JP2017097351A - マイクロ構造化表面を含む反射防止フィルム - Google Patents

Abstract

【課題】新規な反射防止フィルムを提供する。
【解決手段】高屈折率層６０と、高屈折率層６０の上に配置された低屈折率表面層８０とを含む反射防止フィルム１００であって、その少なくとも３０％が少なくとも０．７度の傾斜規模であり、少なくとも２５％が１．３度未満の傾斜規模であるような補集合的累積傾斜規模分布を有する複数のマイクロ構造を前記低屈折率層が含み、反射防止フィルム１００が、埋め込まれたマット粒子を含まない、反射防止フィルム。
【選択図】図１Ｂ

Description

様々なマットフィルム（アンチグレアフィルムとも表現）が記載されている。マットフィルムは、交互に配置された高及び低屈折率層を有して製造され得る。そのようなマットフィルムは、低光沢を反射防止と組み合わせて有し得る。しかしながら、交互に配置された高及び低屈折率層の不在下では、それらのフィルムはアンチグレアを有するが反射防止を有さないであろう。

米国特許第２００７／０２８６９９４号の段落００３９に記載されているように、マット反射防止フィルムは、典型的には、等価な光沢フィルムと比較して低い透過率と高いヘイズ値とを有する。例えば、ヘイズ値は、ＡＳＴＭ Ｄ１００３に従って測定した場合、概して少なくとも５％、６％、７％、８％、９％又は１０％である。更に、ＡＳＴＭ Ｄ ２４５７−０３によって６０°で測定した場合、光沢表面の光沢が典型的には少なくとも１３０であるのに対して、マット表面の光沢は１２０未満である。

マットフィルムを得るためのいくつかの手法が存在する。

例えば米国特許第６，７７８，２４０号に記載さいるように、マット粒子を加えることによりマットコーティングを調製することができる。

更に、マットな反射防止フィルムは、高及び低屈折率層をマットフィルム基材上に提供することによっても調製することができる。

更なる別の手法では、アンチグレア又は反射防止フィルムの表面を粗面化し又はテクスチャリングして、マット表面を提供することができる。米国特許第５，８２０，９５７号によれば、「反射防止フィルムのテクスチャリングされた表面は、多数のテクスチャリング材料、表面又は方法のいずれかにより付与することができる。テクスチャリング材料又は表面の非限定的な例としては、マット仕上げを有するフィルム若しくはライナー、マイクロエンボス加工フィルム、所望のテクスチャリングパターン若しくは鋳型を含むマイクロ複製工具、スリーブ若しくはベルト、金属若しくはゴムロール等のロール、又はゴム被覆ロールが挙げられる。」

本発明は、高屈折率層と、その高屈折率層の上に配置された低屈折率層とを含む反射防止フィルムに関する。この反射防止フィルムは、マイクロ複製工具から得ることができるマイクロ構造化表面を有する。

いくつかの実施形態では、その少なくとも３０％が少なくとも０．７度の傾斜規模であり、少なくとも２５％が１．３度未満の傾斜規模であるような補集合的累積傾斜規模分布を有する複数のマイクロ構造をマイクロ構造化表面が含む。

別の実施形態では、反射防止フィルムは、９０％未満の透明度と、少なくとも０．０５マイクロメートル〜０．１４マイクロメートル以下の平均表面粗さ（Ｒａ）によって特徴付けられる。

別の実施形態では、反射防止フィルムは、９０％未満の透明度と、少なくとも０．０５マイクロメートル〜１．２０マイクロメートル以下の平均最大表面高さ（Ｒｚ）によって特徴付けられる。

別の実施形態では、反射防止フィルムは、９０％未満の透明度によって特徴付けられ、そのマイクロ構造化層は、平均等価直径が少なくとも５マイクロメートル〜３０マイクロメートル以下の山を含む。

いくつかの実施形態では、反射防止フィルムは、埋め込まれたマット粒子を含まない。別の実施形態では、マイクロ構造の５０％以下が、埋め込まれたマット粒子を含む。

一般に、本発明の反射防止フィルムの透明度は少なくとも７０％であり、ヘイズ値は１０％以下である。更に、本発明の反射防止フィルムの平均明所視反射率（ａｖｅｒａｇｅ ｐｈｏｔｏｐｉｃ ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）は、５００ｎｍ〜６２５ｎｍの範囲の波長において、２％未満である。

いくつかの実施形態において、マイクロ構造の少なくとも３０％が、少なくとも３５％が、又は少なくとも４０％が、１．３度未満の傾斜規模を有する。

いくつかの実施形態において、マイクロ構造の１５％未満が、又は１０％未満が、又は５％未満が、４．１度以上の傾斜規模を有する。更に、マイクロ構造の少なくとも７０％が少なくとも０．３度の傾斜規模を有する。

「スパークル」の少ない、いくつかの実施形態では、マイクロ構造は、平均等価円直径（ＥＣＤ）が少なくとも５マイクロメートル又は少なくとも１０マイクロメートルの山を含む。更に、山の平均ＥＣＤは、一般に３０マイクロメートル未満又は２５マイクロメートル未満である。いくつかの実施形態において、マイクロ構造は、少なくとも５マイクロメートル又は少なくとも１０マイクロメートルの平均長さを有する山を含む。更に、マイクロ構造の山の平均幅は、典型的には少なくとも５マイクロメートルである。いくつかの実施形態において、山の平均幅は、１５マイクロメートル未満である。

別の実施形態では、本明細書に記載されている反射防止フィルムを作製できる高屈折率組成物と低屈折率組成物が記載されている。

マットフィルムの概略側面図。 反射防止フィルムの概略側面図。 マイクロ構造の陥没部の概略側面図。 マイクロ構造の突出部の概略側面図。 規則的に配置されたマイクロ構造の概略上面図。 不規則に配置されたマイクロ構造の概略上面図。 マイクロ構造の概略側面図。 埋め込まれたマット粒子を含むマイクロ構造部分を有する光学フィルムの概略側面図。 切削工具システムの概略側面図。 様々なカッターの概略側面図。 様々なカッターの概略側面図。 様々なカッターの概略側面図。 様々なカッターの概略側面図。 例示的なマイクロ構造化表面（即ち、マイクロ構造化高屈折率層Ｈ１）の２次元表面プロファイル。 図８Ａの例示的なマイクロ構造化表面の３次元表面プロファイル。 それぞれＸ及びＹ方向に沿った図８Ａのマイクロ構造化表面の断面プロファイル。 それぞれＸ及びＹ方向に沿った図８Ａのマイクロ構造化表面の断面プロファイル。 別の例示的なマイクロ構造化表面（即ち、マイクロ構造化高屈折率層Ｈ４）の２次元表面プロファイル。 図９Ａの例示的なマイクロ構造化表面の３次元表面プロファイル。 それぞれＸ及びＹ方向に沿った図９Ａのマイクロ構造化表面の断面プロファイル。 それぞれＸ及びＹ方向に沿った図９Ａのマイクロ構造化表面の断面プロファイル。 別の例示的なマイクロ構造化表面（すなわち、反射防止フィルムの実施例Ｆ１０Ｂ）の２次元表面プロファイル。 図１０Ａの例示的なマイクロ構造化表面の３次元表面プロファイル。 図１０Ａのマイクロ構造化表面をｘ方向で切断した断面のプロファイル。 ｙ方向で切断した断面のプロファイル。 様々な例示的なマイクロ構造化表面の補集合的累積傾斜規模分布を示すグラフ。 曲率の計算方法。

本明細書には、マット（すなわちアンチグレア）フィルムと反射防止フィルムが記載されている。図１Ａを参照すると、マットフィルム１００は、典型的には光透過性（例えばフィルム）基材５０の上に配置されているマイクロ構造化高屈折率（例えば表示表面）層６０を含む。基材５０、及びマット又は反射防止フィルムの透過率は、一般に少なくとも８５％又は９０％であり、いくつかの実施形態では、少なくとも９１％、９２％、９３％、又は９３％超である。

