置（liquid crystal display：ＬＣＤ）は、低電圧・低消費電力で小型化・薄膜化が可能など様々な利点からパーソナルコンピューターやスマートフォンなどのモニター、テレビ用途に広く利用されている。
このような液晶表示装置は、液晶セルおよび液晶セルの両側に配置された２枚の偏光板を有しており、また、液晶セルは、液晶層と液晶層を挟んで互いに対向して配置される２枚の基板とを有しており、この２枚の基板には、一般的に液晶層を構成する液晶を配向させるため配向膜が設けられている。

このような配向膜を形成する材料として、例えば、特許文献１には、「第一成分としてシリコーン基又はフッ素置換アルキル基及び光配向性基を有するポリマーと、第二成分としてメタクリル酸及びメタクリル酸エステルからなる群より選ばれる少なくとも１種を含む単量体を重合して得られる非光配向性ポリマーとを含有する光配向性高分子組成物。」が記載されている（［請求項１］［請求項２８］）。

特開２０１３−１７７５６１号公報

ところで、液晶表示装置には、視認側にカラーフィルターを設けることが一般的であり、また、このカラーフィルターには、カラーフィルターからの不純物の透過を防ぐ観点やカラーフィルターの段差を平坦化させる観点から、保護層（オーバーコート層）を設けることが知られている。
ここで、本発明者らは、視認側にカラーフィルターを設けた場合に保護層が不要となる配向膜、すなわち、保護層と配向膜との機能を有する配向保護層を設けることを検討した。
また、本発明者らは、このような配向保護層として、特許文献１に記載された配向膜を検討したところ、光配向性高分子組成物の配合剤によっては平坦性が劣る場合があり、また、液晶表示装置が高温高湿下に晒された場合には表示性能が劣る問題点があることを明らかとした。
そこで、本発明は、視認側にカラーフィルターを設けた場合であっても優れた平坦性を維持し、かつ、高温高湿下に晒された場合にも表示性能が良好な液晶表示装置およびその製造方法を提供することを課題とする。

本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、共有結合を介して互いに連結した配向性基および架橋構造を有する配向保護層を設け、かつ、配向性基を液晶層に接する面側に偏在させることにより、視認側にカラーフィルターを設けた場合であっても優れた平坦性を維持し、かつ、高温高湿下に晒された場合にも表示性能が良好となることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。

［１］ 視認側から、第１の基板と、液晶層と、第２の基板とをこの順に有する液晶表示装置であって、
第１の基板が、基材と、配向保護層とを具備し、
第２の基板が、基材と、薄膜トランジスタと、表示電極と、配向膜とを具備し、
配向保護層が、液晶層と接する面を有し、
配向保護層が、共有結合を介して互いに連結した配向性基および架橋構造を有し、
飛行時間型二次イオン質量分析法で検出される配向性基に由来するフラグメントについて、配向保護層の液晶層に接する面における配向性基に由来するフラグメントの質量分析の強度ＥＬｑと、配向保護層の基材側の面における配向性基に由来するフラグメントの質量分析の強度ＥＳｕｂとが、下記条件１または２を満たし、
架橋構造が、後述する式（Ａ−１）〜（Ａ−３）で表されるいずれかの構造を含む、液晶表示装置。
条件１：強度ＥＬｑが強度ＥＳｕｂの２倍〜２０倍である。
条件２：強度ＥＬｑが有意に測定され、強度ＥＳｕｂが測定限界以下である。
［２］ 強度ＥＬｑが、強度ＥＳｕｂの５倍〜２０倍である、［１］に記載の液晶表示装置。
［３］ 配向性基が、光配向性基を光反応させてなる基である、［１］または［２］に記載の液晶表示装置。
［４］ 配向保護層の膜厚が１〜４μｍである、［１］〜［３］のいずれかに記載の液晶表示装置。
［５］ 液晶層を構成する液晶が、水平配向液晶である、［１］〜［４］のいずれかに記載の液晶表示装置。
［６］ 配向性基に由来するフラグメントが、シンナメート基およびカルコン基からなる群から選択される少なくとも１種の光配向性基に由来するフラグメントである、［１］〜［５］のいずれかに記載の液晶表示装置。

［７］ 基材上に、配向性基を有する構成単位を含む重合体Ｐと、配向性基を有する構成単位を含まない重合体Ａとを含有する配向保護層形成用組成物を用いて保護層を形成した後に、保護層に対して配向処理を施して配向保護層を形成し、第１の基板を作製する第１工程と、
基材、薄膜トランジスタ、表示電極および配向膜を具備する第２の基板と、第１の基板とを張り合わせて液晶を封入し、第１の基板と第２の基板との間に液晶層を形成し、液晶表示装置を作製する第２工程と、を有する液晶表示装置の製造方法。
［８］ 重合体Ｐが、配向性基を有する構成単位として下記ｓ１に示される構成単位を含み、
重合体Ｐおよび重合体Ａが、下記条件３または４を満たす、［７］に記載の液晶表示装置の製造方法。
ｓ１：フッ素置換炭化水素基、シロキサン骨格および炭素数１０〜３０のアルキル基からなる群より選択される少なくとも１つの部分構造を有する構成単位、ならびに、光配向性基を有する構成単位
条件３：重合体Ｐが、架橋性基を有する構成単位ａ２を含み、かつ、重合体Ａが、酸基を有する構成単位ａ３を含む。
条件４：重合体Ｐが、酸基を有する構成単位ａ３を含み、かつ、重合体Ａが、架橋性基を有する構成単位ａ２を含む。
［９］ 架橋性基が、オキシラニル基、３，４−エポキシシクロヘキシル基、および、オキセタニル基からなる群から選択される少なくとも１種である、［８］に記載の液表示装置の製造方法。
［１０］ 重合体Ｐおよび重合体Ａの合計質量に対する重合体Ｐの質量割合が１０質量％未満である、［７］〜［９］のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
［１１］ 配向保護層形成用組成物が、更に、分子量５０００以下の架橋剤Ｂを含有する、［７］〜［１０］のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
［１２］ 架橋剤Ｂが、エポキシ基を有する架橋剤を含み、
架橋剤Ｂ、重合体Ｐおよび重合体Ａの合計質量に対する架橋剤Ｂの質量割合が３０質量％以下である、［１１］に記載の液晶表示装置の製造方法。
［１３］ 配向性基が、光配向性基であり、
配向処理が、波長３６５ｎｍ以下の光を用いる光配向処理である、［７］〜［１２］のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
［１４］ 第１工程が、配向処理の前または後に、熱処理を施す工程を含む、［７］〜［１３］のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。

本発明によれば、視認側にカラーフィルターを設けた場合であっても優れた平坦性を維持し、かつ、高温高湿下に晒された場合にも表示性能が良好な液晶表示装置およびその製造方法を提供することができる。

図１は、本発明の液晶表示装置の実施態様の一例を示す模式的な断面図である。

以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
本明細書における基（原子団）の表記において、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」または「メタクリレート」を表す表記であり、「（メタ）アクリル」は、「アクリル」または「メタクリル」を表す表記であり、「（メタ）アクリロイル」は、「アクリロイル」または「メタクリロイル」を表す表記である。

［液晶表示装置］
本発明の液晶表示装置は、視認側から、第１の基板と、液晶層と、第２の基板とをこの順に有する液晶表示装置であって、第１の基板が、基材と、配向保護層とを具備し、第２の基板が、基材と、薄膜トランジスタと、表示電極と、配向膜とを具備するものである。
また、本発明の液晶表示装置においては、配向保護層が、液晶層と接する面を有し、また、配向性基および後述する式（Ａ−１）〜（Ａ−３）で表されるいずれかの構造を含む架橋構造を有し、更に、配向性基および架橋構造が共有結合を介して互いに連結した構造を有している。
更に、本発明の液晶表示装置においては、飛行時間型二次イオン質量分析法（Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry：ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）で検出される配向性基に由来するフラグメントについて、配向保護層の液晶層に接する面における配向性基に由来するフラグメントの質量分析の強度ＥＬｑと、配向保護層の基材側の面における配向性基に由来するフラグメントの質量分析の強度ＥＳｕｂとが、下記条件１または２を満たしている。
条件１：強度ＥＬｑが強度ＥＳｕｂの２倍〜２０倍である。
条件２：強度ＥＬｑが有意に測定され、強度ＥＳｕｂが測定限界以下である。

＜ＴＯＦ−ＳＩＭＳの測定条件＞
本発明におけるＴＯＦ−ＳＩＭＳによる測定は、以下に示すように測定する。
（１）配向保護層と配向保護層に隣接する隣接層とを剥離し、配向保護層の表面（液晶層に接している面をいう。以下、同様。）および配向保護層の裏面（基材または基材側の隣接層と接している面をいう。以下、同様。）を露出させることができる場合、下記（３）に示す装置および条件で、配向保護層の表面における配向性基に由来するフラグメントの質量分析の強度ＥＬｑ、および、配向保護層の裏面における配向性基に由来するフラグメントの質量分析の強度ＥＳｕｂを測定する。
（２）配向保護層の表面および裏面を露出させることができない場合、配向保護層と隣接層とを有する積層体について、サイカス法（Surface and Interfacial Cutting Analysis System：ＳＡＩＣＡＳ）を用いて、切削面が配向保護層の表面および裏面に至るように斜め方向に切削し、配向保護層の断面を露出させる。
露出させた断面について、配向保護層の表面から深さ（厚み）方向に１０ｎｍの領域を下記（３）に示す装置および条件で測定した配向性基に由来するフラグメントの質量分析の強度を強度ＥＬｑとし、配向保護層の裏面から深さ（厚み）方向に２０００ｎｍの領域を下記（３）に示す装置および条件で測定した配向性基に由来するフラグメントの質量分析の強度を強度ＥＳｕｂとする。
（３）以下の装置および条件で測定する。
・装置：ＴＯＦ−ＳＩＭＳ ＩＶ（ＩＯＮ−ＴＯＦ社製）
・一次イオン：Ｂｉ^３＋（ビーム直径２μｍ）
・測定範囲：一の方向およびその直交方向に各々２５６点ずつラスタースキャン
・極性：ｐｏｓｉ、ｎｅｇａ

本発明の液晶表示装置は、上述した配向保護層を設けることにより、視認側にカラーフィルターを設けた場合であっても優れた平坦性を維持し、かつ、高温高湿下に晒された場合にも表示性能が良好となる。
これは、詳細には明らかではないが、本発明者らは以下のように推測している。
すなわち、配向保護層が、配向性基および後述する式（Ａ−１）〜（Ａ−３）で表されるいずれかの構造を含む架橋構造を有し、また、配向性基および架橋構造が共有結合を介して互いに連結した構造を有し、更に、ＴＯＦ−ＳＩＭＳ測定による強度ＥＬｑおよび強度ＥＳｕｂが上述した条件１または２を満たすことにより、配向性基が配向保護層の表面に偏在し、かつ、配向性基が配向保護層を構成するポリマーと強固に結合していると考えられる。
そのため、配向性基が配向保護層の裏面側にカラーフィルターを設けた場合であっても平坦性を損なわず、また、高温高湿下に晒された場合にも液晶層の配向を維持することができるため表示性能が良好になると考えられる。

本発明においては、高温高湿下に晒された場合にも表示性能がより良好となる理由から、ＴＯＦ−ＳＩＭＳ測定による強度ＥＬｑが、強度ＥＳｕｂの５倍〜２０倍であるのが好ましい。

次に、図１を用いて本発明の液晶表示装置の構成の概要を説明した後に、本発明の液晶表示装置が有する第１の基板、液晶層および第２の基板について、詳細に説明する。

図１は、本発明の液晶表示装置の実施態様の一例を示す模式的な断面図である。
図１に示す液晶表示装置１０は、視認側から、第１の基板３０と、液晶層２０と、第２の基板４０とがこの順に設けられている。
また、第１の基板３０は、偏光フィルムが貼り付けられた基材１５と、ブラックマトリックスを配置したＲＧＢカラーフィルター２２と、液晶層２０と接する面を有する配向保護層２１とが設けられている。
また、第２の基板４０は、偏光フィルムが貼り付けられた基材１４と薄膜トランジスタ１６の素子とが配置されている。基材１４上に形成された各素子には、硬化膜１７中に形成されたコンタクトホール１８を通して、表示電極を形成するＩＴＯ透明電極１９が配線されており、ＩＴＯ透明電極１９の上には、配向膜２３が設けられている。
また、図１に示す液晶表示装置１０は、背面にバックライトユニット１２を有しており、バックライトの光源としては、特に限定されず公知の光源を用いることができる。例えば、白色ＬＥＤ（light emitting diode）、青色・赤色・緑色などの多色ＬＥＤ、蛍光灯（冷陰極管）、有機エレクトロルミネッセンスなどを挙げることができる。
また、液晶表示装置は、３Ｄ（立体視）型のものとしたり、タッチパネル型のものとしたりすることも可能である。更にフレキシブル型にすることも可能であり、特開２０１１−１４５６８６号公報の第２相間絶縁膜（４８）や、特開２００９−２５８７５８号公報の相間絶縁膜（５２０）として用いることができる。

〔第１の基板〕
本発明の液晶表示装置が有する第１の基板は、後述する液晶層よりも視認側に設けられる基板であり、基材と配向保護層とを具備する。なお、配向保護層は、後述する液晶層と接する面を有するため、第１の基板は、視認側から基材と配向保護層とをこの順に具備するものである。
また、本発明の液晶表示装置が視認側に任意のカラーフィルターを設ける場合には、第１の基板は、基材とカラーフィルターと配向保護層とをこの順に具備する。

＜基材＞
上記基材としては、従来公知の液晶表示装置の液晶セルに用いられる透明基板を用いることができ、例えば、ガラス基板、石英基板、透明樹脂基板等を用いることができる。中でも、ガラス基板を用いるのが好ましい。

＜配向保護層＞
上記配向保護層は、上述した通り、後述する液晶層と接する面を有し、また、配向性基および後述する式（Ａ−１）〜（Ａ−３）で表されるいずれかの構造を含む架橋構造を有し、更に、配向性基および架橋構造が共有結合を介して互いに連結した構造を有している。

（配向性基）
上記配向保護層が有する配向性基は、液晶性化合物を配向させる機能を有する官能基を配向させた基であれば特に限定されないが、本発明においては、配向保護層の形成時に表面に接触せず、面状悪化を防ぐことが可能となる理由から、光配向性基を光反応させてなる基であるのが好ましい。