透明基材は、フィルムであってもよい。フィルム基材の厚さは、一般に、意図される使用に依存する。大部分の用途について、基材の厚さは好ましくは約０．５ｍｍ未満、より好ましくは約０．０２〜約０．２ｍｍである。代替的に、透明フィルム基材は、光学（例えば、照射）ディスプレイであってもよく、前記ディスプレイを介して試験、画像又は他の情報が表示され得る。透明基材は、ガラス等の多種多様な非ポリマー材料、又はポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、（例えばビスフェノールＡ）ポリカーボネート、酢酸セルロース、ポリ（メチルメタクリレート）、及び例えば二軸配向ポリプロピレンのようなポリオレフィン等の様々な熱可塑性及び架橋ポリマー材料のいずれかを含むか、又はそれからなってもよく、これらは様々な光学デバイスで一般に使用されている。

図１Ｂの反射防止フィルムは、マイクロ構造化高屈折率層の上に配置された低屈折率表面層８０を更に含む。図１Ｂに示されているように、この反射防止フィルムの露出した低屈折率（表示）表面層は、下のマイクロ構造化高屈折率層から形成されたマイクロ構造化表面も含む。

高屈折率層の屈折率は少なくとも約１．６０である。高屈折率層の最大屈折率は、架橋有機材料中に分散された高屈折率無機（例えばジルコニア）ナノ粒子を有するコーティングについては、典型的には約１．７５以下である。低屈折率層は、高屈折率層を下回る屈折率を有する。高屈折率層と低屈折率層との屈折率差は典型的には少なくとも０．１０、又は０．１５、又は０．２以上である。低屈折率層は、典型的には約１．５未満、より典型的には約１．４５未満、及びなおより典型的には約１．４２未満の屈折率を有する。低屈折率層の最小屈折率は一般的に、少なくとも約１．３５である。

耐久性のあるマット又は反射防止フィルムは典型的には、比較的薄い低屈折率層との組み合わせで、比較的厚い高屈折率層を含む。この高屈折率層の平均の厚み（「ｔ」）は、典型的には少なくとも０．５マイクロメートル、好ましくは少なくとも１マイクロメートル、より好ましくは少なくとも２又は３マイクロメートルである。高屈折率層の厚みは、典型的には１５マイクロメートル以下、より典型的には４又は５マイクロメートル以下である。低屈折率層の光学厚さは約１／４波長である。この厚さは典型的には０．５ミクロン未満、より典型的には約０．２ミクロン未満であり、約９０ｎｍ〜１１０ｎｍである場合が多い。耐久性のある低屈折率層と共に、耐久性のある高屈折率層を採用する際、追加のハードコート層がない場合は、耐久性のある（例えば２層型）反射防止フィルムを搭載することができる。しかしながら、マット又は反射防止フィルムの耐久性が不要ではないときには、高屈折率層の厚みは、もっと薄くできる。

いくつかの実施形態において、マイクロ構造は、陥没部であってもよい。例えば、図２Ａは、陥没したマイクロ構造３２０、又はマイクロ構造キャビティを含むマイクロ構造化（例えば、マット）層３１０の概略側面図を示す。マイクロ構造化表面を形成する工具表面は、一般に、複数の陥没部を含む。マット又は反射防止フィルムのマイクロ構造は典型的には突出部である。例えば、図２Ｂは、突出したマイクロ構造３４０を含むマイクロ構造化層３３０の概略側面図である。図８Ａ〜１０Ｄは、複数のマイクロ構造突出部を含む様々なマイクロ構造化表面を示す。

いくつかの実施形態において、マイクロ構造は規則的なパターンを形成し得る。例えば、図３Ａは、主表面４１５に規則的なパターンを形成するマイクロ構造４１０の概略上面図である。しかしながら、典型的にはマイクロ構造は不規則なパターンを形成する。例えば、図３Ｂは、不規則なパターンを形成するマイクロ構造４２０の概略上面図である。ある場合には、マイクロ構造は無作為に見える擬無作為パターンを形成し得る。

（例えば、個別の）マイクロ構造は、傾斜により特徴付けることができる。図４は、マイクロ構造化（例えば、マット）層１４０の一部分の概略側面図である。詳細には、図４は、主表面１２０のマイクロ構造１６０と、対向主表面１４２と、を示す。ミクロ構造１６０は、ミクロ構造の表面全域に勾配分布を有する。例えば、マイクロ構造は、位置５１０に傾斜θを有し、θは、位置５１０におけるマイクロ構造表面に直交する法線５２０（α＝９０度）と、同一位置におけるマイクロ構造表面に対して正接となる接線５３０との間の角度である。また、勾配θは、接線５３０とマット層の主表面１４２との間の角度である。

一般に、高屈折率層と反射防止フィルムのマイクロ構造は典型的には、高さ分布を有することができる。いくつかの実施形態において、（実施例に記載した試験方法にしたがって測定した）マイクロ構造の平均高さは、約５マイクロメートル以下、又は約４マイクロメートル以下、又は約３マイクロメートル以下、又は約２マイクロメートル以下、又は約１マイクロメートル以下である。平均高さは、典型的には少なくとも０．１又は０．２マイクロメートルである。

いくつかの実施形態において、マイクロ構造は実質的にマット粒子（例えば、無機酸化物又はポリスチレン）を含まない。しかしながら、マット粒子が無くても、マイクロ構造７０と高屈折率層は典型的には、図１Ａに示されているように、（例えばジルコニア）ナノ粒子３０を含む。

ナノ粒子のサイズは、可視光線の顕著な光散乱を防止するように選択される。光学又は材料特性を最適化するため及び全組成物コストを低下させるために、複数の種類の無機酸化物粒子の混合物を用いることが望ましい場合がある。表面改質コロイド状ナノ粒子は、少なくとも１ｎｍ又は５ｎｍの（例えば非会合の）一次粒径又は会合粒径を有する無機酸化物粒子であり得る。一次粒径又は会合粒径は一般に、１００ｎｍ未満、７５ｎｍ未満、又は５０ｎｍ未満である。典型的には、一次又は会合粒径は４０ｎｍ、３０ｎｍ、又は２０ｎｍ未満である。ナノ粒子は非会合性であることが好ましい。それらの測定値は、透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）に基づき得る。表面修飾コロイド状ナノ粒子のほぼ全てを凝縮させることができる。

完全凝縮ナノ粒子（シリカを例外として）の結晶化度（単離金属酸化物粒子として測定した場合）は、典型的には５５％を超え、好ましくは６０％を超え、より好ましくは７０％を超える。例えば、結晶化度は、約８６％まで又はそれ以上の範囲にすることができる。結晶化度は、Ｘ線回折法によって割り出すことができる。凝縮結晶性（例えばジルコニア）のナノ粒子は屈折率が高いが、非晶質ナノ粒子は典型的には屈折率がより低い。

ナノ粒子のサイズが相当小さいため、それらのナノ粒子はマイクロ構造を形成しない。正しくは、マイクロ構造は、複数のナノ粒子を含む。図示されていないが、低屈折率層８０は典型的には、（例えばシリカ）ナノ粒子も含む。

別の実施形態では、高屈折率層のマイクロ構造の一部は、埋め込まれたマット粒子を含む。

マット粒子は、典型的には、約０．２５マイクロメートル（２５０ナノメートル）を超える、又は約０．５マイクロメートルを超える、又は約０．７５マイクロメートルを超える、又は約１マイクロメートルを超える、又は約１．２５マイクロメートルを超える、又は約１．５マイクロメートルを超える、又は約１．７５マイクロメートルを超える、又は約２マイクロメートルを超える、平均サイズを有する。小さめのマット粒子は典型的には、比較的薄い高屈折率層を含む反射防止フィルム用である。しかしながら、高屈折率層が厚めの実施形態では、マット粒子の平均サイズは、最大５マイクロメートル又は１０マイクロメートルであってよい。マット粒子の濃度は、少なくとも１又は２重量％〜約５、６、７、８、９、若しくは１０重量％、又は１０重量％超の範囲であってよい。