ここで、光配向性基とは、光二量化反応、光異性化反応および光分解反応のいずれかにより、配向性を付与する光反応性基をいう。
また、光二量化反応によって配向性を付与する基としては、例えば、マレイミド誘導体、桂皮酸誘導体およびクマリン誘導体からなる群から選択される少なくとも１種の誘導体から導入される基などが挙げられ、具体的には、シンナメート基、カルコン基が好適に挙げられる。
なお、シンナメート基、および、カルコン基としては、例えば、以下の構造（下記式中、＊はポリマー鎖への連結部位を表し、Ｒは水素原子または１価の有機基を表す）を導入することができ、また、＊で表されるポリマー鎖への連結部位は、ポリマーの主鎖に直結していてもよいし、２価の連結基を介して結合していてもよい。Ｒが表す１価の有機基としては、アルキル基またはアリール基が好ましい。また、Ｒが表す１価の有機基の炭素数は１〜１０が好ましく、１〜７がより好ましい。

一方、光の作用により異性化する反応性基としては、具体的には、例えば、アゾベンゼン化合物、スチルベン化合物およびスピロピラン化合物からなる群から選択される少なくとも１種の化合物の骨格からなる基などが好適に挙げられる。
また、光の作用により分解する反応性基としては、具体的には、例えば、シクロブタン化合物の骨格からなる基などが好適に挙げられる。

これらのうち、反応の不可逆性の理由から、より短波光で反応する光二量化反応によって配向性を付与する基であるのが好ましく、シンナメート基およびカルコン基からなる群から選択される少なくとも１種であるのがより好ましい。

（架橋構造）
上記配向保護層が有する架橋構造は、下記式（Ａ−１）〜（Ａ−３）で表されるいずれかの構造を含む架橋構造である。

上記式（Ａ−１）〜（Ａ−３）中、＊は結合位置を表し、上記式（Ａ−３）中、Ｒ¹は、それぞれ独立に水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘキシル基等が挙げられる。

ここで、上記式（Ａ−１）〜（Ａ−３）で表される構造を含む架橋構造としては、例えば、架橋性基（例えば、エポキシ基、オキセタニル基など）と酸基（例えば、カルボキシル基など）との反応により生じる架橋構造が挙げられ、具体的には、下記式（Ａ−１−１）、式（Ａ−２−１）、式（Ａ−３−１）で表される架橋構造が挙げられる。
なお、下記式（Ａ−１−１）、式（Ａ−２−１）、式（Ａ−３−１）中、＊は結合位置を表し、下記式（Ａ−３−１）中、Ｒ¹は、それぞれ独立に水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。

上記配向保護層は、上述した通り、上記配向性基および上記架橋構造が共有結合を介して互いに連結した構造を有する。
そのため、本発明においては、後述する架橋性基（例えば、エポキシ基、オキセタニル基など）を有する構成単位を含む重合体、および／または、後述する酸基（例えば、カルボキシル基など）を有する構成単位を含む重合体が、上記配向性基を有する構成単位を更に含んでいることが好ましい。

本発明においては、上記配向保護層の膜厚が１〜４μｍであるのが好ましく、２〜３μｍであるのがより好ましい。

＜カラーフィルター＞
本発明の液晶表示装置が有する第１の基板は、上述した基材と配向保護層との間に、カラーフィルターを具備していてもよい。
上記カラーフィルターとしては特に限定されず、例えば、一般的に液晶表示装置のカラーフィルターとして公知のものを用いることができる。
このようなカラーフィルターは、通常、赤色、緑色及び青色の各色の透明着色パターンから構成され、それら各透明着色パターンは、着色剤が溶解又は分散、好ましくは顔料微粒子が分散された樹脂組成物から構成される。
なお、上記カラーフィルターの形成は、所定の色に着色したインキ組成物を調製して、着色パターン毎に印刷することによって行なってもよいが、所定の色の着色剤を含有した塗料タイプの感光性樹脂組成物を用いて、フォトリソグラフィ法によって行なうのがより好ましい。

〔液晶層〕
本発明の液晶表示装置が有する液晶層は、上述した第１の基板と後述する第２の基板とに挟持される液晶層である。
また、この液晶層は、上述した通り、上述した第１の基板が具備する配向保護層と接するように設けられる。

本発明の液晶表示装置に利用される液晶層を駆動させるための駆動方式としては、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式、ＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｅ Ｆｉｅｌｄ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）方式などが挙げられる。

これらの駆動方式の中でもＩＰＳ方式であることが好ましい。
ＩＰＳ方式の液晶セルは、棒状液晶分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。即ち、ＩＰＳ方式においては、液晶層を構成する液晶が水平配向液晶である。ＩＰＳ方式は電界無印加状態で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。

〔第２の基板〕
本発明の液晶表示装置が有する第２の基板は、上述した液晶層の第１の基板と反対側（バックライト側）に設けられる基板であり、基材と、薄膜トランジスタと、表示電極と、配向膜とを具備する。

＜基材＞
第２の基板が具備する基材としては、上述した第１の基板と同様、従来公知の液晶表示装置の液晶セルに用いられる透明基板を用いることができ、例えば、ガラス基板、石英基板、透明樹脂基板等を用いることができる。中でも、ガラス基板を用いるのが好ましい。

＜薄膜トランジスタ＞
第２の基板が具備する薄膜トランジスタ（thin film transistor：ＴＦＴ）としては、公知の液晶表示装置で使用されているものが適宜利用可能であり、その構成は、特に限定されるものではなく、トップゲート型であってもボトムゲート型であってもよい。
上記薄膜トランジスタの具体例としては、アモルファスシリコン−ＴＦＴ、低温ポリシリコンーＴＦＴ、酸化物半導体ＴＦＴ等が挙げられる。

＜表示電極＞
第２の基板が具備する表示電極としては、公知の液晶表示装置で使用されているものが適宜利用可能であり、その構成材料としては、例えば、酸化インジウムスズ（Indium Tin Oxide：ＩＴＯ）、酸化亜鉛アルミニウム（Aluminum doped Zinc Oxide：ＡＺＯ）、酸化インジウム亜鉛（Indium Zinc oxide：ＩＺＯ）等の透明な導電材料を用いることができる。

＜配向膜＞
第２の基板が具備する配向膜としては、一般的にはポリマーを主成分とする、公知の液晶表示装置で使用されているものが適宜利用可能である、
配向膜用ポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。
本発明において利用されるポリマー材料は、ポリビニルアルコール又はポリイミド、及びその誘導体が好ましい。特に変性又は未変性のポリビニルアルコールが好ましい。
本発明に使用可能な配向膜については、例えば、国際公開第０１／８８５７４号の４３頁２４行〜４９頁８行に記載された配向膜；特許第３９０７７３５号公報の段落［００７１］〜［００９５］に記載の変性ポリビニルアルコール；特開２０１２−１５５３０８号公報に記載された液晶配向剤により形成される液晶配向膜;等が挙げられる。

液晶表示装置の他の構成（例えば、偏光板、バックライトなど）については、特開２００７−３２８２１０号公報および特開２０１４−２３８４３８号公報の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれることとする。

［液晶表示装置の製造方法］
本発明の液晶表示装置の製造方法は、基材上に、配向性基を有する構成単位を含む重合体Ｐと、配向性基を有する構成単位を含まない重合体Ａとを含有する配向保護層形成用組成物を用いて保護層を形成した後に、保護層に対して配向処理を施して配向保護層を形成し、第１の基板を作製する第１工程を有する。
また、本発明の液晶表示装置の製造方法は、基材、薄膜トランジスタ、表示電極および配向膜を具備する第２の基板と、第１の基板とを張り合わせて液晶を封入し、第１の基板と第２の基板との間に液晶層を形成し、液晶表示装置を作製する第２工程を有する。

〔第１工程〕
第１工程は、基材上に、配向性基を有する構成単位を含む重合体Ｐと、配向性基を有する構成単位を含まない重合体Ａとを含有する配向保護層形成用組成物を用いて保護層を形成した後に、保護層に対して配向処理を施して配向保護層を形成し、第１の基板を作製する工程である。
なお、第１工程における基材は、本発明の液晶表示装置の第１の基板が具備する基材と同様である。

＜配向保護層形成用組成物＞
上記配向保護層形成用組成物は、配向保護層の位相差を低くし、透明性を高め、配向保護層において上述した架橋構造が形成しやすくなる理由から、上記重合体Ｐが、上記配向性基を有する構成単位として下記ｓ１に示される構成単位を含み、上記重合体Ｐおよび上記重合体Ａが、下記条件３または４を満たしているのが好ましい。
ｓ１：フッ素置換炭化水素基、シロキサン骨格および炭素数１０〜３０のアルキル基からなる群より選択される少なくとも１つの部分構造を有する構成単位、ならびに、光配向性基を有する構成単位
条件３：重合体Ｐが、架橋性基を有する構成単位ａ２を含み、かつ、重合体Ａが、酸基を有する構成単位ａ３を含む。
条件４：重合体Ｐが、酸基を有する構成単位ａ３を含み、かつ、重合体Ａが、架橋性基を有する構成単位ａ２を含む。

本発明においては、配向保護層において上述した架橋構造が更に形成しやすくなる理由から、上記重合体Ｐおよび／または上記重合体Ａが有する架橋性基が、オキシラニル基、３，４−エポキシシクロヘキシル基、および、オキセタニル基からなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましい。

以下に、上記配向保護層形成用組成物が含有する重合体Ｐおよび重合体Ａの具体例ならびに任意の添加剤等について詳述する。

（重合体Ｐ）
上記重合体Ｐとしては、上述した通り、下記ｓ１に示される構成単位（以下、「構成単位ｓ１」ともいう。）を含む重合体が好ましく挙げられる。
ｓ１：フッ素置換炭化水素基、シロキサン骨格および炭素数１０〜３０のアルキル基からなる群より選択される少なくとも１つの部分構造（以下、「偏在性基」ともいう。）を有する構成単位、ならびに、光配向性基を有する構成単位

＜＜フッ素置換炭化水素基の部分構造を有する構成単位＞＞
フッ素置換炭化水素基とは、少なくとも１つのフッ素原子により置換された炭化水素基であればよく、アルキル基またはアルキレン基（以下、本段落においては「アルキル基等」と略す。）における少なくとも１つの水素原子をフッ素原子に置換したアルキル基等が挙げられ、アルキル基等のすべての水素原子をフッ素原子に置換したアルキル基等がより好ましい。

このようなフッ素置換炭化水素基は、偏在性の観点から、下記一般式Ｉで表される基であることが好ましい。

一般式Ｉ中、Ｒ^２は水素原子又は炭素数１〜４個のアルキル基を表し、＊はポリマー鎖への連結部位を表す。Ｘは単結合又は２価の連結基を表し、ｍは１〜３の整数を表し、ｎは１以上の整数を表し、ｒは０または１〜２の整数を表す。なお、ｍが１である場合、複数のＲ^２はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。

一般式Ｉにおけるｍは、１〜３の整数を表し、１又は２であることが好ましい。
一般式Ｉにおけるｎは、１以上の整数を表し、１〜１０の整数であることが好ましく、１〜４の整数であることがより好ましく、１又は２であることが特に好ましい。
一般式Ｉにおけるｒは、０または１〜２の整数を表し、１又は２であることが好ましく、２であることがより好ましい。
また、＊で表されるポリマー鎖への連結部位は、上述した重合体Ａ１−１など重合体の主鎖に直結していてもよいし、ポリオキシアルキレン基、アルキレン基、エステル基、ウレタン基、ヘテロ原子を含んでもよい環状アルキレン基、ポリ（カプロラクトン）、アミノ基、等の２価の連結基を介して結合していてもよい。ポリオキシアルキレン基を介して結合していることが好ましい。

一般式ＩにおいてＲ^２で表される炭素数１〜４個のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられ、好ましくは、水素原子、又はメチル基であり、より好ましくは水素原子である。
一般式Ｉにおいて、Ｘが単結合である場合は、ポリマー主鎖と、Ｒ^２が結合している炭素原子と、が直接連結していることを意味する。
また、Ｘが２価の連結基である場合には、その連結基としては、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ^４）−、−ＣＯ−等が挙げられる。これらの中でも−Ｏ−がより好ましい。ここで、Ｒ^４は、水素原子又は炭素数１〜４個のアルキル基を表す。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられ、好ましくは、水素原子、メチル基である。

フッ素置換炭化水素基を重合体に導入する方法としては、高分子反応によってフッ素置換炭化水素基を重合体に導入する方法；フッ素置換炭化水素基を有するモノマー（以下、「フッ素置換炭化水素基含有モノマー」と称する。）を共重合し、重合体にフッ素置換炭化水素基を有する構成単位を導入する方法；などが挙げられる。

フッ素置換炭化水素基含有モノマーを共重合し、重合体にフッ素置換炭化水素基を有する構成単位を導入する方法における、フッ素置換炭化水素基含有モノマーとしては、下記一般式ＩＩで表されるモノマーが好ましいものとして挙げられる。

一般式ＩＩ中、Ｒ^１は水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよいメチル基、又は置換基を有してもよいエチル基を表す。また、Ｒ^２、Ｘ、ｍ、ｎおよびｒはいずれも、一般式ＩにおけるＲ^２、Ｘ、ｍ、ｎおよびｒと同義であり、好ましい例も同様である。
なお、一般式ＩＩにおいてＲ^１で表されるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が挙げられる。

なお、このようなフッ素置換炭化水素基含有モノマーの製造法に関しては、例えば、「フッ素化合物の合成と機能」（監修：石川延男、発行：株式会社シーエムシー、１９８７）の１１７〜１１８ページや、「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｆｌｕｏｒｉｎｅ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ ＩＩ」（Ｍｏｎｏｇｒａｐｈ １８７，Ｅｄ ｂｙ Ｍｉｌｏｓ Ｈｕｄｌｉｃｋｙ ａｎｄ Ａｔｔｉｌａ Ｅ．Ｐａｖｌａｔｈ， Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ １９９５）の７４７〜７５２ページに記載されている。

また、一般式ＩＩで表されるモノマーの具体例としては、下記式（ＩＩａ）で表されるテトラフルオロイソプロピルメタクリレート、下記式（ＩＩｂ）で表されるヘキサフルオロイソプロピルメタクリレートなどが挙げられる。
また、その他の具体例としては、特開２０１０−１８７２８号公報段落番号〔００５８〕〜〔００６１〕に記載の化合物が挙げられる。これらのうちポリオキシアルキレン基にフッ素置換炭化水素基が結合した構造が好ましい。

＜＜シロキサン骨格の部分構造を有する構成単位＞＞
シロキサン骨格とは、「−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−」を有していれば、特に制限はなく、ポリオキシアルキレン基を含むことが好ましい。

本発明においては、シロキサン骨格は、偏在性の観点から、（メタ）アクリロイルオキシ基とアルコキシシリル基とを有する化合物を共重合して、重合体にシロキサン骨格の部分構造を有する構成単位に導入することが好ましい。
ここで、アルコキシシリル基としては、例えば、下記式（Ｘ）で表される基が好ましい。

上記式（Ｘ）中、Ｒ³〜Ｒ⁵は、それぞれ独立して水素原子、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、または、アルコキシ基を表し、少なくとも１つはアルコキシ基である。＊は、結合位置を表す。

上記式（Ｘ）中、Ｒ³〜Ｒ⁵のうちの少なくとも１つはアルコキシ基であり、アルコキシ基としては、炭素数１〜１５のアルコキシ基であることが好ましく、炭素数１〜８のアルコキシ基であることがより好ましく、炭素数１〜４のアルコキシ基であることが更に好ましく、エトキシ基又はメトキシ基であることが特に好ましい。
本発明においては、Ｒ³〜Ｒ⁵のうち、２つがアルコキシ基及び１つがアルキル基である場合、又は、３つがアルコキシ基である場合が好ましい。中でも、３つがアルコキシ基である態様、すなわち、トリアルコキシシリル基であることがより好ましい。

このようなアルコキシシリル基と（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する化合物としては、具体的には、例えば、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。

また、本発明においては、シロキサン骨格は、偏在性の観点から、下記構造式（Ａ）で表される化合物（以下、「特定シロキサン化合物」ともいう）を重合して、シロキサン骨格を重合体に導入することが好ましい。

上記構造式（Ａ）中、Ｒ^７は、水酸基、アミン基、ハロゲン原子などの置換基を有してよい炭素数が２〜６の直鎖若しくは分岐のアルキレン基、又は、下記構造式（Ｂ）で表される２価の連結基を示す。

上記構造式（Ｂ）中、Ｒ^４は、水素原子、メチル基、エチル基を表す。ｎ１、ｎ２、およびｎ３は、それぞれ独立に０〜１００の整数である。ここで、Ｒ^４は構造式（Ｂ）中に２つ以上存在するが、それぞれ異なっていてもよく、また、同じであってもよい。

上記構造式（Ａ）中、ｘ１、ｘ２、及びｘ３は、これらの合計が１〜１００を満たす整数である。
また、ｙ１は、１〜３０の整数である。
上記構造式（Ａ）中、Ｘ^２は単結合、又は下記構造式（Ｃ）で表わされる２価の基である。

上記構造式（Ｃ）中、Ｒ^８は、水酸基、アミン基、ハロゲン原子などの置換基を有してよい炭素数が１〜６の直鎖もしくは分岐のアルキレン基を表し、Ｑ^１、及びＱ^２は、酸素原子、硫黄原子、又は−ＮＲＢ−を表わし、Ｑ^１、Ｑ^２は、それぞれ異なっていてもよく、また、同じであってもよい。ＲＢは、水素原子、又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
上記構造式（Ｃ）中、Ｑ^２は、上記構造式（Ａ）におけるＲ^７に結合する。

上記構造式（Ａ）中、Ｙ^２は、下記構造式（Ｄ）〜下記構造式（Ｆ）で表される１価の基を表す。

上記構造式（Ｄ）〜（Ｆ）中、Ｒ^５は、水素原子、又は炭素数１〜６の直鎖状或いは分枝鎖状のアルキル基を表わす。

上記構造式（Ａ）中、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３はそれぞれ独立して下記構造式（Ｇ）で表される１価の基を表す。

上記構造式（Ｇ）中、Ｒ^６は炭素数１〜４の無置換のアルキル基を表し、ｙ２は１〜１００の整数を表し、好ましくは１〜５０の整数、より好ましくは１〜２０の整数である。

また、シロキサン骨格としては、特開２０１０−１８７２８号公報の段落番号〔００９２〕〜〔００９４〕に記載の構造が上記の式（Ａ）の具体例として挙げられるが、これらに限定されるものではない。
これらのうちポリオキシアルキレン基を介してシロキサン構造がポリマーに結合した構造が好ましい。

＜＜炭素数１０〜３０のアルキル基の部分構造を有する構成単位＞＞
炭素数１０〜３０のアルキル基は、分岐構造または環状構造を含んでいてもよいが、直鎖構造の部分の炭素数が１０〜３０の範囲にあることが好ましく、全て直鎖構造であることがより好ましい。
また、アルキル基の炭素数は、１０〜２０であるのが好ましい。

具体的には、重合体の側鎖に、下記一般式（ａ３−１）で表される基を有することが好ましい。

一般式（ａ３−１）において、ｎ_ａ３は１０〜３０の整数を表し、＊はポリマーの主鎖または側鎖と連結する位置を表す。ｎ_ａ３は１０〜２０の整数であることが好ましい。

上記一般式（ａ３−１）の構造を重合体の主鎖または側鎖に導入する手法に特に限定はないが、例えば、合成時に（ａ３−１）の構造を有するモノマーを適宜選択して適用すれば、得られるポリマーの繰り返し単位中に（ａ３−１）の構造を導入することができる。
また、上記一般式（ａ３−１）の構造を有するモノマーは、市販の化合物を用いることができるが、（ａ３−１）の構造を持たない市販のモノマーに対して（ａ３−１）に含まれる所望の構造を適宜導入して用いてもよい。市販のモノマーに（ａ３−１）の構造を導入する手法に限定はなく、公知の手法を適宜適用すればよい。

上記一般式（ａ３−１）の構造を有するモノマーは、重合体の主鎖構造に応じて適宜選択することができ、例えば、主鎖に（メタ）アクリル構造を有するポリマーであれば、下記一般式（ａ３−２）で表わされるモノマーを用いることが好ましい。

上記一般式（ａ３−２）中、Ｒ^３２は水素原子、メチル基、エチル基、又はハロゲン原子を表し、Ｘ^３１は２価の連結基を表わし、Ｒ^３３は、単結合、又はアルキレンオキシ基を表す。また、ｎ_ａ３は上記一般式（ａ３−１）と好ましい範囲も含めて同義である。

一般式（ａ３−２）において、Ｒ^３２は水素原子、メチル基、エチル基、又はハロゲン原子であり、より好ましくは、水素原子、又はメチル基であり、さらに好ましくは、メチル基である。

一般式（ａ３−２）において、Ｘ^３１としての２価の連結基としては、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ^４）−、等が挙げられる。これらの中でも−Ｏ−がより好ましい。
ここで、Ｒ^４は、水素原子、又は炭素数１〜４個のアルキル基を表す。アルキル基としては、直鎖構造であっても、分岐構造であってもよく、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられ、好ましくは、水素原子、メチル基である。

また、Ｒ^３３のアルキレンオキシ基としては、炭素数１〜４であることが好ましい。アルキレンオキシ基は、分岐構造を有していてもよい。また、置換基を有していても、無置換であってもよい。有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子等があげられる。アルキレンオキシ基の具体例としては、メチレンオキシ基、エチレンオキシ基、プロピレンオキシ基、ブチレンオキシ基、等を例示することができる。

これらの中でも、Ｒ^３３は炭素数１〜４の無置換の直鎖アルキレンオキシ基、または単結合であることが好ましく、単結合であることがより好ましい。

上記一般式（ａ３―２）で表されるモノマーを用いることによって、下記一般式（Ｕ−ａ３−１）で表わされる繰り返し単位を有する重合体を得ることができる。
このような重合体は、一般式（Ｕ−ａ３−１）で表される繰り返し単位を有することが好ましい形態のひとつである。

上記一般式（Ｕ−ａ３−１）において、ｎ_ａ３は上記一般式（ａ３−１）と好ましい範囲も含めて同義であり、Ｒ^３２、Ｘ^３１、及びＲ^３３は、上記一般式（ａ３−２）と好ましい範囲も含めて同義である。

以下、一般式（ａ３−２）で表されるモノマーの具体例を示す。ただし、本発明は、これらに限定されるものではない。

＜＜光配向性基を有する構成単位＞＞
重合体Ｐは、上述した、フッ素置換炭化水素基、シロキサン骨格および炭素数１０〜３０のアルキル基からなる群より選択される少なくとも１つの部分構造を有する構成単位とともに、光配向性基を有する構成単位を有する重合体である。
ここで、光配向性基は、上記配向性基において説明したものと同様である。

光配向性基を有する構成単位を有する重合体は、その主鎖骨格は特に限定されないが、側鎖の分子設計が多様となり、エチレン性不飽和化合物のラジカル重合反応による主鎖形成が簡便である理由から、下記一般式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位を有するポリマーであるのが好ましい。

（一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ^１は水素原子またはアルキル基を表す。Ｘはアリーレン基、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−、または−（Ｃ＝Ｏ）−ＮＲ−（Ｒは水素原子または炭素数１〜４個のアルキル基を表す）を表す。Ｌは単結合または２価の連結基を表し、Ｐは光配向性基を表す。）

ここで、一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ^１は、水素原子またはアルキル基を表し、アルキル基としては炭素数１〜４のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基等）が好ましい。Ｒ^１は、水素原子またはメチル基であるのが好ましい。
また、一般式（ＩＩＩ）中、Ｌは、単結合または２価の連結基を表し、２価の連結基としては−Ｏ−、−Ｓ−、アルキレン基、アリーレン基、またはこれらを複数組み合わせてなる基が好ましい。Ｌが表すアルキレン基としては直鎖、分岐、または環状構造であってもよいが、直鎖構造であることが好ましい。Ｌが表すアルキレン基の炭素数は１〜１０が好ましく、１〜６がより好ましく、２〜４がさらに好ましい。また、Ｌが表すアリーレン基としては、フェニレン基、トリレン基、キシリレン基などが挙げられ、フェニレン基が好ましい。
一般式（ＩＩＩ）中、Ｐは光配向性基を表し、その具体例としては、カルコン基、シンナメート基、スチルベニル基、マレイミド基、アゾベンジル基が好適に挙げられる。中でも、カルコン基、シンナメート基がより好ましい。また、Ｐが表す光配向性基は、光配向性を失わない限り、置換基を有していてもよい。具体的な置換基としては、例えば、ハロゲノ基、アルキル基、アリール基などが挙げられ、アルキル基またはアリール基であることが好ましい。上記のアルキル基またはアリール基の炭素数は１〜１０が好ましく、１〜７がより好ましい。

以下に一般式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位を有する重合体の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有する重合体は、（ａ）対応するモノマーを重合させて直接光反応性基を導入する方法で合成してもよく、（ｂ）任意の官能基を有するモノマーを重合して得られるポリマーに高分子反応により光反応性基を導入する方法で合成してもよい。また、（ａ）および（ｂ）の手法を組み合わせて合成することもできる。
ここで、上述した（ａ）および（ｂ）の方法において利用可能な重合反応としては、ラジカル重合、カチオン重合及びアニオン重合などが挙げられる。

また、一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有する重合体は、複数種の一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位で構成されたコポリマーであってもよく、また、一般式（Ｉ）以外の繰り返し単位（例えばエチレン性不飽和基を含まない繰り返し単位）を含んだコポリマーでもよい。

｛構成単位ｓ１の好ましい態様｝
上記構成単位ｓ１は、全重合体成分の構成単位に対し、０．０１〜１０モル％が好ましく、０．１〜１０モル％がより好ましく、０．１〜５モル％が更に好ましく、０．１〜３モル％が特に好ましく、０．５〜３モル％が最も好ましい。
また、上記構成単位ｓ１の中で、偏在性基を有する構成単位の含有量は、０．０１〜３モル％が好ましく、０．１〜３モル％がより好ましく、０．５〜３モル％が更に好ましい。
また、上記構成単位ｓ１の中で、光配向性基を有する構成単位の含有量は、０．０１〜５モル％が好ましく、０．１〜５モル％がより好ましく、１〜３モル％が更に好ましい。
上記構成単位ｓ１を有する重合体において、構成単位ｓ１の含有量は、上記重合体の全構成単位に対し、２０〜９０モル％が好ましく、２０〜８０モル％がより好ましく、２０〜７０モル％が更に好ましい。この場合において、偏在性基を有する構成単位の含有量は、１〜５０モル％が好ましく、５〜３０モル％がより好ましく、１０〜２０モル％が更に好ましい。また、光配向性基を有する構成単位の含有量は、１〜７０モル％が好ましく、１０〜６０モル％がより好ましく、２０〜５０モル％が更に好ましい。
なお、本発明において、「構成単位」の含有量をモル比で規定する場合、「構成単位」は「モノマー単位」と同義であるものとする。また、本発明において「モノマー単位」は、高分子反応等により重合後に修飾されていてもよい。以下においても同様である。

＜＜他の構成単位＞＞
上記重合体Ｐとしては、例えば、上述した構成単位ｓ１以外に、酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位ａ１、架橋性基を有する構成単位ａ２、酸基を有する構成単位ａ３、これらの以外の構成単位ａ４を有していてもよい。
これらの構成単位のうち、上述した通り、配向保護層において上述した架橋構造を形成しやすい理由から、架橋性基を有する構成単位ａ２および／または酸基を有する構成単位ａ３を有しているのが好ましい。

＜＜＜構成単位ａ１＞＞＞
構成単位ａ１は、酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位（以下、構成単位ａ１ともいう。）である。
本発明における「酸基が酸分解性基で保護された基」は、酸を触媒（または開始剤）として脱保護反応を起こし、酸基と再生された酸と分解された構造とを生じる基を意味する。
本発明における「酸基が酸分解性基で保護された基」は、酸基および酸分解性基として公知のものを使用でき、特に限定されない。
酸基としては、例えば、カルボキシル基、フェノール性水酸基などが好ましく挙げられる。
また、酸分解性基としては、酸により比較的分解し易い基（例えば、エステル構造、テトラヒドロピラニルエステル基、または、テトラヒドロフラニルエステル基等のアセタール系官能基）や、酸により比較的分解し難い基（例えば、ｔｅｒｔ−ブチルエステル基等の第三級アルキル基、ｔｅｒｔ−ブチルカーボネート基等の第三級アルキルカーボネート基）などが挙げられる。

酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位ａ１は、カルボキシル基が酸分解性基で保護された保護カルボキシル基を有する構成単位（以下、「酸分解性基で保護された保護カルボキシル基を有する構成単位」ともいう。）、または、フェノール性水酸基が酸分解性基で保護された保護フェノール性水酸基を有する構成単位（以下、「酸分解性基で保護された保護フェノール性水酸基を有する構成単位」ともいう。）であることが好ましい。
以下、酸分解性基で保護された保護カルボキシル基を有する構成単位ａ１−１と、酸分解性基で保護された保護フェノール性水酸基を有する構成単位ａ１−２について、順にそれぞれ説明する。

｛酸分解性基で保護された保護カルボキシル基を有する構成単位ａ１−１｝
上記酸分解性基で保護された保護カルボキシル基を有する構成単位ａ１−１は、カルボキシル基を有する構成単位のカルボキシル基が、以下で詳細に説明する酸分解性基によって保護された保護カルボキシル基を有する構成単位である。
上記酸分解性基で保護された保護カルボキシル基を有する構成単位ａ１−１に用いることができる上記カルボキシル基を有する構成単位としては、特に制限はなく公知の構成単位を用いることができる。例えば、不飽和モノカルボン酸、不飽和ジカルボン酸、不飽和トリカルボン酸などの、分子中に少なくとも１個のカルボキシル基を有する不飽和カルボン酸等に由来する構成単位ａ１−１−１や、エチレン性不飽和基と酸無水物由来の構造とを共に有する構成単位ａ１−１−２が挙げられる。
以下、上記カルボキシル基を有する構成単位として用いられるａ１−１−１分子中に少なくとも１個のカルボキシル基を有する不飽和カルボン酸等に由来する構成単位と、ａ１−１−２エチレン性不飽和基と酸無水物由来の構造とを共に有する構成単位について、それぞれ順に説明する。

｛｛分子中に少なくとも１個のカルボキシル基を有する不飽和カルボン酸等に由来する構成単位ａ１−１−１｝｝
上記分子中に少なくとも１個のカルボキシル基を有する不飽和カルボン酸等に由来する構成単位ａ１−１−１として本発明で用いられる不飽和カルボン酸としては、例えば、特開２０１４−２３８４３８号公報の段落００４３に記載の化合物が挙げられる。
中でも、現像性の観点から、上記構成単位ａ１−１−１を形成するためには、アクリル酸、メタクリル酸、２−（メタ）アクリロイロキシエチル−コハク酸、２−（メタ）アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２−（メタ）アクリロイロキシエチル−フタル酸、または不飽和多価カルボン酸の無水物等を用いることが好ましく、アクリル酸、メタクリル酸、２−（メタ）アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸を用いることがより好ましい。
上記分子中に少なくとも１個のカルボキシル基を有する不飽和カルボン酸等に由来する構成単位ａ１−１−１は、１種単独で構成されていてもよいし、２種以上で構成されていてもよい。

｛｛エチレン性不飽和基と酸無水物由来の構造とを共に有する構成単位ａ１−１−２｝｝
エチレン性不飽和基と酸無水物由来の構造とを共に有する構成単位ａ１−１−２は、エチレン性不飽和基を有する構成単位中に存在する水酸基と酸無水物とを反応させて得られたモノマーに由来する単位であることが好ましい。
上記酸無水物としては、公知のものが使用でき、具体的には、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水クロレンド酸等の二塩基酸無水物；無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、ビフェニルテトラカルボン酸無水物などの酸無水物が挙げられる。これらの中では、現像性の観点から、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、又は、無水コハク酸が好ましい。
上記酸無水物の水酸基に対する反応率は、現像性の観点から、好ましくは１０〜１００モル％、より好ましくは３０〜１００モル％である。

（構成単位ａ１−１に用いることができる酸分解性基）
上記酸分解性基で保護された保護カルボキシル基を有する構成単位ａ１−１に用いることができる上記酸分解性基としては上述の酸分解性基を用いることができる。
これらの酸分解性基の中でもカルボキシル基がアセタールの形で保護された保護カルボキシル基であることが、樹脂組成物の基本物性、特に感度やパターン形状、コンタクトホールの形成性、樹脂組成物の保存安定性の観点から好ましい。更に酸分解性基の中でもカルボキシル基が下記式ａ１−１０で表されるアセタールの形で保護された保護カルボキシル基であることが、感度の観点からより好ましい。なお、カルボキシル基が下記式ａ１−１０で表されるアセタールの形で保護された保護カルボキシル基である場合、保護カルボキシル基の全体としては、−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−ＣＲ¹⁰¹Ｒ¹⁰²（ＯＲ¹⁰³）の構造となっている。

上記式ａ１−１０中、Ｒ¹⁰¹及びＲ¹⁰²はそれぞれ独立に、水素原子又は炭化水素基を表し、ただし、Ｒ¹⁰¹とＲ¹⁰²とが共に水素原子の場合を除く。Ｒ¹⁰³は、アルキル基を表す。Ｒ¹⁰¹又はＲ¹⁰²と、Ｒ¹⁰³とが連結して環状エーテルを形成してもよい。

上記式ａ１−１０中、Ｒ¹⁰¹及びＲ¹⁰²はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、上記アルキル基は直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよい。ここで、Ｒ¹⁰¹及びＲ¹⁰²の双方が水素原子を表すことはなく、Ｒ¹⁰¹及びＲ¹⁰²の少なくとも一方はアルキル基を表す。

上記式ａ１−１０において、Ｒ¹⁰¹、Ｒ¹⁰²及びＲ¹⁰³がアルキル基を表す場合、上記アルキル基は直鎖状、分岐鎖状又は環状のいずれであってもよい。
上記直鎖状のアルキル基としては、炭素数１〜１２であることが好ましく、炭素数１〜６であることがより好ましく、炭素数１〜４であることが更に好ましい。分岐鎖状としては、炭素数３〜６であることがより好ましく、炭素数３または４であることが更に好ましい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、テキシル基（２，３−ジメチル−２−ブチル基）、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等を挙げることができる。

上記環状アルキル基としては、炭素数３〜１２であることが好ましく、炭素数４〜８であることがより好ましく、炭素数４〜６であることが更に好ましい。上記環状アルキル基としては、例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基等を挙げることができる。

上記アルキル基は、置換基を有していてもよく、置換基としては、ハロゲン原子、アリール基、アルコキシ基が例示できる。置換基としてハロゲン原子を有する場合、Ｒ¹⁰¹、Ｒ¹⁰²、Ｒ¹⁰³はハロアルキル基となり、置換基としてアリール基を有する場合、Ｒ¹⁰¹、Ｒ¹⁰²、Ｒ¹⁰³はアラルキル基となる。
上記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が例示され、これらの中でも、フッ素原子又は塩素原子が好ましい。
また、上記アリール基としては、炭素数６〜２０のアリール基が好ましく、炭素数６〜１２のアリール基がより好ましい。具体的には、フェニル基、α−メチルフェニル基、ナフチル基等が例示でき、アリール基で置換されたアルキル基全体、すなわち、アラルキル基としては、ベンジル基、α−メチルベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基等が例示できる。
上記アルコキシ基としては、炭素数１〜６のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜４のアルコキシ基がより好ましく、メトキシ基又はエトキシ基が更に好ましい。
また、上記アルキル基がシクロアルキル基である場合、上記シクロアルキル基は置換基として炭素数１〜１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基を有していてもよく、アルキル基が直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基である場合には、置換基として炭素数３〜１２のシクロアルキル基を有していてもよい。
これらの置換基は、上記置換基で更に置換されていてもよい。

上記式ａ１−１０において、Ｒ¹⁰¹、Ｒ¹⁰²及びＲ¹⁰³がアリール基を表す場合、上記アリール基は炭素数６〜１２であることが好ましく、炭素数６〜１０であることがより好ましい。上記アリール基は置換基を有していてもよく、上記置換基としては炭素数１〜６のアルキル基が好ましく例示できる。アリール基としては、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、１−ナフチル基等が例示できる。

また、Ｒ¹⁰¹、Ｒ¹⁰²及びＲ¹⁰³は互いに結合して、それらが結合している炭素原子と一緒になって環を形成することができる。Ｒ¹⁰¹とＲ¹⁰²、Ｒ¹⁰¹とＲ¹⁰³又はＲ¹⁰²とＲ¹⁰³が結合した場合の環構造としては、例えばシクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、テトラヒドロフラニル基、アダマンチル基及びテトラヒドロピラニル基等を挙げることができる。

なお、上記式ａ１−１０において、Ｒ¹⁰¹及びＲ¹⁰²のいずれか一方が、水素原子又はメチル基であることが好ましい。

上記式ａ１−１０で表される保護カルボキシル基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体は、市販のものを用いてもよいし、公知の方法で合成したものを用いることもできる。例えば、特開２０１１−２２１４９４号公報の段落００３７〜００４０に記載の合成方法などで合成することができる。

上記酸分解性基で保護された保護カルボキシル基を有する構成単位ａ１−１の第一の好ましい態様は、下記式で表される構成単位である。

式中、Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、少なくともＲ¹及びＲ²のいずれか一方がアルキル基又はアリール基であり、Ｒ³は、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ¹又はＲ²と、Ｒ³とが連結して環状エーテルを形成してもよく、Ｒ⁴は、水素原子又はメチル基を表し、Ｘは単結合又はアリーレン基を表す。

Ｒ¹及びＲ²がアルキル基の場合、炭素数は１〜１０のアルキル基が好ましい。Ｒ¹及びＲ²がアリール基の場合、フェニル基が好ましい。Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基が好ましい。
Ｒ³は、アルキル基又はアリール基を表し、炭素数１〜１０のアルキル基が好ましく、１〜６のアルキル基がより好ましい。
Ｘは、単結合又はアリーレン基を表し、単結合が好ましい。

上記酸分解性基で保護された保護カルボキシル基を有する構成単位ａ１−１の第二の好ましい態様は、下記式で表される構成単位である。

式中、Ｒ¹²¹は水素原子又はメチル基を表し、Ｌ¹はカルボニル基を表し、Ｒ¹²²〜Ｒ¹²⁸はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、水素原子が好ましい。

上記酸分解性基で保護された保護カルボキシル基を有する構成単位ａ１−１の好ましい具体例としては、下記の構成単位が例示できる。なお、Ｒは水素原子又はメチル基を表す。

｛酸分解性基で保護された保護フェノール性水酸基を有する構成単位ａ１−２｝
上記酸分解性基で保護された保護フェノール性水酸基を有する構成単位ａ１−２としては、ヒドロキシスチレン系構成単位やノボラック系の樹脂における構成単位が挙げられる。
これらのうち、ヒドロキシスチレン、またはα−メチルヒドロキシスチレンに由来する構成単位が、感度の観点から好ましい。
また、フェノール性水酸基を有する構成単位として、特開２０１４−２３８４３８号公報の段落００６５〜００７３に記載の構成単位も、感度の観点から好ましい。

＜＜＜構成単位ａ２＞＞＞
構成単位ａ２は、架橋性基を有する構成単位（以下、構成単位ａ２ともいう。）である。
上記架橋性基は、加熱処理で硬化反応を起こす基であれば特に限定はされない。
好ましい架橋性基を有する構成単位の態様としては、エポキシ基（例えば、オキシラニル基、３，４−エポキシシクロヘキシル基など）、オキセタニル基、−ＮＨ−ＣＨ₂−Ｏ−Ｒ（Ｒは水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基を表す。）で表される基、エチレン性不飽和基、及び、ブロックイソシアネート基よりなる群から選ばれた少なくとも１つを含む構成単位が挙げられ、エポキシ基、オキセタニル基、−ＮＨ−ＣＨ₂−Ｏ−Ｒ（Ｒは水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基を表す。）で表される基、（メタ）アクリロイル基、及び、ブロックイソシアネート基よりなる群から選ばれた少なくとも１種を含む構成単位であることが好ましく、エポキシ基、オキセタニル基、及び、−ＮＨ−ＣＨ₂−Ｏ−Ｒ（Ｒは水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基を表す。）で表される基よりなる群から選ばれた少なくとも１種を含む構成単位であることがより好ましい。

｛エポキシ基及び／又はオキセタニル基を有する構成単位ａ２−１｝
重合体成分Ａ１は、エポキシ基及び／又はオキセタニル基を有する構成単位ａ２−１を有する重合体を含有することが好ましい。なお、３員環の環状エーテル基はエポキシ基とも呼ばれ、４員環の環状エーテル基はオキセタニル基とも呼ばれる。
上記エポキシ基及び／又はオキセタニル基を有する構成単位ａ２−１は、１つの構成単位中にエポキシ基又はオキセタニル基を少なくとも１つ有していればよく、１つ以上のエポキシ基及び１つ以上オキセタニル基、２つ以上のエポキシ基、又は、２つ以上のオキセタニル基を有していてもよく、特に限定されないが、エポキシ基及び／又はオキセタニル基を合計１〜３つ有することが好ましく、エポキシ基及び／又はオキセタニル基を合計１又は２つ有することがより好ましく、エポキシ基又はオキセタニル基を１つ有することが更に好ましい。

エポキシ基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の具体例としては、例えば、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−プロピルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸−３，４−エポキシブチル、メタクリル酸−３，４−エポキシブチル、アクリル酸−３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、メタクリル酸−３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、α−エチルアクリル酸−３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、特許第４１６８４４３号公報の段落００３１〜００３５に記載の脂環式エポキシ骨格を含有する化合物などが挙げられ、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
オキセタニル基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の具体例としては、例えば、特開２００１−３３０９５３号公報の段落００１１〜００１６に記載のオキセタニル基を有する（メタ）アクリル酸エステルなどが挙げられ、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
上記エポキシ基及び／又はオキセタニル基を有する構成単位ａ２−１を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の具体例としては、メタクリル酸エステル構造を含有するモノマー、アクリル酸エステル構造を含有するモノマーであることが好ましい。

これらの中でも好ましいものは、メタクリル酸グリシジル、アクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、メタクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、アクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル、及び、メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルである。これらの構成単位は、１種単独又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。

エポキシ基及び／又はオキセタニル基を有する構成単位ａ２−１の好ましい具体例としては、下記の構成単位が例示できる。なお、Ｒは、水素原子又はメチル基を表す。

｛エチレン性不飽和基を有する構成単位ａ２−２｝
上記架橋性基を有する構成単位ａ２の他の例としては、エチレン性不飽和基を有する構成単位ａ２−２が挙げられる。上記エチレン性不飽和基を有する構成単位ａ２−２としては、側鎖にエチレン性不飽和基を有する構成単位が好ましく、末端にエチレン性不飽和基を有し、炭素数３〜１６の側鎖を有する構成単位がより好ましい。