図５は、基材８５０上に配置されたマット層８６０を含む光学フィルム８００の概略側面図である。マット層８６０は、基材８５０に付着された第１の主表面８１０と、重合バインダー８４０中に分散された複数のマット粒子８３０及び／又はマット粒子凝集体とを含む。マイクロ構造８７０のうちの相当部分、例えば少なくとも約５０％、又は少なくとも約６０％、又は少なくとも約７０％、又は少なくとも約８０％、又は少なくとも約９０％には、マット粒子８３０又はマット粒子凝集体８８０が存在しない。したがって、それらのマイクロ構造は（例えば、埋め込まれた）マット粒子を含まない。（例えば、シリカ又はＣａＣＯ３）マット粒子の存在は、以下に記載するように、それらのマット粒子の存在が所望の反射防止、透明度、及び曇り度特性を提供するのに不十分であったとしても、改善された耐久性を提供し得ることが推定される。しかしながら、マット粒子のサイズが比較的大きいため、コーティング組成物中に均一に分散されたマット粒子を維持することは困難であり得る。このことは、適用されたマット粒子の濃度に変動を生じる場合があり（特にウェブコーティングの場合）、これは次にマット特性に変動を生じる。

マイクロ構造の少なくとも一部分が埋め込みマット粒子又は凝集マット粒子を含む実施形態では、マット粒子の平均サイズは、典型的にはマイクロ構造の平均サイズよりも十分小さく（例えば、少なくとも約２以上の因数により）、したがって図５に示すように、マット粒子がマイクロ構造化層の重合性樹脂組成物で包囲される。

マット層がマット粒子を含む場合、そのマット層の平均の厚み「ｔ」は、粒子の平均サイズよりも少なくとも約０．５マイクロメートル、又は少なくとも約１マイクロメートル、又は少なくとも約１．５マイクロメートル、又は少なくとも約２マイクロメートル、又は少なくとも約２．５マイクロメートル、又は少なくとも約３マイクロメートル大きい。

この代わりに、又はこれに加えて、低屈折率層はマット粒子を含んでもよい。

マイクロ構造化表面は、任意の好適な製作方法により作製することができる。マイクロ構造は、典型的には、米国特許第５，１７５，０３０号（Ｌｕら）及び第５，１８３，５９７号（Ｌｕ）に記載されているように、重合性樹脂組成物を工具表面と接触させて成型及び硬化させることにより、工具からのマイクロ複製により製作される。工具は、任意の利用可能な製作方法、例えばエングレービング又はダイヤモンド切削を用いることにより製作することができる。例示的なダイヤモンド切削システム及び方法は、例えば、その開示が参照により本明細書に組み込まれる、国際出願公開第ＷＯ ００／４８０３７号、並びに米国特許第７，３５０，４４２号及び同第７，３２８，６３８号に記載されているような高速工具サーボ（fast tool servo）（ＦＴＳ）を含み及び使用し得る。

図６は、マイクロ複製されてマイクロ構造１６０及びマット層１４０を製造し得る工具の切削に使用され得る切削工具システム１０００の概略側面図である。切削工具システム１０００は、ねじ切り旋盤旋削プロセスを用い、駆動体１０３０によって中心軸１０２０の周囲を回転する、及び／又はこれに沿って移動することができるロール１０１０と、ロール材料を切削するためのカッター１０４０と、を含む。カッターは、サーボ１０５０に装着され、駆動体１０６０によってｘ方向に沿ってロールの中、及び／又はロール沿いに移動させることができる。一般に、カッター１０４０は、ロール及び中心軸１０２０に対して垂直に装着されてよく、刻装可能な材料であるロール１０１０に押し込まれるが、このとき、ロールは、中心軸の周囲を回転している。次に、カッターは、中心軸と平行に駆動されて、ねじ切りを製造する。カッター１０４０は、高周波かつ低変位で作動可能であり、ミクロ複製時にミクロ構造１６０をもたらす機構をロール内に製造する。

サーボ１０５０は、高速工具サーボ（ＦＴＳ）であり、固体圧電（ＰＺＴ）装置（ＰＺＴスタックと呼ばれることが多い）を含むが、このＰＺＴスタックは、カッター１０４０の位置を迅速に調節する。ＦＴＳ １０５０により、カッター１０４０のｘ方向、ｙ方向、及び／若しくはｚ方向、又は軸外方向での高精密かつ高速での動作が可能になる。サーボ１０５０は、静止位置に関して制御された動作をもたらすことができる、任意の高品質の変位サーボであってよい。幾つかの場合において、サーボ１０５０は、約０．１マイクロメートル以上の分解能で０〜約２０マイクロメートルの範囲の変位を確実にかつ繰り返しもたらすことができる。

駆動体１０６０は、カッター１０４０をｘ方向に沿って中心軸１０２０に平行に移動させることができる。幾つかの場合において、駆動体１０６０の変位分解能は、約０．１マイクロメートル以上、又は約０．０１マイクロメートル以上である。駆動体１０３０によってもたらされる回転運動は、駆動体１０６０によってもたらされる並進運動と同期して、結果として得られるミクロ構造１６０の形状を正確に制御する。

刻装可能な材料であるロール１０１０は、カッター１０４０によって刻装されることができる任意の材料であってよい。例示のロール材料には、銅などの金属、様々なポリマー、及び様々なガラス材料が挙げられる。

カッター１０４０は任意の種類のカッターであってよく、用途において望ましい可能性がある任意の形状を有することができる。例えば、図７Ａは、半径「Ｒ」の弓形切削チップ１１１５を有するカッター１１１０の概略側面図である。ある場合には、切削チップ１１１５の半径Ｒは、少なくとも約１００マイクロメートル、又は少なくとも約１５０マイクロメートル、又は少なくとも約２００マイクロメートルである。いくつかの実施形態において、切削チップの半径Ｒは、又は少なくとも約３００マイクロメートル、又は少なくとも約４００マイクロメートル、又は少なくとも約５００マイクロメートル、又は少なくとも約１０００マイクロメートル、又は少なくとも約１５００マイクロメートル、又は少なくとも約２０００マイクロメートル、又は少なくとも約２５００マイクロメートル、又は少なくとも約３０００マイクロメートルである。

代替的に、工具のマイクロ構造化表面は、図７Ｂに示すようなＶ形切削チップ１１２５を有するカッター１１２０、図７Ｃに示すような、部分的に直線状の切削チップ１１３５を有するカッター１１３０、又は７Ｄに示すような湾曲切削チップ１１４５を有するカッター１１４０を使用して、形成されてもよい。１つの実施形態では、少なくとも約１７８度以上の頂角βを有するＶ形切削チップを使用した。

再び図６を参照すると、ロール材料を切削する間の、中心軸１０２０に沿ったロール１０１０の回転とｘ方向に沿ったカッター１０４０の移動とが、中心軸に沿ってピッチＰ１を有するねじ経路をロールの周囲に画定する。カッターがロール表面に対して垂直の方向に沿って移動してロール材料を切削する際、カッターによって切削される材料の幅は変化、つまり増減する。例えば図７Ａを参照すると、カッターによる最大侵入深さは、カッターにより切削される最大幅Ｐ２に対応する。一般に、比Ｐ２／Ｐ１は約２〜約４の範囲内にある。

いくつかのマイクロ構造化高屈折率層は、高屈折率のマット層を作製するための９個の異なるパターン化工具をマイクロ複製して作製された。高屈折率マット層のマイクロ構造化表面は、工具表面の正確な複製物であったため、マイクロ構造化高屈折率層に関する今後の説明は、逆工具表面の説明でもある。マイクロ構造化表面Ｈ５及びＨ５Ａは同一の工具を使用したため、次に記載するように、実質的に同一の補集合的累積傾斜規模分布Ｆｃｃ（θ）及び山の寸法特性を有する。マイクロ構造化表面Ｈ１０Ａ及びＨ１０Ｂも同一の工具を使用したため、実質的に同一の補集合的累積傾斜規模分布Ｆｃｃ（θ）及び山の寸法特性を呈する。マイクロ構造化表面Ｈ２Ａ、Ｈ２Ｂ及びＨ２Ｃも、同一の工具を使用した。したがって、Ｈ２Ｂ及びＨ２Ｃは、Ｈ２Ａと実質的に同一の補集合的累積傾斜規模分布及び山の寸法特性を有する。