その他、エチレン性不飽和基を有する構成単位ａ２−２については、特開２０１１−２１５５８０号公報の段落００７２〜００９０の記載、及び、特開２００８−２５６９７４号公報の段落００１３〜００３１の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。

｛−ＮＨ−ＣＨ₂−Ｏ−Ｒ（Ｒは水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基を表す。）で表される基を有する構成単位ａ２−３｝
上記架橋性基を有する構成単位ａ２の他の例としては、−ＮＨ−ＣＨ₂−Ｏ−Ｒ（Ｒは水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基を表す。）で表される基を有する構成単位ａ２−３も好ましい。構成単位ａ２−３を有することで、緩やかな加熱処理で硬化反応を起こすことができ、諸特性に優れた硬化膜を得ることができる。ここで、Ｒは炭素数１〜２０のアルキル基が好ましく、炭素数１〜９のアルキル基がより好ましく、炭素数１〜４のアルキル基が更に好ましい。また、アルキル基は、直鎖、分岐又は環状のアルキル基のいずれであってもよいが、直鎖又は分岐のアルキル基であることが好ましい。構成単位ａ２−３は、下記式ａ２−３０で表される基を有する構成単位であることがより好ましい。

式ａ２−３０中、Ｒ³¹は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ³²は炭素数１〜２０のアルキル基を表す。

Ｒ³²は、炭素数１〜９のアルキル基が好ましく、炭素数１〜４のアルキル基が更に好ましい。また、アルキル基は、直鎖、分岐又は環状のアルキル基のいずれであってもよいが、好ましくは、直鎖又は分岐のアルキル基である。
Ｒ³²の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、シクロヘキシル基、及び、ｎ−ヘキシル基を挙げることができる。中でも、ｉ−ブチル基、ｎ−ブチル基、メチル基が好ましい。

＜＜＜構成単位ａ３＞＞＞
構成単位ａ３は、酸基を有する構成単位（以下、構成単位ａ３ともいう。）である。
本発明における酸基とは、ｐＫａが１１より小さいプロトン解離性基を意味する。
本発明で用いられる酸基としては、カルボン酸基、スルホンアミド基、ホスホン酸基、スルホン酸基、フェノール性水酸基、スルホンアミド基、スルホニルイミド基、並びに、これらの酸基の酸無水物基、及び、これらの酸基を中和し塩構造とした基等が例示され、カルボン酸基及び／又はフェノール性水酸基が好ましい。上記塩としては、特に制限はないが、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、及び、有機アンモニウム塩が好ましく例示できる。
本発明で用いられる酸基を含む構成単位は、スチレンに由来する構成単位や、ビニル化合物に由来する構成単位、（メタ）アクリル酸及び／又はそのエステルに由来する構成単位であることがより好ましい。例えば、特開２０１２−８８４５９号公報の段落００２１〜００２３及び段落００２９〜００４４記載の化合物を用いることができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。中でも、ｐ−ヒドロキシスチレン、（メタ）アクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸に由来する構成単位が好ましい。

酸基を有する構成単位ａ３としては、感度の観点から、カルボキシル基を有する構成単位、又は、フェノール性水酸基を有する構成単位が好ましく、カルボキシル基を有する構成単位がより好ましい。
酸基を有する構成単位ａ３として具体的には、上述した分子中に少なくとも１個のカルボキシル基を有する不飽和カルボン酸等に由来する構成単位ａ１−１−１、エチレン性不飽和基と酸無水物由来の構造とを共に有する構成単位ａ１−１−２、フェノール性水酸基を有する構成単位ａ１−２−１が挙げられ、好ましい態様も同様である。
中でも、酸基を有する構成単位ａ３としては、メタクリル酸、アクリル酸及びｐ−ヒドロキシスチレンよりなる群から選ばれた化合物由来の構成単位（下記式ａ３−１〜式ａ３−３のいずれかで表される構成単位）であることが好ましく、メタクリル酸由来の構成単位（下記式ａ３−１で表される構成単位）又はアクリル酸由来の構成単位（下記式ａ３−２で表される構成単位）であることがより好ましく、メタクリル酸由来の構成単位（下記式ａ３−１で表される構成単位）であることが更に好ましい。

＜＜＜構成単位ａ４＞＞＞
上述した構成単位ｓ１、構成単位ａ１、構成単位ａ２および構成単位ａ３以外の構成単位ａ４となるモノマーとしては、特に制限はなく、例えば、スチレン類、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸環状アルキルエステル、（メタ）アクリル酸アリールエステル、不飽和ジカルボン酸ジエステル、ビシクロ不飽和化合物類、マレイミド化合物類、不飽和芳香族化合物を挙げることができる。
その他の構成単位ａ４を形成するモノマーは、１種単独又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。

その他の構成単位ａ４は、具体的には、スチレン、メチルスチレン、α−メチルスチレン、アセトキシスチレン、メトキシスチレン、エトキシスチレン、クロロスチレン、ビニル安息香酸メチル、ビニル安息香酸エチル、４−ヒドロキシ安息香酸（３−メタクリロイルオキシプロピル）エステル、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、アクリロニトリル、エチレングリコールモノアセトアセテートモノ（メタ）アクリレートなどによる構成単位を挙げることができる。この他、特開２００４−２６４６２３号公報の段落００２１〜００２４に記載の化合物を挙げることができる。

また、その他の構成単位ａ４としては、スチレン類、又は、脂肪族環式骨格を有するモノマー由来の構成単位が、電気特性の観点で好ましい。具体的にはスチレン、メチルスチレン、α−メチルスチレン、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等が挙げられる。

更にまた、その他の構成単位ａ４としては、（メタ）アクリル酸アルキルエステル由来の構成単位が、密着性の観点で好ましい。具体的には（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル等が挙げられ、（メタ）アクリル酸メチルがより好ましい。重合体を構成する全構成単位中、上記の構成単位ａ４の含有率は、６０モル％以下が好ましく、５０モル％以下がより好ましく、４０モル％以下が更に好ましい。下限値としては、０モル％でもよいが、例えば、１モル％以上とすることが好ましく、５モル％以上とすることがより好ましい。上記の数値の範囲内であると、樹脂組成物から得られる硬化膜の諸特性が良好となる。

（重合体Ａ）
上記重合体Ａとしては、例えば、上述した構成単位ｓ１を含まず、上述した構成単位ａ１〜構成単位ａ４のいずれか１つ以上を含む重合体が挙げられ、なかでも、上述した通り、配向保護層において上述した架橋構造を形成しやすい理由から、架橋性基を有する構成単位ａ２および／または酸基を有する構成単位ａ３を有する重合体であるのが好ましい。

＜＜分子量＞＞
上述した重合体Ｐおよび重合体Ａの分子量は、ポリスチレン換算重量平均分子量で、好ましくは１，０００〜２００，０００、より好ましくは２，０００〜５０，０００、更に好ましくは１０，０００〜２０，０００の範囲である。上記の数値の範囲内であると、諸特性が良好である。数平均分子量Ｍｎと重量平均分子量Ｍｗとの比（分散度、Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０〜５．０が好ましく、１．５〜３．５がより好ましい。
なお、本発明における重量平均分子量や数平均分子量の測定は、ゲル浸透クロマトグラフィ（ＧＰＣ）法により測定することが好ましい。本発明におけるゲル浸透クロマトグラフィ法による測定は、ＨＬＣ−８０２０ＧＰＣ（東ソー（株）製）を用い、カラムとしてＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺ Ｍ−Ｈ、ＴＳＫ ｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺ４０００、ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＺ２００（東ソー（株）製、４．６ｍｍＩＤ×１５ｃｍ）を、溶離液としてＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を用いることが好ましい。

＜＜調製方法＞＞
上述した重合体Ｐおよび重合体Ａの合成法についても、様々な方法が知られているが、一例を挙げると、上述した各構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体を含むラジカル重合性単量体混合物を有機溶剤中、ラジカル重合開始剤を用いて重合することにより合成することができる。また、いわゆる高分子反応で合成することもできる。

本発明においては、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）を低く保つ理由から、上述した重合体Ｐおよび重合体Ａの合計質量に対する重合体Ｐの質量割合が１０質量％未満であるのが好ましく、０．１〜５質量％であるのがより好ましい。

（架橋剤Ｂ）
本発明においては、視認側にカラーフィルターを設けた場合の平坦性が向上し、高温高湿下に晒された後の表示性能もより良好となる理由から、上記配向保護層は、分子量５０００以下の架橋剤Ｂを含有しているのが好ましい。
架橋剤Ｂとしては、熱によって架橋反応が起こるものであれば制限なく使用できる。
例えば、以下に述べる分子内に２個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物、ブロックイソシアネート化合物（保護されたイソシアナト基を有する化合物）、アルコキシメチル基含有化合物、又は、少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合（エチレン性不飽和基）よりなる群から選ばれた少なくとも１種であることが好ましく、分子内に２個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物、ブロックイソシアネート化合物よりなる群から選ばれた少なくとも１種であることがより好ましい。
以下に、本発明において好ましく使用される架橋剤Ｂについて説明する。

＜＜分子内に２個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物＞＞
架橋剤Ｂとして、例えば、多官能の小員環環状エーテル化合物が挙げられる。
すなわち、１分子内に、エポキシ基及び／又はオキセタニル基を２個以上有する化合物であることを意味する。

分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物の具体例としては、脂肪族エポキシ化合物等を挙げることができる。
これらは市販品として入手できる。例えば、デナコールＥＸ−６１１、ＥＸ−６１２、ＥＸ−６１４、ＥＸ−６１４Ｂ、ＥＸ−６２２、ＥＸ−５１２、ＥＸ−５２１、ＥＸ−４１１、ＥＸ−４２１、ＥＸ−３１３、ＥＸ−３１４、ＥＸ−３２１、ＥＸ−２１１、ＥＸ−２１２、ＥＸ−８１０、ＥＸ−８１１、ＥＸ−８５０、ＥＸ−８５１、ＥＸ−８２１、ＥＸ−８３０、ＥＸ−８３２、ＥＸ−８４１、ＥＸ−９１１、ＥＸ−９４１、ＥＸ−９２０、ＥＸ−９３１、ＥＸ−２１２Ｌ、ＥＸ−２１４Ｌ、ＥＸ−２１６Ｌ、ＥＸ−３２１Ｌ、ＥＸ−８５０Ｌ、ＤＬＣ−２０１、ＤＬＣ−２０３、ＤＬＣ−２０４、ＤＬＣ−２０５、ＤＬＣ−２０６、ＤＬＣ−３０１、ＤＬＣ−４０２（以上ナガセケムテックス（株）製）、セロキサイド２０２１Ｐ、２０８１、３０００、ＥＨＰＥ３１５０、エポリードＧＴ４００、セルビナースＢ０１３４、Ｂ０１７７（（株）ダイセル製）、などが挙げられる。
これらは１種単独又は２種以上を組み合わせて使用することができる。

分子内に２個以上のオキセタニル基を有する化合物の具体例としては、アロンオキセタンＯＸＴ−１２１、ＯＸＴ−２２１、ＯＸ−ＳＱ、ＰＮＯＸ（以上、東亞合成（株）製）を用いることができる。

また、オキセタニル基を含む化合物は、単独で又はエポキシ基を含む化合物と混合して使用することが好ましい。

＜＜ブロックイソシアネート化合物＞＞
架橋剤Ｂとして、ブロックイソシアネート系化合物も好ましく採用できる。
ブロックイソシアネート化合物は、イソシアネート基が化学的に保護されたブロックイソシアネート基を有する化合物であれば特に制限はないが、硬化性の観点から、１分子内に２以上のブロックイソシアネート基を有する化合物であることが好ましい。
なお、本発明におけるブロックイソシアネート基とは、熱によりイソシアネート基を生成することが可能な基であり、例えば、ブロック剤とイソシアネート基とを反応させイソシアネート基を保護した基が好ましく例示できる。また、上記ブロックイソシアネート基は、９０℃〜２５０℃の熱によりイソシアネート基を生成することが可能な基であることが好ましい。
また、ブロックイソシアネート化合物としては、その骨格は特に限定されるものではなく、１分子中にイソシアネート基を２個有するものであればどのようなものでもよく、脂肪族、脂環族又は芳香族のポリイソシアネートであってよいが、例えば２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート、１，３−トリメチレンジイソシアネート、１，４−テトラメチレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、１，９−ノナメチレンジイソシアネート、１，１０−デカメチレンジイソシアネート、１，４−シクロヘキサンジイソシアネート、２，２’−ジエチルエーテルジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート、ｏ−キシレンジイソシアネート、ｍ−キシレンジイソシアネート、ｐ−キシレンジイソシアネート、メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）、シクロヘキサン−１，３−ジメチレンジイソシアネート、シクロヘキサン−１，４−ジメチレンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、３，３’−メチレンジトリレン−４，４’−ジイソシアネート、４，４’−ジフェニルエーテルジイソシアネート、テトラクロロフェニレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート、水素化１，３−キシリレンジイソシアネート、水素化１，４−キシリレンジイソシアネート等のイソシアネート化合物及びこれらの化合物から派生するプレポリマー型の骨格の化合物を好適に用いることができる。これらの中でも、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）やジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）が特に好ましい。

ブロックイソシアネート化合物の母構造としては、ビウレット型、イソシアヌレート型、アダクト型、２官能プレポリマー型等を挙げることができる。
上記ブロックイソシアネート化合物のブロック構造を形成するブロック剤としては、オキシム化合物、ラクタム化合物、フェノール化合物、アルコール化合物、アミン化合物、活性メチレン化合物、ピラゾール化合物、メルカプタン化合物、イミダゾール系化合物、イミド系化合物等を挙げることができる。これらの中でも、オキシム化合物、ラクタム化合物、フェノール化合物、アルコール化合物、アミン化合物、活性メチレン化合物、ピラゾール化合物から選ばれるブロック剤が特に好ましい。