例示的なマイクロ構造化高屈折率層の表面プロファイルのいくつかの例を、図８Ａ〜９Ｄに示す。代表的なマイクロ構造化反射防止フィルムは、図１０Ａ〜１０Ｄに示されている。

約２００マイクロメートル×２５０マイクロメートル〜約５００マイクロメートル×６００マイクロメートルの面積に亘る面積を有する、製作されたサンプルの表面の代表的な部分を、原子間力顕微鏡法（ＡＦＭ）、共焦点顕微鏡法又は位相シフト干渉法により、実施例に記載した試験方法に従って特徴付けた。

傾斜分布のＦｃｃ（θ）補集合的累積傾斜規模分布は、以下の等式により定義される。

特定の角度（θ）におけるＦｃｃは、θ以上の傾斜の割合である。マイクロ構造化高屈折率層のマイクロ構造のＦｃｃ（θ）は、下記の表１に示されている。

本明細書に開示した光学的透明度値は、ＢＹＫ−Ｇａｒｄｉｎｅｒ製のＨａｚｅ−Ｇａｒｄ Ｐｌｕｓヘイズメーターを使用して測定した。表１に示されているように、重合高屈折率ハードコートのマイクロ構造化表面の光学的透明度は一般に、少なくとも約６０％又は６５％である。いくつかの実施形態において、光学的透明度は、少なくとも７５％又は８０％である。いくつかの実施形態において、透明度は、９０％又は８９％又は８８％又は８７％又は８６％又は８５％以下である。後掲の表４に示されているように、マイクロ構造化反射防止フィルムも同様の光学的透明度を有した。

光学的曇り度は、典型的には、法線方向から２．５度を超えて逸脱する透過光の、総透過光に対する比として定義される。本明細書に開示した光学的曇り度値も、ＡＳＴＭ Ｄ１００３に記載されている手順に従って、Ｈａｚｅ−Ｇａｒｄ Ｐｌｕｓヘイズメーター（ＢＹＫ−Ｇａｒｄｉｎｅｒ，Ｓｉｌｖｅｒ Ｓｐｒｉｎｇｓ，Ｍｄ．から入手可能）を使用して測定した。上記の表１に示されているように、重合高屈折率ハードコートのマイクロ構造化表面の光学的へイズ値は、２０％未満、好ましくは１５％未満であった。好ましい実施形態では、光学的へイズ値は、約１％、又は２％、又は３％〜約１０％の範囲である。いくつかの実施形態では、光学的へイズ値は、約１％、又は２％、又は３％〜約５％の範囲である。後掲の表４に示されているように、マイクロ構造化反射防止フィルムのヘイズ値も同様であった。

マイクロ構造化表面は、下記の実施例に記載する試験方法に従って特徴付けた際、複数の山を含む。山の寸法的特徴は、以下の表２に報告する。

これらの寸法的特徴は、マット表面とＬＣＤ画素との相互作用を原因とする、マット表面を介して表示される画像の視覚的劣化である「スパークル」に関連することが見出された。スパークルの外観は、ＬＣＤ画像上に「粒状性」を重ね合わせて、透過された像の透明度を損なう複数の特定の色の輝点として説明することができる。スパークルのレベル又は量は、マイクロ複製された構造と、ＬＣＤの画素との相対的なサイズの相違に依存する（即ち、スパークルの量はディスプレイ依存性である）。一般に、マイクロ複製構造は、スパークルを排除するためにＬＣＤ画素サイズよりも遙かに小さい必要がある。スパークルの量は、商標名「Ａｐｐｌｅ ｉＰｏｄ Ｔｏｕｃｈ」で入手可能な、白色状態のＬＣＤディスプレイ（顕微鏡で測定して約１５９μｍの画素ピッチを有する）上で、一組の物理的許容基準（異なるレベルのスパークルを有するサンプル）との視覚的比較によって評価される。等級は１〜４の範囲であり、１が最少、４が最多のスパークル量である。

比較例Ｈ１は低スパークルであったが、このようなマイクロ構造化高屈折率層は、表１に示されているように、透明度が低く、ヘイズ値が高かった。

比較例Ｈ１１は、実質的に全部の山がマット粒子によって形成されている市販のマットフィルムである。したがって、平均等価円直径（ＥＣＤ）、平均長さ及び平均幅は、ほぼ同一である。

他の実施例（すなわちＨ１以外）によって、低反射防止性と低スパークルとの組み合わせは、山寸法の特徴が比較例Ｈ１１と実質的に異なる反射防止フィルムによって得ることができることが示されている。例えば、他の全部の例示的なマイクロ構造化表面の山は、比較例Ｈ１１よりも実質的に高い、少なくとも５マイクロメートル、典型的には少なくとも１０マイクロメートルの平均ＥＣＤを有した。更に、Ｈ３及びＨ７よりも低いスパークルを有する他の実施例は、３０マイクロメートル未満又は２５マイクロメートル未満の平均ＥＣＤ（即ち、山）を有した。他の例示的なマイクロ構造化表面の山は、５マイクロメートルを越える（即ち、Ｈ１１よりも長い）、典型的には１０マイクロメートルを越える、平均長さを有した。例示的なマイクロ構造化表面の山の平均幅も、少なくとも５マイクロメートルである。低スパークルの実施例の山の長さの平均は１５マイクロメートル以下であり、いくつかの実施形態では１０マイクロメートル以下であった。幅対長さの比（即ち、Ｗ／Ｌ）は、典型的には少なくとも１．０、又は０．９、又は０．８である。いくつかの実施形態において、Ｗ／Ｌは、少なくとも０．６である。別の実施形態では、Ｗ／Ｌは、０．５又は０．４未満、典型的には少なくとも０．１又は０．１５未満である。最近傍（即ち、ＮＮ）は、典型的には少なくとも１０又は１５マイクロメートルでありかつ１００マイクロメートル以下である。いくつかの実施形態において、ＮＮは、１５マイクロメートル〜約２０マイクロメートル又は２５マイクロメートルの範囲である。Ｗ／Ｌが０．５未満である実施形態を除いて、より高いスパークルの実施形態は、典型的には少なくとも約３０又は４０マイクロメートルのＮＮを有する。

低屈折率層を表２のマイクロ構造化高屈折率層に付けた。マイクロ構造化反射防止フィルムの反射率（すなわち、第１の表面正反射率）は、マシン付属品ＭＰＣ ３１００によるか、若しくは、入射角１２°、反射モード３８０〜８００ｎｍで、Ｓｈｉｍａｄｚｕ ＵＶ−３１０１ＰＣ ＵＮ−ＶＩＳ−ＮＩＲ Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ（日本のＳｈｉｍａｚｕ Ｃｏ．、及びＣｏｌｕｍｂｉａ、ＭＤのＳｈｉｍａｚｕ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓから入手可能）を用いるか、又は、ＲＳＩＮ及びＲＳＥＸモードを測定する（この場合の正反射は（ＲＳＩＮ Ｙ−ＲＳＥＸ Ｙ））ＵｌｔａＳｃａｎ ＸＥ（Ｈｕｎｔｅｒ Ｌａｂｓから入手可能）を用いて、測定された。これらの計器では、約１ｃｍ^２の面積の反射率を測定する。反射曲線をプロットし、反射が最小だった波長を記録した。

下記の表に示されているように、スパークルが「３」以下であるマイクロ構造化表面の透明度、ヘイズ値、及び補集合的累積傾斜規模分布を再測定した。

反射防止フィルムの平均明所視反射率（すなわちＲｐｈｏｔ）は、上記のような分光光度計で測定したところ、５５０ｎｍにおいて２％未満、又は１．５％未満であった。

傾斜規模の列に報告した各値は、それらの傾斜規模以上を有するマイクロ構造の総百分率（即ち、マイクロ構造化表面の総百分率）である。例えば、マイクロ構造化表面Ｈ６の場合、マイクロ構造の９７．３％は、０．１度以上の傾斜規模であり、マイクロ構造の８９．８％は、０．３度以上の傾斜規模であり、マイクロ構造の６２．６％は、０．７度以上の傾斜規模であり、マイクロ構造の２２．４％は、１．３度以上の傾斜規模であり、（測定した面積のうちの）マイクロ構造の０％（なし）は、４．１度以上の傾斜規模であった。逆に、マイクロ構造の６２．６％が０．７度以上の傾斜規模を有したため、１００％−６２．６％＝３７．４％が、０．７度未満の傾斜規模を有した。更に、マイクロ構造の２２．４％が１．３度大きい傾斜規模を有したため、１００％−２２．４％＝７７．６％が、１．３度未満の傾斜規模を有した。

表１及び３、並びに、図１１に示されているように、各マイクロ構造化表面のマイクロ構造の少なくとも９０％以上は、少なくとも０．１度以上の傾斜規模であった。更に、マイクロ構造の少なくとも７５％が、少なくとも０．３度の傾斜規模を有した。

透明度が高く、ヘイズが低い好ましい高屈折率ハードコートとＡＲマイクロ構造化表面の累積傾斜の特徴は、Ｈ１及びＦ１と異なっていた。Ｆ１の場合、マイクロ構造の少なくとも９５．８％が、少なくとも０．７度の傾斜規模を有した。４．２％のみが０．７度未満の傾斜規模を有した。他のマイクロ構造化表面では、マイクロ構造の少なくとも３０％、又は３５％、又は４０％、いくつかの実施形態では、少なくとも４５％、又は５０％、又は５５％、又は６０％、又は６５％、又は７０％、又は７５％は、少なくとも０．７度の傾斜規模であった。したがって、少なくとも２５％、３０％、３５％、４０％、４５％、５０％、５５％、６０％、６５％、又は７０％は、０．７度未満の傾斜規模であった。

この代わりに、又はこれに加えて、Ｆ１では、マイクロ構造の少なくとも８６．６％は、少なくとも１．３度の傾斜規模であるという点で、好ましい反射防止マイクロ構造化表面は、Ｆ１と区別することができる。１３．４％のみが１．３度未満の傾斜規模を有した。他のマイクロ構造化表面では、マイクロ構造の少なくとも２５％が、１．３度未満の傾斜規模を有した。１つの実施形態では、マイクロ構造の少なくとも３０％、又は３５％、又は４０％、又は４５％は、少なくとも１．３度での傾斜規模であった。したがって、マイクロ構造の５５％、又は６０％、又は６５％、又は７０％は、１．３度未満の傾斜規模であった。別の実施形態では、マイクロ構造の少なくとも５％、又は１０％、又は１５％、又は２０％は、少なくとも１．３度の傾斜規模であった。したがって、マイクロ構造の８０％又は８５％又は９０％又は９５％は、１．３度未満の傾斜規模を有した。

この代わりに、又はこれに加えて、Ｆ１では、マイクロ構造の少なくとも約２２．２％は、少なくとも４．１度の傾斜規模があったが、一方で、好ましいマイクロ構造化表面のケースでは、マイクロ構造の２０％、又は１５％、又は１０％未満は、４．１度以上の傾斜規模がであったという点で、反射防止性マイクロ構造化表面はＦ１と区別できる。したがって、８０％又は８５％又は９０％が４．１度未満の傾斜規模を有した。１つの実施形態では、マイクロ構造の５〜１０％が４．１度以上の傾斜規模を有した。殆どの実施形態では、マイクロ構造の５％又は４％又は３％又は２％又は１％未満が４．１度以上の傾斜規模を有した。

低屈折率層をマイクロ構造化高屈折率層に付けると、透明度を最大約１０％低下させることができる。ただし、その反射防止フィルムの透明度が、上記のとおり、目標範囲内であることを条件とする。いくつかの実施形態では、マイクロ構造化高屈折率層と反射防止フィルムとの間の透明度の差は、約３％、又は２％、又は１％以下である。更に、低屈折率層をマイクロ構造化高屈折率層に付けると、ヘイズ値を最大５％向上させることができる。いくつかの実施形態では、マイクロ構造化高屈折率層と反射防止フィルムとの間のヘイズ値の差は、約３％、又は２％、又は１％以下である。

低屈折率層をマイクロ構造化高屈折率層に付けると、典型的に、マイクロ構造化表面の補集合的累積傾斜規模分布が変化する。図１１を参照すると、マイクロ構造化反射防止フィルムの補集合的累積傾斜規模分布は、若干低い傾向があるものの、一般には対応するマイクロ構造化高屈折率層と同様の補集合的累積傾斜規模分布曲線を有する低屈折率層を更に含む。マイクロ構造化低屈折率層の補集合的累積傾斜規模分布は低いが、補集合的累積傾斜規模分布とピーク寸法の特徴は、マイクロ構造化高屈折率層に関して上で記載したような目標範囲と同じ範囲内である。いくつかの実施形態では、少なくとも０．７度の傾斜規模が、又は少なくとも１．３度の傾斜規模を有するマイクロ構造の割合は、５％、４％、３％、２％、又は１％未満変化する（すなわちＨ１−Ｆ１の絶対値）。

別の実施形態では、０．７度以上の傾斜を有するマイクロ構造の割合、及び少なくとも１．３度の傾斜規模を有するマイクロ構造の割合は、最大１０％上昇する場合がある。高屈折率マイクロ構造化層は、上記の所望の範囲よりも大きい傾斜規模を有するように作製でき、その傾斜規模は、低屈折率層を付けると低下することが推測される。

低屈折率層をマイクロ構造化高屈折率層に付けると、典型的に、山のマイクロ構造の寸法が若干変化する。例えば、平均等価円直径（ＥＣＤ）、及び／又は平均の長さ、及び／又は平均幅は典型的には、１．５又は１マイクロメートル未満変化する。いくつかの実施形態では、平均ＥＣＤの変化は、０．５、０．４、０．３、又は０．２マイクロメートル以下である。平均Ｗ／Ｌは典型的には、０．５以下変化する。山の最近（すなわち最隣接マイクロ構造間の距離は、０．５マイクロメートル変化する場合があるが、典型的には、２．５又は３マイクロメートル以下である。

例示的な高屈折率マイクロ構造層とＡＲフィルムにおいては、そのマイクロ構造は、実質的に表面全体を覆う。しかしながら、理論に束縛されるものではないが、少なくとも０．７度の傾斜規模を有するマイクロ構造は、所望のマット特性を提供すると考えられる。したがって、少なくとも０．７度の傾斜規模を有するマイクロ構造は、主表面の少なくとも約４０％、又は少なくとも約４５％、又は少なくとも約５０％、又は少なくとも約５５％、又は少なくとも約６０％、又は少なくとも約６５％、又は少なくとも約７０％を覆う場合があるが、それでも、所望の高い透明度、低いヘイズ値、及び十分な反射防止特性をもたらすと推測される。

マイクロ構造化表面の複数の山は、平均高さ、平均粗さ（Ｒａ）、及び平均最大表面高さ（Ｒｚ）に関連して特徴付けることもできる。

平均表面粗さ（即ち、Ｒａ）は、典型的には０．２０マイクロメートル未満である。十分なヘイズ値があるのに併せて、透明度の高い好ましい実施形態は、Ｒａが０．１５マイクロメートル以下である。いくつかの実施形態において、Ｒａは０．１４又は０．１３又は０．１２又は０．１１又は０．１０マイクロメートル未満である。Ｒａは、典型的には少なくとも０．０４又は０．０５マイクロメートルである。