上記オキシム化合物としては、オキシム、及び、ケトオキシムが挙げられ、具体的には、アセトキシム、ホルムアルドキシム、シクロヘキサンオキシム、メチルエチルケトンオキシム、シクロヘキサノンオキシム、ベンゾフェノンオキシム、アセトキシム等が例示できる。
上記ラクタム化合物としてはε−カプロラクタム、γ−ブチロラクタム等が例示できる。
上記フェノール化合物としては、フェノール、ナフトール、クレゾール、キシレノール、ハロゲン置換フェノール等が例示できる。
上記アルコール化合物としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール、エチレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、乳酸アルキル等が例示できる。
上記アミン化合物としては、１級アミン及び２級アミンが挙げられ、芳香族アミン、脂肪族アミン、脂環族アミンいずれでもよく、アニリン、ジフェニルアミン、エチレンイミン、ポリエチレンイミン等が例示できる。
上記活性メチレン化合物としては、マロン酸ジエチル、マロン酸ジメチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸メチル等が例示できる。上記ピラゾール化合物としては、ピラゾール、メチルピラゾール、ジメチルピラゾール等が例示できる。
上記メルカプタン化合物としては、アルキルメルカプタン、アリールメルカプタン等が例示できる。

ブロックイソシアネート化合物は、市販品として入手可能であり、例えば、コロネートＡＰステーブルＭ、コロネート２５０３、２５１５、２５０７、２５１３、２５５５、ミリオネートＭＳ−５０（以上、日本ポリウレタン工業（株）製）、タケネートＢ−８３０、Ｂ−８１５Ｎ、Ｂ−８２０ＮＳＵ、Ｂ−８４２Ｎ、Ｂ−８４６Ｎ、Ｂ−８７０Ｎ、Ｂ−８７４Ｎ、Ｂ−８８２Ｎ（以上、三井化学（株）製）、デュラネート１７Ｂ−６０ＰＸ、１７Ｂ−６０Ｐ、ＴＰＡ−Ｂ８０Ｘ、ＴＰＡ−Ｂ８０Ｅ、ＭＦ−Ｂ６０Ｘ、ＭＦ−Ｂ６０Ｂ、ＭＦ−Ｋ６０Ｘ、ＭＦ−Ｋ６０Ｂ、Ｅ４０２−Ｂ８０Ｂ、ＳＢＮ−７０Ｄ、ＳＢＢ−７０Ｐ、Ｋ６０００（以上、旭化成ケミカルズ（株）製）、デスモジュールＢＬ１１００、ＢＬ１２６５ ＭＰＡ／Ｘ、ＢＬ３５７５／１、ＢＬ３２７２ＭＰＡ、ＢＬ３３７０ＭＰＡ、ＢＬ３４７５ＢＡ／ＳＮ、ＢＬ５３７５ＭＰＡ、ＶＰＬＳ２０７８／２、ＢＬ４２６５ＳＮ、ＰＬ３４０、ＰＬ３５０、スミジュールＢＬ３１７５（以上、住化バイエルウレタン（株）製）等を好ましく使用することができる。

＜＜アルコキシメチル基含有架橋剤＞＞
アルコキシメチル基含有化合物としては、アルコキシメチル化メラミン、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン、アルコキシメチル化グリコールウリル及びアルコキシメチル化尿素等が好ましい。これらは、それぞれメチロール化メラミン、メチロール化ベンゾグアナミン、メチロール化グリコールウリル、又は、メチロール化尿素のメチロール基をアルコキシメチル基に変換することにより得られる。このアルコキシメチル基の種類については特に限定されるものではなく、例えば、メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、ブトキシメチル基等を挙げることができるが、アウトガスの発生量の観点から、メトキシメチル基が特に好ましい。
これらの化合物のうち、アルコキシメチル化メラミン、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン、アルコキシメチル化グリコールウリルが好ましい化合物として挙げられ、透明性の観点から、アルコキシメチル化グリコールウリルが特に好ましい。
アルコキシメチル基含有架橋剤もその分子量が、１，０００以下である化合物を硬化性組成物に使用する。
これらアルコキシメチル基含有化合物は、市販品として入手可能であり、例えば、サイメル３００、３０１、３０３、３７０、３２５、３２７、７０１、２６６、２６７、２３８、１１４１、２７２、２０２、１１５６、１１５８、１１２３、１１７０、１１７４、ＵＦＲ６５、３００（以上、三井サイアナミッド製）、ニカラックＭＸ−７５０、−０３２、−７０６、−７０８、−４０、−３１、−２７０、−２８０、−２９０、ニカラックＭＳ−１１、ニカラックＭＷ−３０ＨＭ、−１００ＬＭ、−３９０、（以上、（株）三和ケミカル製）などを好ましく使用することができる。

本発明においては、架橋剤Ｂとして、エポキシ基を有する架橋剤を用いるのが好ましい。
また、架橋剤Ｂを含有する場合の含有量は、架橋剤Ｂ、重合体Ｐおよび重合体Ａの合計質量に対して３０質量％以下であるのが好ましく、１０〜３０質量％であるのがより好ましい。

（有機溶剤）
上記保護層形成用組成物は、上述した重合体以外に、有機溶剤を含有するのが好ましい。
有機溶剤としては、公知の有機溶剤を用いることができ、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類、ブチレングリコールジアセテート類、ジプロピレングリコールジアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、アルコール類、エステル類、ケトン類、アミド類、ラクトン類等が例示できる。これらの有機溶剤の具体例としては、特開２００９−０９８６１６号公報の段落００６２を参照できる。

好ましい具体例には、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、１，３−ブチレングリコールジアセテート、メトキシプロピルアセテート、シクロヘキサノールアセテート、プロピレングリコールジアセテート、テトラヒドロフルフリルアルコールが挙げられる。

有機溶剤の沸点は、塗布性の観点から１００℃〜３００℃が好ましく、１２０℃〜２５０℃がより好ましい。
本発明に用いることができる有機溶剤は、１種単独、又は、２種以上を併用することができる。沸点の異なる溶剤を併用することも好ましい。
有機溶剤を含有する場合の含有量は、塗布に適した粘度に調整するという観点から、組成物の全固形分１００質量部あたり、１００〜３，０００質量部であることが好ましく、２００〜２，０００質量部であることがより好ましく、２５０〜１，０００質量部であることが更に好ましい。
組成物の固形分濃度としては、３〜５０質量％が好ましく、２０〜４０質量％であることがより好ましい。

（界面活性剤）
上記保護層形成用組成物は、界面活性剤を含有してもよい。
界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系、又は、両性のいずれでも使用することができるが、好ましい界面活性剤はノニオン系界面活性剤である。界面活性剤としては、ノニオン系界面活性剤が好ましく、フッ素系界面活性剤がより好ましい。
第１の態様に用いることができる界面活性剤としては、例えば、市販品である、メガファックＦ１４２Ｄ、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７６、同Ｆ１７７、同Ｆ１８３、同Ｆ４７９、同Ｆ４８２、同Ｆ５５４、同Ｆ７８０、同Ｆ７８１、同Ｆ７８１−Ｆ、同Ｒ３０、同Ｒ０８、同Ｆ−４７２ＳＦ、同ＢＬ２０、同Ｒ−６１、同Ｒ−９０（ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ−１３５、同ＦＣ−１７０Ｃ、同ＦＣ−４３０、同ＦＣ−４３１、Ｎｏｖｅｃ ＦＣ−４４３０（住友スリーエム（株）製）、アサヒガードＡＧ７１０５，７０００，９５０，７６００、サーフロンＳ−１１２、同Ｓ−１１３、同Ｓ−１３１、同Ｓ−１４１、同Ｓ−１４５、同Ｓ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０２、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ−１０６（旭硝子（株）製）、エフトップＥＦ３５１、同３５２、同８０１、同８０２（三菱マテリアル電子化成（株）製）、フタージェント２５０（ネオス（株）製）が挙げられる。また、上記以外にも、ＫＰ（信越化学工業（株）製）、ポリフロー（共栄社化学（株）製）、エフトップ（三菱マテリアル電子化成（株）製）、メガファック（ＤＩＣ（株）製）、フロラード（住友スリーエム（株）製）、アサヒガード、サーフロン（旭硝子（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ（ＯＭＮＯＶＡ製）等の各シリーズを挙げることができる。

また、界面活性剤としては、特開２０１４−２３８４３８号公報段落０１５１〜０１５５に記載の化合物も好ましい例として挙げることができる。

界面活性剤を含有する場合の含有量は、組成物の全固形分中１００質量部に対して、０．００１〜５．０質量部が好ましく、０．０１〜２．０質量部がより好ましい。
界面活性剤は、１種類のみ含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。

（密着改良剤）
上記保護層形成用組成物は、密着改良剤を含有してもよい。
密着改良剤としてはアルコキシシラン化合物などが挙げられる。
アルコキシシラン化合物は、基材となる無機物、例えば、シリコン、酸化シリコン、窒化シリコン等のシリコン化合物、金、銅、モリブデン、チタン、アルミニウム等の金属と絶縁膜との密着性を向上させる化合物であることが好ましい。
密着改良剤の具体例としては、例えば、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシランなどが挙げられる。これらのうち、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランが好ましく、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランがより好ましい。これらは１種単独または２種以上を組み合わせて使用することができる。
密着改良剤の含有量は、組成物の全固形成分１００質量部に対し、０．００１〜１５質量部であることが好ましく、０．００５〜１０質量部であることがより好ましい。密着改良剤は、１種類のみ用いてもよいし、２種類以上用いてもよい。２種類以上用いる場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。

（感光剤）
上記保護層形成用組成物は、感光剤を含有してもよい。
感光剤としては、例えば、光酸発生剤、キノンジアジド化合物、光ラジカル開始剤などが挙げられる。

＜保護層の形成＞
基材上に保護層を形成する方法は特に制限されないが、例えば、基材上に上記保護層形成用組成物を塗布する方法が挙げられる。

（塗布）
保護層形成用組成物を基材上に塗布する方法は特に限定されず、具体的には、例えば、印刷法（例えば、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、インクジェット印刷法、インプリント法など）、スピンコーティング法、スリットコーティング法、スリットアンドスピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法等が挙げられる。

（溶媒除去）
本発明においては、上述した塗布の後であって、後述する配向処理工程の前に、保護層形成用組成物に含まれる任意の溶媒を皮膜から除去する溶媒除去工程を有していてもよい。
溶媒除去工程は、溶媒の種類や量により処理条件が異なるが、例えば、溶媒としてＮＭＰを用いた場合には、８０〜１５０℃程度で、０．５〜３分程度、加熱する工程であるのが好ましく、９０〜１２０℃程度で、０．５〜２分程度、加熱する工程であるのがより好ましい。

＜配向保護層の形成（配向処理）＞
配向処理としては、例えば、ラビング処理法、光配向処理、磁気配向等の非接触型の配向法等が挙げられる。

（光配向処理）
本発明においては、配向性基が光配向性基である場合、配向処理は、波長３６５ｎｍ以下の光を用いる光配向処理であるのが好ましい。
光配向処理は、波長３６５ｎｍ以下の光を用いること以外は特に限定されないが、偏光した紫外線を用いることが均一な配向を得る上で好ましい。この場合、偏光した紫外線を照射する方法は特に限定されない。なお、偏光としては特に制限はなく、例えば、直線偏光、円偏光、楕円偏光などが挙げられ、中でも、直線偏光が好ましい。

また、実質的に偏光が得られればよく、無偏光の光を薄膜の法線から一定角度傾けて照射してもよい。言い換えると、薄膜表面の斜め方向から非偏光を照射してもよい。「傾けて照射」とは、薄膜表面の法線方向に対して極角θ（０＜θ＜９０°）傾けた方向である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、θが２０〜８０°であることが好ましい。

使用される光の光源としては、例えば、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプなどが挙げられる。
このような光源から得た紫外線に対して、干渉フィルタや色フィルタなどを用いることで、照射する波長範囲を制限することができる。また、これらの光源からの光に対して、偏光フィルタや偏光プリズムを用いることで、直線偏光を得ることができる。

＜熱処理＞
本発明においては、薄膜トランジスタの信頼性を高める観点から、第１工程が、上記配向処理の前または後に熱処理を施す工程であるのが好ましい。

熱処理を施す方法としては、例えば、保護層または配向処理が施された配向保護層を１８０〜３５０℃の温度、好ましくは２００〜３００℃の温度で、２０〜６０分間、加熱する方法等が好適に挙げられる。
また、熱処理は、ホットプレートやオーブン等の加熱装置を用いて行うことが好ましい。また、熱処理を窒素雰囲気下で行うことにより、透明性をより向上させることもできる。

〔第２工程〕
第２工程は、基材、薄膜トランジスタ、表示電極および配向膜を具備する第２の基板と、第１の基板とを張り合わせて液晶を封入し、第１の基板と第２の基板との間に液晶層を形成し、液晶表示装置を作製する工程を有する。
なお、第２工程における第２の基板は、本発明の液晶表示装置の第２の基板と同様であり、その作製方法は特に限定されない。

第２工程における液晶の封入方法は特に限定されず、例えば、上述した第１の基板および第２の基板との間にスペーサーを挟み込んで空間を形成した後に、形成した空間に液晶を封入する方法が挙げられる。

以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、「％」は質量基準である。

〔光配向性基を有する構成単位（モノマーａ−１）の合成〕
ｔｒａｎｓ−４−ヒドロキシケイ皮酸メチル（東京化成工業（株）製、１２．５ｇ、０．０７ｍｏｌ）とトリエチルアミン（和光純薬工業（株）製、７．７９ｇ、０．０７ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（以下、「ＴＨＦ」と略す。）１００ｍＬに溶解させておき、０℃に冷却した後に、メタクリル酸クロリド（東京化成工業（株）製、７．３３ｇ、０．０７ｍｏｌ）を徐々に滴下した。
次いで、白濁した反応系に対して、水５００ｇを入れ、１時間撹拌した後に、ろ過し、光配向性基としてシンナメート基を有するモノマーａ−１を１４ｇ得た。構造をＮＭＲにて確認した。

〔光配向性基を有する構成単位（モノマーａ−２）の合成〕
４−ヒドロキシ−３−メトキシけい皮酸エチル（東京化成工業（株）製、２２．２ｇ、０．１ｍｏｌ）をジメチルアセトアミド１５０ｍＬに溶解させておき、炭酸カリウム（和光純薬工業（株）製、３０ｇ、０．２２ｍｏｌ）を加え、９０℃に温度を上げた。
次いで、４−クロロブタノール（和光純薬工業（株）製、２１．６ｇ、０．２ｍｏｌ）を滴下し、３時間撹拌した。
その後、反応溶液を水１Ｌに注ぎ、２ＮＨＣｌで中和した後に、酢酸エチル７００ｍＬで抽出し、飽和食塩水で洗い、濃縮を行った。
次いで、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより分取し、中間体化合物を２３ｇ得た。
その中間体化合物１５ｇ（０．０５ｍｏｌ）とトリエチルアミン（和光純薬工業（株）製、５．６ｇ、０．０５６ｍｏｌ）とをＴＨＦ１００ｍＬに溶解させ、０℃に冷却した。
次いで、メタクリル酸クロリド（東京化成工業（株）製、５．８ｇ、０．０５６ｍｏｌ）を滴下し、３時間撹拌した後、反応溶液を水５００ｇに注ぎ、酢酸エチルで抽出した後、濃縮した。
次いで、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより分取し、光配向性基としてシンナメート基を有するモノマーａ−２を２０ｇ得た。