平均最大表面高さ（即ち、Ｒｚ）は、典型的には３マイクロメートル未満又は２．５マイクロメートル未満である。高い透明度を十分な曇り度と共に有する好ましい実施形態は、１．２０マイクロメートル以下のＲｚを呈する。いくつかの実施形態では、Ｒｚは１．１０又は１．００マイクロメートル未満である。Ｒｚは、典型的には少なくとも０．４０又は０．５０マイクロメートルである。

マット又は反射防止フィルムの高屈折率層は典型的には、屈折率が少なくとも１．６０の重合性樹脂の反応生成物のようなポリマー材を含む。この重合性樹脂は好ましくは、表面改質ナノ粒子（好ましくは少なくとも１．６０の高屈折率を有する）を含む。様々なフリーラジカル重合性（例えば非フッ素化）モノマー、オリゴマー、ポリマー、及び、これらの混合物が高屈折率層の有機物質内で採用され得る。

例えば、単独又は組み合せの形のジルコニア（「ＺｒＯ_２」）、チタニア（「ＴｉＯ_２」）、酸化アンチモン、アルミナ、酸化スズを含む様々な高屈折率粒子が知られている。混合金属酸化物が使用されてもよい。高屈折率層で用いられるジルコニアは、ナルコケミカル社（Nalco Chemical Co.）から「ナルコ（Nalco）ＯＯＳＳＯＯ８」という商品名で、及びスイスのウッツビル（Uzwil）のビューラー社（Buhler AG）から「ビューラー（Buhler）ジルコニアＺ−ＷＯゾル」という商品名で、入手可能である。ジルコニアナノ粒子はまた、米国特許第７，２４１，４３７号及び同第６，３７６，５９０号に記載されているように調製されてもよい。

低屈折率表面層は、重合性低屈折率組成物の反応生成物を含む。このような低屈折率組成物は好ましくは、１種以上のフリーラジカル重合性フッ素化物質と、表面改質無機ナノ粒子を含む。好ましくは屈折率が低く（例えば１．５０未満）、本明細書に記載のフリーラジカル重合性フッ素化有機物質中に分散している表面改質無機ナノ粒子。金属酸化物、金属窒化物、及び金属ハロゲン化物（例えばフッ化物）のような様々な低屈折率無機粒子が知られている。低屈折率粒子としては、コロイダルシリカ、フッ化マグネシウム、及びフッ化リチウムが挙げられる。低屈折率組成物で用いられるシリカは、Ｎａｐｅｒｖｉｌｅ、ＩｌｌのＮａｌｃｏ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．から「Ｎａｌｃｏ Ｃｏｌｌｏｄｉａｌ Ｓｉｌｉｃａｓ」の商品名（１０４０、１０４２、１０５０、１０６０、２３２７、及び２３２９の製品など）で市販されている。好適なヒュームドシリカには、例えば商品名「ＡｅｒｏｓｉｌシリーズＯＸ−５０」、同じく商品番号−１３０、−１５０、及び−２００でＤｅＧｕｓｓａ ＡＧ（Ｈａｎａｕ，Ｇｅｒｍａｎｙ）から市販されている製品が挙げられる。ヒュームドシリカはまた、Ｃａｂｏｔ Ｃｏｒｐ．，Ｔｕｓｃｏｌａ，Ｉｌｌ．から商標名「ＣＡＢ−Ｏ−ＳＰＥＲＳＥ ２０９５」、「ＣＡＢ−Ｏ−ＳＰＥＲＳＥ Ａ１０５」及び「ＣＡＢ−Ｏ−ＳＩＬ Ｍ５」で市販されている。

低屈折率層及び／又は高屈折率層内の（例えば無機）ナノ粒子の濃度は、典型的には少なくとも２５重量％、又は３０重量％である。低屈折率層は典型的には、５０重量％又は４０重量％以下の無機酸化物ナノ粒子を含む。高屈折率層中の無機ナノ粒子の濃度は、典型的には少なくとも４０重量％でありかつ約６０重量％又は７０重量％以下である。

無機ナノ粒子は、好ましくは表面処理剤で処理される。シリカに対してはシランが好ましく、ケイ酸質充填剤に対しては他のものが好ましい。ジルコニアのような金属オキシドに対しては、シラン及びカルボン酸が好ましい。様々な表面処理が知られており、そのいくつかは、米国特許第２００７／０２８６９９４号に記載されている。

高屈折率（例えばジルコニア）ナノ粒子は、国際公開第２０１０／０７４８６２号（参照により本明細書に組み込まれる）に記載されているように、カルボン酸末端基及びＣ_３〜Ｃ_８エステル繰り返し単位、又は少なくとも１つのＣ_６〜Ｃ_１６エステル単位を含む化合物を含む表面処理剤で表面処理してもよい。

この化合物は、典型的には、次の一般式：

（式中、
ｎの平均は、１．１〜６であり、
Ｌ１は、Ｃ_１〜Ｃ_８のアルキル基、アリールアルキル基、又はアリール基であり、所望により１つ以上の酸素原子又はエステル基によって置換され、
Ｌ２は、Ｃ_３〜Ｃ_８のアルキル基、アリールアルキル基、又はアリール基であり、所望により１つ以上の酸素原子によって置換され、
Ｙは、

であり、
Ｚは、Ｃ_２〜Ｃ_８のアルキル基、エーテル基、エステル基、アルコキシ基、（メタ）アクリレート基、又はこれらの組み合わせを含む、末端基である。）を有する。

いくつかの実施形態では、Ｌ２はＣ６〜Ｃ８のアルキル基を含み、ｎの平均は１．５〜２．５である。Ｚは、好ましくは、Ｃ_２〜Ｃ_８のアルキル基を含む。Ｚは、（メタ）アクリレート末端基を含むことが好ましい。

カルボン酸末端基、及びＣ_３〜Ｃ_８のエステル繰り返し単位を含む表面改質剤は、ヒドロキシポリカプロラクトン（メタ）アクリレート等のヒドロキシポリカプロラクトンを、脂肪族無水物又は芳香族無水物と反応させることから誘導することができる。このヒドロキシポリカプロラクトン化合物は、典型的には、分子の分布を有する重合混合物として入手可能である。分子の少なくとも一部分は、Ｃ_３〜Ｃ_８のエステル繰り返し単位を有し、即ち、ｎは少なくとも２である。しかしながら、この混合物はまた、ｎが１である分子も含むため、ヒドロキシポリカプロラクトン化合物混合物に関するｎの平均は、１．１、１．２、１．３、１．４、又は１．５となり得る。いくつかの実施形態では、ｎの平均は、２．０、２．１、２．２、２．３、２．４、又は２．５である。

好適なヒドロキシポリカプロラクトン（メタ）アクリレート化合物は、Ｃｏｇｎｉｓより商標名「Ｐｅｍｃｕｒｅ １２Ａ」で、及びＳａｒｔｏｍｅｒより商標名「ＳＲ４９５」（３４４ｇ／モルの分子量を有すると報告されている）で市販されている。

好適な脂肪族無水物としては、例えば、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水スベリン酸、及び無水グルタル酸が挙げられる。いくつかの実施形態では、脂肪族無水物は、無水コハク酸であることが好ましい。

芳香族無水物は、比較的高い屈折率を有する（例えば、少なくとも１．５０の屈折率）。芳香族無水物から誘導されたもののような表面処理化合物を含有させることにより、重合性樹脂組成物全体の屈折率を上昇させることができる。好適な芳香族無水物としては、例えば、無水フタル酸が挙げられる。

この代わりに、又はこれに加えて、表面処理剤は、上記のような脂肪族又は芳香族無水物と、ヒドロキシル（例えば、Ｃ_２〜Ｃ_８）アルキル（メタ）アクリレートとの反応により調製される（メタ）アクリレート官能性化合物を含んでもよい。

この種類の表面改質剤の例は、コハク酸モノ−（２−アクリロイルオキシ−エチル）エステル、マレイン酸モノ−（２−アクリロイルオキシ−エチル）エステル、及びグルタル酸モノ−（２−アクリロイルオキシ−エチル）エステル、マレイン酸モノ−（４−アクリロイルオキシ−ブチル）エステル、コハク酸モノ−（４−アクリロイルオキシ−ブチル）エステル、及びグルタル酸モノ−（４−アクリロイルオキシ−ブチル）エステルである。これらの化学種は、参考として本明細書に組み込まれる、国際公開第２００８／１２１４６５号に示されている。

１つの実施形態では、低屈折率組成物は、フリーラジカル重合性フルオロポリマーを含む。

フルオロポリマーの１つのクラスは、テトラフルオロエチレン（「ＴＦＥ」）、ヘキサフルオロプロピレン（「ＨＦＰ」）、及びフッ化ビニリデン（「ＶＤＦ」、「ＶＦ２」）として知られている構成モノマーから形成されている。フルオロポリマーには少なくとも２つの構成モノマー（ＨＦＰ及びＶＤＦ）が含まれているのが好ましく、３つの全ての構成モノマーが様々なモル量で含まれていると更に好ましい。フルオロポリマーには、フリーラジカル重合性基が含まれている。これは、ハロゲン含有硬化部位モノマー（「ＣＳＭ」）、及び／又はハロゲン化末端基を含めることによって実現できる。この代わりに、又はこれに加えて、フルオロポリマーは、そのフルオロポリマーの炭素間不飽和度を十分な値（０．５〜６モルパーセント）にするいずれかの方法で脱フッ化水素化することによって、反応性を有するようにできる。

反応性ハロゲン末端基を含むフルオロポリマー鎖末端部を生成させるハロゲン化連鎖移動剤を用いることによって、ハロゲン硬化部位をポリマーマイクロ構造に導入することができる。このような連鎖移動剤（「ＣＴＡ」）は文献でよく知られており、典型例はＢｒ−ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｂｒ、ＣＦ_２Ｂｒ_２、ＣＦ_２Ｉ_２、ＣＨ_２Ｉ_２である。その他の典型例は、Ｗｅｉｓｇｅｒｂｅｒに付与された米国特許第４，０００，３５６号に見出される。脱フッ化水素化のアプローチとは対照的に、共架橋ネットワークを形成する際に硬化部位モノマーを用いる利点は、形成されるポリマー層の光学的透明度について妥協しない点であり、アクリレートとフルオロポリマーとの反応では、反応するために、ポリマー骨格の不飽和度に依存しないからである。

フルオロポリマーの別のクラスは、米国特許第７，６１５，２８３号（参照により本明細書に組み込まれる）に記載されているような超分岐構造を有するポリマー種を含む。

このポリマーは、ｉ）フッ素含有率が少なくとも２５重量％である少なくとも１種のフリーラジカル重合性多官能性物質と、ｉｉ）任意で、フッ素含有率が０〜２５重量％未満の範囲である少なくとも１種のフリーラジカル重合性多官能性物質との反応生成物であって、多官能性物質の総量が、その重合性有機組成物の固形分（重量％）に対して少なくとも約２５重量％である生成物を含む。

フルオロ（メタ）アクリレートポリマー中間体溶液は、フリーラジカル重合性未反応の出発物質、オリゴマー種、及び超分岐構造を有するポリマー種の混合を含んでいると推定される。超分岐ポリマーは、構造繰返し単位が３以上の連結性を有する任意のポリマーであると定義され、この定義は超架橋ポリマーに拡大されてもよい（大員環は存在するが、はしご型ポリマー及びスピロポリマーには拡大されない）。

低屈折率組成物を調製するために２段階のプロセスが用いられる。第１（例えば溶液）重合反応は、希釈有機溶媒条件を利用して超分岐フルオロアクリレートポリマー（例えばナノゲル）を形成する。次に、超分岐フルオロアクリレートは、実質的に１００％固形分の状態での第２（例えば光）重合反応における反応物質として利用されて、架橋された（メタ）アクリレートホストの（ナノゲル）ポリマーの相互貫入網であると推定されるフッ素化架橋系を形成する。

低屈折率層の調製の際に、様々なフリーラジカル重合性一官能性及び多官能性のフッ素化モノマー、オリゴマー、及びポリマーを用いてもよい。このような物質は一般的に、（ペル）フルオロポリエーテル部分、（ペル）フルオロアルキル部分及び（ペル）フルオロアルキレン部分と組み合わせた、フリーラジカル重合性部分を含む。これらの部類のそれぞれには、ｉ）として用いることのできる（例えば少なくとも２５質量％の）高フッ素含有率の多官能性種がある。フッ素含有率が２５重量％未満である、各クラス内の他の化学種を補助成分として用いることができる。一部の実施形態では、このような補助的なフッ素化（メタ）アクリレートモノマーによって、反応混合物内に存在している低屈折率又はその他のフッ素化物質を相溶性化するのを助けることができる。

低屈折率層及びフルオロ（メタ）アクリレートポリマーは、様々な（ペル）フルオロポリエーテル（メタ）アクリレート化合物から調製してよい。１つの好適な高フッ素含有材料は、供給元により屈折率が１．３４１であると報告されているとともに、「ＣＮ４０００」という商品名でＳａｒｔｏｍｅｒから市販されている（例えばペルフルオロポリエーテル）アクリレートオリゴマーである。低屈折率を考慮して、この物質のフッ素含有率は少なくとも約５０重量％であると考えられる。ＮＭＲ分析に基づけば、ＣＮ４０００の分子量（Ｍｎ）は約１３００ｇ／モルであり、ＣＮ４０００は、下記の一般式：
Ｒ−Ｏ−［ＣＦ_２−Ｏ］_ｗ−［ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ］_ｘ−［ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｏ］_ｙ−［ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｏ］_ｚ−Ｒ
（式中、繰り返し単位の−［ＣＦ_２−Ｏ］_ｗ−、及び−［ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ］_ｘ−は、ペルフルオロ化ポリエーテル鎖の骨格の主要繰り返し単位であり、末端基Ｒ−は主に、Ｈ_２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ（ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｏ）_ｘ−ＣＨ_２ＣＦ_２−のものである）のペルフルオロ化ポリエーテルから主になる。

本明細書に記載されているフルオロポリマー含有低屈折率組成物は好ましくは、米国特許第７，３２３，５１４号に記載されているように、少なくとも１種のアミノオルガノシランエステルカップリング剤、又はその縮合生成物を含む。好適なアミノオルガノシランエステルカップリング剤としては、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリメトキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、４−アミノブチルトリメトキシシラン、４−アミノブチルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルジメチルメトキシシラン、３−アミノプロピルジメチルエトキシシラン、２，２−ジメトキシ−１−アザ−２−シラシクロペンタン−１−エタンアミン、２，２−ジエトキシ−１−アザ−２−シラシクロペンタン−１−エタンアミン、２，２−ジエトキシ−１−アザ−２−シラシクロペンタン、２，２−ジメトキシ−１−アザ−２−シラシクロペンタン、４−アミノフェニルトリメトキシシラン、及び、３−フェニルアミノプロピルトリメトキシシランが挙げられる。１つの好適なアミノオルガノシランエステルカップリング剤は、「Ａ１１０６」という商品名で市販されている。

理論に束縛されるものではないが、アミノオルガノシランエステルカップリング剤は、低屈折率コーティング組成物の粘性を向上させ、それによって、流動に対する耐性が得られると推測される。低屈折率コーティング組成物がマイクロ構造化高屈折率の山から、その山の間の谷部又はランド層に流入すると、反射率を上昇させることができる。ヒュームドシリカも、同様に低屈折率組成物の粘性を向上させる場合がある。より分子量が高い樹脂及びより沸点が低い溶媒も、低屈折率コーティング組成物の過剰な流動に対する耐性を向上させることができる。

低屈折率組成物と、重合性高屈折率有機組成物は典型的には、少なくとも５重量％、又は１０重量％の架橋剤（すなわち、少なくとも３つのメタ（アクリレート）基を有するモノマー）を含む。低屈折率組成物中の架橋剤の濃度は、一般に約３０重量％又は２５重量％又は２０重量％以下である。高屈折率組成物中の架橋剤の濃度は、一般に約１５重量％以下である。