〔光配向性基を有する構成単位（モノマーａ−３）の合成〕
ハイドロキノン（和光純薬工業（株）製、６３．８ｇ、０．５８ｍｏｌ）をジメチルアセトアミド５００ｍＬに溶解させておき、炭酸カリウム（和光純薬工業（株）製、４０ｇ、０．２９ｍｏｌ）を加え、９０℃に温度を上げた。
次いで、メタクリル酸４−クロロブチル（和光純薬工業（株）製、２５．６ｇ、０．１４５ｍｏｌ）を滴下し、３時間撹拌した。
その後、反応溶液を水１Ｌへ注ぎ、２ＮＨＣｌで中和後、酢酸エチル７００ｍＬで抽出し、飽和食塩水で洗い、濃縮を行った。粗結晶を取り出し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより分取し、中間体化合物１８ｇを得た。
その中間体化合物１８ｇとトリエチルアミン（和光純薬工業（株）製、７．７９ｇ、０．０７ｍｏｌ）とをＴＨＦ１００ｍＬに溶解させ、０℃に冷却した。
次いで、シンナモイルクロリド（東京化成工業（株）製、１３．１ｇ、０．０７ｍｏｌ）を滴下し、３時間撹拌した後、反応溶液を水５００ｇにあけ、酢酸エチルで抽出した後、濃縮した。
次いで、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより分取し、光配向性基としてカルコン基を有するモノマーａ−３を２２ｇ得た。

〔光配向性基を有する構成単位（モノマーａ−４）の合成〕
Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ ２００４，Ｖｏｌ．３７，＃７，ｐ．２５７２と同様にして、光配向性基としてアゾ基を有するモノマーａ−４を合成した。

〔光配向性基を有する構成単位（モノマーａ−５）の合成〕
Ｊｏｕｎａｌ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ，Ｐａｒｔ Ａ：Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，２０１０，Ｖｏｌ．４８，＃１９，４３２３と同様にして、光配向性基としてクマリン基を有するモノマーａ−５を合成した。

〔酸基が酸分解性基で保護された構成単位（モノマーｅ−１）の合成〕
メタクリル酸（和光純薬工業（株）製、８６ｇ、１ｍｏｌ）を１５℃に冷却しておき、カンファースルホン酸（東京化成工業（株）製、４．６ｇ、０．０２ｍｏｌ）添加した。
次いで、反応溶液に、２−ジヒドロフラン（川研ファインケミカル（株）製、７１ｇ、１ｍｏｌ、１．０当量）を滴下した。
１時間撹拌した後に、飽和炭酸水素ナトリウム（５００ｍＬ）を加え、酢酸エチル（５００ｍＬ）で抽出した。
次いで、硫酸マグネシウムで乾燥させた後、不溶物を濾過後４０℃以下で減圧濃縮し、さらに残渣の黄色油状物を減圧蒸留することにより、モノマーｅ−１として、沸点（ｂｐ．）５４〜５６℃／３．５ｍｍＨｇ留分のメタクリル酸テトラヒドロ−２Ｈ−フラン−２−イルを無色油状物として１２５ｇ得た（収率８０％）。

〔構成単位ｓ１を有する重合体（Ｐ１）の合成〕
ジエチレングリコールメチルエチルエーテル（以下、「ＨＳ−ＥＤＭ」と略す。）２２ｇを、窒素気流下、７０℃に加熱撹拌した。合成したモノマーａ−１（１１．１ｇ、４５ｍｏｌ％）、ヘキサフルオロイソプロピルメタクリレート（以下、「ＨＦＩＰ」と略す。）（東京化成工業（株）製、３．５ｇ、１５ｍｏｌ％）、メタクリル酸（以下、「ＭＡＡ」と略す。）（和光純薬工業（株）製、１．７ｇ、２０ｍｏｌ％）、グリシジルメタクリレート（以下、「ＧＭＡ」と略す。）（和光純薬工業（株）製、２．８ｇ、２０ｍｏｌ％）、ラジカル重合開始剤（Ｖ−６５、和光純薬工業（株）製）４９７ｍｇ（２ｍｏｌ％）、および、ＰＧＭＥＡ（３０ｇ）の混合溶液を２時間かけて滴下した。滴下が終了してから、さらに７０℃で４時間反応させることにより、構成単位ｓ１を有する重合体Ｐ１のＰＧＭＥＡ溶液（固形分濃度：２７％）を得た。

〔構成単位ｓ１を有する重合体（Ｐ２〜Ｐ１１）の合成〕
モノマー、開始剤および溶媒の種類を、下記第１表に従って変更した以外は、重合体Ｐ１と同様の方法で、重合体Ｐ２〜Ｐ１１を合成した。なお、下記第１表の各単量体成分の欄に記載した数値は、単量体成分の総量に対するそれぞれの単量体の使用量（ｍｏｌ％）である。また、重合開始剤の欄に記載した数値は、単量体成分の総量を１００ｍｏｌ％とした場合の、ｍｏｌ％である。また、実施例で用いている略語は、以下の通りである。
＜略語＞
・ＨＦＩＰ：ヘキサフルオロイソプロピルメタクリレート（東京化成工業（株）製）
・６ＦＭ：トリフルオロエチルメタクリレート（大阪有機化学工業（株）製）
・ＫＢＭ−５０３：３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製）
・Ｃ１８ＭＡ：オクタデカンメタクリレート（東京化成工業（株）製）
・ＭＡＡ：メタクリル酸（和光純薬工業（株）製）
・ＭＭＡ：メタクリル酸メチル（和光純薬工業（株）製）
・Ｓｔ：スチレン（和光純薬工業（株）製）
・ＡＡ：アクリル酸（和光純薬工業（株）製）
・ＧＭＡ：グリシジルメタクリレート（東京化成工業（株）製）
・ＯＸＥ−３０：（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルメタクリレート（大阪有機化学工業（株）製）
・サイクロマーＭ１００：（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルメタクリレート（ダイセル化学工業（株）製）
・ＤＣＰＭ：ジシクロペンタニルメタクリレート（ファンクリルＦＡ−５１３Ｍ、日立化成（株）製）
・ＮＢＭＡ：Ｎ−ブトキシメチルアクリルアミド（三菱レイヨン（株）製）
・Ｖ−６０１：ラジカル重合開始剤（和光純薬工業（株）製）
・Ｖ−６５：ラジカル重合開始剤（和光純薬工業（株）製）
・ＰＧＭＥＡ：メトキシプロピレングリコールアセテート（（株）ダイセル製）
・ＨＳ−ＥＤＭ：ジエチレングリコールメチルエチルエーテル（東邦化学工業（株）製）

〔他の光配向性ポリマーの合成〕
＜重合体Ｐ１２の合成＞
特開２０１３−１７７５６１号公報の［０１６１］段落（調製例１）に記載された光配向性ポリマー（Ａ−１）と同様の方法で、重合体Ｐ１２を合成した。
＜重合体Ｐ１３の合成＞
ＷＯ２０１０／１５０７４８の［００８４］段落（合成例１）に記載された特定共重合体Ｐ１と同様の方法で、重合体Ｐ１３を合成した。

〔他の構成単位を有する重合体Ａの調製〕
＜酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位ａ１および架橋性基を有する構成単位ａ２を含む重合体Ａ−１の合成＞
ＨＳ−ＥＤＭ（８２部）を窒素気流下、９０℃に加熱撹拌した。
次いで、モノマーｅ−１として合成したメタクリル酸テトラヒドロ−２Ｈ−フラン−２−イル（４３部（全単量体成分中の４０．５ｍｏｌ％に相当））、ＯＸＥ−３０（４８部（全単量体成分中の３７．５ｍｏｌ％に相当））、ＭＡＡ（６部（全単量体成分中の９．５ｍｏｌ％に相当））、ヒドロキシエチルメタクリレート（和光純薬工業（株）製、１１部（全単量体成分中の１２．５ｍｏｌ％に相当））、ラジカル重合開始剤Ｖ−６０１（４．３部）、および、ＰＧＭＥＡ（８２部）の混合溶液を２時間かけて滴下し、さらに２時間９０℃で反応させることにより、重合体Ａ−１の溶液（固形分濃度：４０％）を得た。
なお、得られた重合体Ａ−１のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した重量平均分子量は、１５，０００であった。

＜酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位ａ１を含む重合体Ａ−２の合成＞
ＰＧＭＥＡ（２３８ｇ）を窒素気流下、９０℃に加熱撹拌した。
次いで、モノマーｅ−１として合成したメタクリル酸テトラヒドロ−２Ｈ−フラン−２−イル（２４０ｇ（全単量体成分中の６１．１ｍｏｌ％に相当））、ＭＡＡ（５０．４ｇ（全単量体成分中の１７．６ｍｏｌ％に相当））、ＭＭＡ（２７．９ｇ（全単量体成分中の２１．３ｍｏｌ％に相当））、ラジカル重合開始剤Ｖ−６０１（１４．７ｇ）、および、ＰＧＭＥＡ（２３８ｇ）の混合溶液を２時間かけて滴下し、さらに２時間９０℃で反応させ、冷却後にＰＧＭＥＡ（４２ｇ）を追加することにより、重合体Ａ−２の溶液（固形分濃度：３８％）を得た。
得られた重合体Ａ−２のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した重量平均分子量は、１５，０００であった。

＜架橋性基を有する構成単位ａ２を含む重合体Ａ−３の合成＞
ＨＳ−ＥＤＭ（１４５ｇ）を窒素気流下、７０℃に加熱撹拌した。
次いで、ＧＭＡ（１４４．７ｇ（６７．９ｍｏｌ％））、ＭＡＡ（１６．７ｇ（１２．９ｍｏｌ％））、Ｓｔ（２８．１ｇ（１８．０ｍｏｌ％））、ＤＣＰＭ（３．８７ｇ（１．１７ｍｏｌ％）、ラジカル重合開始剤Ｖ−６５（２０．８ｇ（５．６ｍｏｌ％モノマー量換算））、および、ＨＳ−ＥＤＭ（１４５ｇ）の混合溶液を２時間かけて滴下した。
滴下が終了してから、７０℃で４時間反応させることにより、重合体Ａ−３のＰＧＭＥＡ溶液（固形分濃度：３５％）を得た。

＜酸基を有する構成単位ａ３および架橋性基を有する構成単位ａ２を含む重合体Ａ−４＞
ＰＧＭＥＡ（２６８部）を窒素気流下、９０℃に加熱撹拌した。
次いで、モノマーｅ−１として合成したメタクリル酸テトラヒドロ−２Ｈ−フラン−２−イル（１４３．４部（全単量体成分中の４０．１ｍｏｌ％に相当））、サイクロマーＭ１００（１６８．４部（全単量体成分中の３７．５ｍｏｌ％に相当））、ＭＡＡ（１９．５部（全単量体成分中の９．９ｍｏｌ％に相当））、ヒドロキシエチルメタクリレート（和光純薬工業（株）製、３７．２部（全単量体成分中の１２．５ｍｏｌ％に相当））、ラジカル重合開始剤Ｖ−６０１（５．５部）、および、ＰＧＭＥＡ（２６８部）の混合溶液を２時間かけて滴下し、さらに２時間９０℃で反応させることにより、重合体Ａ−４の溶液（固形分濃度：４０％）を得た。
なお、得られた重合体Ａ−４のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した重量平均分子量は、１６，０００であった。

＜酸基を有する構成単位ａ３および架橋性基を有する構成単位ａ２を含む重合体Ａ−５＞
フラスコ内を窒素置換した後、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル９．０ｇを溶解したジエチレングリコールジメチルエーテル溶液を４５９．０ｇ仕込んだ。
次いで、Ｓｔ（２２．５ｇ）、ＭＡＡ（４５．０ｇ）、ＤＣＰＭ（６７．５ｇ）、および、ＧＭＡ（９０．０ｇ）を仕込んだ後、ゆるやかに撹拌を始めた。
次いで、溶液の温度を８０℃に上昇させ、この温度を５時間保持した後、９０℃で１時間加熱させて重合を終結させた。
その後、反応生成溶液を多量の水に滴下し反応物を凝固させた。この凝固物を水洗後、ＴＨＦ（２００ｇ）に再溶解し、多量の水で再度、凝固させた。
この再溶解および凝固の操作を計３回行った後、得られた凝固物を６０℃で４８時間減圧乾燥し、重合体Ａ−５を得た。その後、固形分濃度が２５質量％になるようにジエチレングリコールを用いて重合体Ａ−５溶液とした。

＜重合体Ａ−６＞
特開２０１３−１７７５６１号公報の［０１６５］段落（調製例５）に記載された非配向性ポリマー（Ｅ−１）と同様の方法で、重合体Ａ−６を合成した。

〔架橋剤Ｂ〕
架橋剤Ｂとして、以下に示すものを使用した。
＜Ｂ−１＞
分子量５，０００以下の架橋剤Ｂ−１として、多官能エポキシ化合物（オグソールＥＧ、大阪ガス（株）製）を用いた。
＜Ｂ−２＞
分子量５，０００以下の架橋剤Ｂ−２として、多官能エポキシ化合物（ＥＸ−３２１Ｌ、ナガセケムテックス（株）製）を用いた。
＜Ｂ−３＞
分子量５，０００以下の架橋剤Ｂ−３として、多官能エポキシ化合物（ＪＥＲ５７Ｓ６５、ジャパンエポキシレジン（株）製）を用いた。

〔その他の成分〕
＜Ｆ−５５４＞
界面活性剤として、パーフルオロアルキル基含有ノニオン界面活性剤（Ｆ−５５４、ＤＩＣ（株）製）を使用した。
＜ＫＢＭ−４０３＞
密着改良剤として、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−４０３、信越化学工業（株）製）を使用した。

〔実施例１〜２４および比較例１〜６〕
下記第２表に示す各成分を溶剤（ＰＧＭＥＡ）に固形分濃度が１８質量％となるまで溶解混合し、口径０．２μｍのポリテトラフルオロエチレン製フィルターでろ過して、各実施例および比較例の樹脂組成物を調製した。なお、表中の添加量は各成分の固形分での添加量を表し、単位は質量部である。
得られた樹脂組成物を、ガラス基板上にスピンコート法により塗布し、８０℃のホットプレート上で１分間予備乾燥させた後、２３０℃のクリーンオーブン中で６０分間焼成し、３μｍのオーバーコート層の硬化膜を形成した。
形成した硬化膜を表面・界面切削装置（ＤＮ−２０Ｓ型、ダイプラ・ウィンテス社製）により斜め切削を行い、断面を露出させた。
露出させた断面について、上述した測定装置および条件により、配向性基に由来するフラグメントの質量分析の強度ＥＬｑ、および、強度ＥＳｕｂを測定し、これらの強度比（強度ＥＬｑ／強度ＥＳｕｂ）を測定し、以下の基準で評価した。結果を下記第２表に示す。なお、同様の試験を、後述する表示装置を作製した後に配向保護層に対して行ったが、結果は同様であった。
Ａ：強度比が１０倍以上または強度Ｅｓｕｂが測定限界以下
Ｂ：強度比が８倍以上〜１０倍未満
Ｃ：強度比が５倍以上〜８倍未満
Ｄ：強度比が２倍以上〜５倍未満
Ｅ：強度比が２倍未満
Ｆ：フラグメントピークなし

〔評価〕
＜配向性＞
無アルカリガラス基板上に、調製した各樹脂組成物をスピンコーター（スピンナー）により塗布した後、１００℃のホットプレート上で２分間プレベークすることにより膜厚４．０μｍの塗膜を形成した。
次いで、得られた塗膜に高圧水銀ランプを用いて露光量１０００Ｊ／ｍ^２として放射線照射を行い次いで、オーブン中で２３０℃の硬化温度および３０分間の硬化時間でポストベークすることにより保護層を形成した。
形成した保護層に対して紫外線偏光露光装置（ＨＣ−２１５０ＰＵＦＭ、ランテクニカルサービス（株）製）を用いて、偏向光を７５０ｍＪ／ｃｍ^２を照射し光配向処理を施し、配向保護層を形成した。
その後、水平配向液晶を塗布し、配向状態を偏光顕微鏡で倍率２０倍にて観察した。場所を変え、５つの視野（約１平方μｍ）にて観察し、以下の基準にて評価した。結果を下記第３表に示す。
Ａ：問題なし。
Ｂ：濃淡が認められるが、実用上問題がないレベル。
Ｃ：欠陥あり、輝点が観察される。
Ｄ：全く配向しない。

＜レターデーション（Ｒｔｈ）＞
無アルカリガラス基板上に、調製した各樹脂組成物をスピンコーターにより塗布した後、１００℃のホットプレート上で２分間プレベークすることにより膜厚４．０μｍの塗膜を形成した。
次いで、得られた塗膜に高圧水銀ランプを用いて露光量１０００Ｊ／ｍ^２として放射線照射を行い次いで、オーブン中で２３０℃の硬化温度および３０分間の硬化時間でポストベークすることにより保護層を形成した。
この保護層に対して位相差測定装置ＫＯＢＲＡ−ＷＦＤ（王子計測機器株式会社社製）を用いて複屈折を評価した。結果を第３表に示す。なお、複屈折は表示の角度ズレに起因するため、３０ｎｍを超えなければ実用上問題がないが、低い数値が好ましい。

＜平坦性＞
高さ１μｍ、幅１０μｍのＬ／Ｓパターン（Ｌ／Ｓ幅の比が１：１）を作成し、その上から樹脂組成物をスピンコーターで塗布し、９０℃／１２０秒でプリベーク後、オーブンにて２３０℃／３０分で熱硬化させ、２μｍの硬化膜を得た。
得られた硬化膜の平坦性を下記式で定義し、算出した。結果を下記第３表に示す。なお、平坦性は、数値が１００に近いほど平坦化能力が高く、実用上は７０％以上が求められる。
平坦性（％）＝（１−Δｄ／Ｈ）×１００
ここで、上記式中、Δｄは、Ｌ／Ｓパターン上部の硬化膜の膜厚と硬化膜の膜厚（２μｍ）の差分（μｍ）を意味し、Ｈは、下地のＬ／Ｓパターンの膜厚（μｍ）を意味する。

＜表示特性＞
（１）アレイ基板の製造
国際公開（ＷＯ）２００９／０２５３８６号パンフレットの実施例４２の記載に従って、アレイ基板上にコンタクトホールの形成された絶縁膜を形成した。
次いで、絶縁膜が形成された基板に対し、スパッタリング法を用いて、絶縁膜の上にＩＴＯからなる透明導電層を形成した。次に、フォトリソグラフィ法を利用して透明導電層をエッチングして、絶縁膜上に共通電極を形成した。
その後、スパッタリング法を用いて、ＳｉＮの絶縁層を形成した。次にフォトリソグラフィ法を利用してＳｉＮ層をエッチングして、共通電極の形成された基板の表面にパターニングされたＳｉＮの絶縁膜を形成した。
次に、スパッタリング法を用いて、層間絶縁膜の上に、ＩＴＯからなる透明導電層を形成した。次いで、フォトリソグラフィ法を利用してこの透明導電層をエッチングし、無機絶縁膜の上に櫛歯形状の画素電極を形成した。
以上のようにして、本実施例のアレイ基板を製造した。得られた本実施例のアレイ基板では、絶縁膜の所望の位置に所望のサイズのコンタクトホールが形成されており、画素電極と能動素子のソース−ドレイン電極との電気的な接続が実現されていた。
アレイ基板の透明電極の上に、光配向性基を有する感放射線性重合体を含む液晶配向剤として、国際公開（ＷＯ）２００９／０２５３８６号パンフレットの実施例６に記載の液晶配向剤Ａ−１をスピンナにより塗布する。次いで、８０℃のホットプレートで１分間プレベークを行った後、内部を窒素置換したオーブンにて、１８０℃で１時間加熱して膜厚８０ｎｍの塗膜を形成した。次いで、この塗膜表面に、Ｈｇ−Ｘｅランプおよびグランテーラープリズムを用いて３１３ｎｍの輝線を含む偏光紫外線２００Ｊ／ｍ^２を、基板表面に垂直な方向に対して４０°傾いた方向から照射し、液晶配向膜を有するアレイ基板を製造した。

（２）対向基板の製造
まず、公知の方法により製造されたカラーフィルター基板を準備した。このカラーフィルター基板は、透明基板上に、赤色、緑色および青色の３色の微小な着色パターンと、ブラックマトリクスとが格子状に配置されている。次に、カラーフィルター基板の着色パターンとブラックマトリクスの上に、上記第２表に示す実施例１〜２４および比較例１〜６の樹脂組成物を用いて塗膜を形成し、９０℃／１２０秒でプリベークした後、オーブンにて２３０℃／３０分で熱硬化させ、保護膜を作製した。次いで、保護膜に対して、紫外線偏光露光装置（ＨＣ−２１５０ＰＵＦＭ、ランテクニカルサービス（株）製）を用いて、偏向光を７５０ｍＪ／ｃｍ^２を照射する光配向処理を施し、２μｍの配向保護膜を形成し、対向基板を製造した。

（３）表示装置の製造
得られた配向保護膜付き対向基板と、アレイ基板とによって、液晶層を挟持してカラー液晶表示素子を製造した。液晶層としては、ネマチック液晶からなり、基板面に平行に配向するものを用いた。これらの液晶表示素子について表示特性と信頼性を評価した。

（４）評価
液晶表示素子を温度６０℃／湿度９０％のオーブンに１週間静置し、再び駆動させる評価を行った。結果を下記第３表に示す。
Ａ：全く表示不良が起こらなかったもの
Ｂ：画素の１％以上〜１０％未満に表示不良が生じたが、実用上は問題がないもの。
Ｃ：画素の１０％以上に表示不良が生じたもの
Ｄ：製造直後にも表示できなかったもの

第１表〜第３表に示す結果から、配向保護層が、配向性基を有していない場合には、配向性基に由来するフラグメントが検出されず、作製直後の液晶表示素子であっても表示特性が劣ることが分かった（比較例１〜２）。
また、比較例３および４では、配向保護層の配向性基に由来するフラグメントの強度ＥＬｑが強度ＥＳｕｂの２倍以上であったが、共有結合を介して互いに連結した配向性基および架橋構造を有していないため、高温高湿下に晒され後の表示特性が劣ることが分かった（比較例３〜４）。
更に、配向性基を偏在させるための偏在性基を有していない重合体を用いた場合は、形成される配向保護層の配向性基に由来するフラグメントの強度ＥＬｑが強度ＥＳｕｂの２倍未満となり、作製直後の液晶表示素子であっても表示特性が劣ることが分かった（比較例５〜６）。

一方、構成単位ｓ１および構成単位ａ２などを有する重合体、ならびに、構成単位ｓ１を有さず、構成単位ａ３などを有する重合体を用いた場合は、形成される配向保護層が、共有結合を介して互いに連結した配向性基および架橋構造を有し、また、配向性基に由来するフラグメントの質量分析の強度ＥＬｑおよび強度ＥＳｕｂの強度比（強度ＥＬｑ／強度ＥＳｕｂ）が所定の条件を満たしていると、優れた平坦性を維持し、かつ、高温高湿下に晒された場合にも表示性能が良好であることが分かった（実施例１〜２４）。
特に、実施例１と実施例２４との対比から、分子量５０００以下の架橋剤Ｂを配合すると、平坦性が向上し、また、表示性能もより良好となることが分かった。

１０：液晶表示装置
１２：バックライトユニット
１４，１５：基材
１６：薄膜トランジスタ
１７：硬化膜
１８：コンタクトホール
１９：ＩＴＯ透明電極
２０：液晶層
２１：配向保護層
２２：カラーフィルター
２３：配向膜
３０：第１の基板
４０：第２の基板

Claims (14)

1. 視認側から、第１の基板と、液晶層と、第２の基板とをこの順に有する液晶表示装置であって、
   前記第１の基板が、基材と、配向保護層とを具備し、
   前記第２の基板が、基材と、薄膜トランジスタと、表示電極と、配向膜とを具備し、
   前記配向保護層が、前記液晶層と接する面を有し、
   前記配向保護層が、共有結合を介して互いに連結した配向性基および架橋構造を有し、
   飛行時間型二次イオン質量分析法で検出される前記配向性基に由来するフラグメントについて、前記配向保護層の前記液晶層に接する面における前記配向性基に由来するフラグメントの質量分析の強度ＥＬｑと、前記配向保護層の前記基材側の面における前記配向性基に由来するフラグメントの質量分析の強度ＥＳｕｂとが、下記条件１または２を満たし、
   前記架橋構造が、下記式（Ａ−１）〜（Ａ−３）で表されるいずれかの構造を含む、液晶表示装置。
   条件１：強度ＥＬｑが強度ＥＳｕｂの２倍〜２０倍である。
   条件２：強度ＥＬｑが有意に測定され、強度ＥＳｕｂが測定限界以下である。
   
   ここで、前記式（Ａ−１）〜（Ａ−３）中、＊は結合位置を表し、前記式（Ａ−３）中、Ｒ¹は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
2. 前記強度ＥＬｑが、前記強度ＥＳｕｂの５倍〜２０倍である、請求項１に記載の液晶表示装置。
3. 前記配向性基が、光配向性基を光反応させてなる基である、請求項１または２に記載の液晶表示装置。
4. 前記配向保護層の膜厚が１〜４μｍである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
5. 前記液晶層を構成する液晶が、水平配向液晶である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
6. 前記配向性基に由来するフラグメントが、シンナメート基およびカルコン基からなる群から選択される少なくとも１種の光配向性基に由来するフラグメントである、請求項１〜５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
7. 基材上に、配向性基を有する構成単位を含む重合体Ｐと、配向性基を有する構成単位を含まない重合体Ａとを含有する配向保護層形成用組成物を用いて保護層を形成した後に、前記保護層に対して配向処理を施して配向保護層を形成し、第１の基板を作製する第１工程と、
   基材、薄膜トランジスタ、表示電極および配向膜を具備する第２の基板と、前記第１の基板とを張り合わせて液晶を封入し、前記第１の基板と前記第２の基板との間に液晶層を形成し、液晶表示装置を作製する第２工程と、を有する液晶表示装置の製造方法。
8. 前記重合体Ｐが、前記配向性基を有する構成単位として下記ｓ１に示される構成単位を含み、
   前記重合体Ｐおよび前記重合体Ａが、下記条件３または４を満たす、請求項７に記載の液晶表示装置の製造方法。
   ｓ１：フッ素置換炭化水素基、シロキサン骨格および炭素数１０〜３０のアルキル基からなる群より選択される少なくとも１つの部分構造を有する構成単位、ならびに、光配向性基を有する構成単位
   条件３：前記重合体Ｐが、架橋性基を有する構成単位ａ２を含み、かつ、前記重合体Ａが、酸基を有する構成単位ａ３を含む。
   条件４：前記重合体Ｐが、酸基を有する構成単位ａ３を含み、かつ、前記重合体Ａが、架橋性基を有する構成単位ａ２を含む。
9. 前記架橋性基が、オキシラニル基、３，４−エポキシシクロヘキシル基、および、オキセタニル基からなる群から選択される少なくとも１種である、請求項８に記載の液表示装置の製造方法。
10. 前記重合体Ｐおよび前記重合体Ａの合計質量に対する前記重合体Ｐの質量割合が１０質量％未満である、請求項７〜９のいずれか１項に記載の液晶表示装置の製造方法。
11. 前記配向保護層形成用組成物が、更に、分子量５０００以下の架橋剤Ｂを含有する、請求項７〜１０のいずれか１項に記載の液晶表示装置の製造方法。
12. 前記架橋剤Ｂが、エポキシ基を有する架橋剤を含み、
    前記架橋剤Ｂ、前記重合体Ｐおよび前記重合体Ａの合計質量に対する前記架橋剤Ｂの質量割合が３０質量％以下である、請求項１１に記載の液晶表示装置の製造方法。
13. 前記配向性基が、光配向性基であり、
    前記配向処理が、波長３６５ｎｍ以下の光を用いる光配向処理である、請求項７〜１２のいずれか１項に記載の液晶表示装置の製造方法。
14. 前記第１工程が、前記配向処理の前または後に、熱処理を施す工程を含む、請求項７〜１３のいずれか１項に記載の液晶表示装置の製造方法。