適切な架橋剤モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｓａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｅｘｔｏｎ，Ｐａ．から商標名「ＳＲ３５１」で市販）、エトキシル化トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｓａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｅｘｔｏｎ，Ｐａ．から商標名「ＳＲ４５４」で市販）、ペンタエリトリトールテトラアクリレート、ペンタエリトリトールトリアクリレート（Ｓａｒｔｏｍｅｒから商標名「ＳＲ４４４」で市販）、ジペンタエリトリトールペンタアクリレート（Ｓａｒｔｏｍｅｒから商標名「ＳＲ３９９」で市販）、エトキシル化ペンタエリトリトールテトラアクリレート、エトキシル化ペンタエリトリトールトリアクリレート（Ｓａｒｔｏｍｅｒから商標名「ＳＲ４９４」で市販）ジペンタエリトリトールヘキサアクリレート、及びトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート（Ｓａｒｔｏｍｅｒから商標名「ＳＲ３６８」で市販）が挙げられる。いくつかの態様では、ヒダントイン部分含有マルチ−（メタ）アクリレート化合物、例えば米国特許第４，２６２，０７２号（Ｗｅｎｄｌｉｎｇ ｅｔ ａｌ．）に記載されているものが、用いられている。

高屈折率重合性組成物は、典型的には、２つの（メタ）アクリレート基を有する少なくとも１種の芳香族（メタ）アクリレートモノマー（即ち、ジ（メタ）アクリレートモノマー）を含有する。

いくつかの実施形態において、ジ（メタ）アクリレートモノマーは、ビスフェノールＡから誘導される。１つの代表的なビスフェノールＡエトキシル化ジアクリレートモノマーは、Ｓａｒｔｏｍｅｒから商標名「ＳＲ６０２」（２０℃において粘度６１０ｃｐｓ、及びＴｇ２℃を有すると報告されている）にて市販されている。別の代表的−なビスフェノールＡエトキシル化ジアクリレートモノマーは、Ｓａｒｔｏｍｅｒから商標名「ＳＲ６０１」（２０℃において、粘度１０８０ｃｐｓ、及びＴｇ ６０℃を有すると報告されている）にて市販されている。米国特許第７，２８２，２７２号に記載されているもの等、様々な他のビスフェノールＡモノマーが当技術分野にて記載されている。

別の実施形態では、高屈折率層及びＡＲフィルムは、ビスフェノールＡから誘導されたモノマーを含まない。

好適な１種の二官能性芳香族（メタ）アクリレートモノマーは、参照により本明細書に組み込まれる米国特許第２００８／０２２１２９１号に記載されているビフェニルジ（メタ）アクリレートモノマーである。ビフェニルジ（メタ）アクリレートモノマーは、以下の一般式：

（式中、各Ｒ１は独立してＨ又はメチルであり、
各Ｒ２は独立してＢｒであり、
ｍは０〜４の範囲であり、
各Ｑは独立してＯ又はＳであり、
ｎは０〜１０の範囲であり、
Ｌは１つ以上のヒドロキシル基により所望により置換されたＣ２〜Ｃ１２アルキル基であり、
ｚは芳香環であり、及び
ｔは独立して０又は１である）を有し得る。

モノマーが２５℃において液体であるように、−Ｑ［Ｌ−Ｏ］ｎ Ｃ（Ｏ）Ｃ（Ｒ１）＝ＣＨ_２基の少なくとも一方、好ましくは両方とも、オルト又はメタ位で置換されている。

このようなビフェニルジ（メタ）アクリレートモノマーは、単独で、又は、参照により本明細書に組み込まれる国際公開第ＷＯ２００８／１１２４５２号に記載されているもの等のトリフェニルトリ（メタ）アクリレートモノマーと組み合わせて使用されてもよい。国際公開第ＷＯ２００８／１１２４５２号は、高屈折率層に好適な成分としても推定されるトリフェニルモノ（メタ）アクリレート及びジ（メタ）アクリレートも記載している。

いくつかの実施形態において、二官能性芳香族（メタ）アクリレートモノマーは、４５０ｇ／モル未満の分子量を有し、かつ少なくとも１．５０、１．５１、１．５２、１．５３、１．５４、１．５５、１．５６、１．５７又は１．５８の屈折率を有する芳香族モノ（メタ）アクリレートモノマーと組み合わされる。そのような反応性希釈剤は、典型的には、フェニル、ビフェニル、又はナフチル基を含む。更に、このような反応性希釈剤は、ハロゲン化されてもよく、又は非ハロゲン化（例えば非臭素化）されてもよい。ビフェニルモノ（メタ）アクリレートモノマー等の反応性希釈剤を含有させることにより、有機成分の屈折率の上昇、及び粘度の低減による重合性組成物の加工性の改善が、同時に可能になる。

芳香族モノ（メタ）アクリレート反応性希釈剤の濃度は、典型的には１重量％又は２重量％〜約１０重量％の範囲である。いくつかの実施形態において、高屈折率層は、９、８、７、６又は５重量％以下の反応性希釈剤を含む。過剰の反応性希釈剤が使用された場合、高屈折率層及び反射防止フィルムは、低下された鉛筆硬度を呈し得る。例えば、単官能性の反応性希釈剤の合計が約７重量％以下の場合、鉛筆硬度は典型的には約３Ｈ〜４Ｈである。しかしながら、単官能性希釈剤の合計が７重量％を越える場合、鉛筆硬度は２Ｈ以下に低下し得る。

好適な反応性希釈剤としては、例えば、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシ−２−メチルエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニルチオエチルアクリレート、２−ナフチルチオエチルアクリレート、１−ナフチルチオエチルアクリレート、２，４，６−トリブロモフェノキシエチルアクリレート、２，４−ジブロモフェノキシエチルアクリレート、２−ブロモフェノキシエチルアクリレート、１−ナフチルオキシエチルアクリレート、２−ナフチルオキシエチルアクリレート、フェノキシ−２−メチルエチルアクリレート、フェノキシエトキシエチルアクリレート、３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２，４−ジブロモ−６−ｓｅｃ−ブチルフェニルアクリレート、２，４−ジブロモ−６−イソプロピルフェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、フェニルアクリレート、２，４，６−トリブロモフェニルアクリレートが挙げられる。ペンタブロモベンジルアクリレート及びペンタブロモフェニルアクリレートなどの、他の高屈折率モノマーもまた用いることができる。

１つの好適な希釈剤は、フェノキシエチルアクリレート（ＰＥＡ）である。フェノキシエチルアクリレートは２つ以上の供給元から市販され、Ｓａｒｔｏｍｅｒから商標名「ＳＲ３３９」で、Ｅｔｅｒｎａｌ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．Ｌｔｄ．から商標名「Ｅｔｅｒｍｅｒ ２１０」で、及びＴｏａｇｏｓｅｉ Ｃｏ．Ｌｔｄから商標名「ＴＯ−１１６６」で市販されているものを含む。ベンジルアクリレートは、Ａｌｆａ Ａｅｓｅｒ Ｃｏｒｐ（Ｗａｒｄ Ｈｉｌｌ，ＭＡ）から市販されている。

光学ディスプレイ上の反射防止コーティング、又は光学ディスプレイで用いる反射防止フィルムを形成する方法は、光透過性基材層を準備する工程と、その基材層の上にマイクロ構造化高屈折率材を配置する工程と、この高屈折率層に結合させた、本明細書に記載の低屈折率層を配置する工程とを含んでよい。低屈折率層は、上記高屈折率物質の上記（例えば硬化済み）層の上に、上記低屈折率物質の層を適用するとともに、架橋するのに十分な紫外放射線を照射することによって提供してよい。あるいは、低屈折率コーティングを剥離ライナーに塗布し、少なくとも部分的に硬化させ、トランスファーコーティングしてもよい。更には、反射防止材を基材に直接塗布しても、代わりに、トランファー可能な反射防止フィルムの剥離層に塗布してから、サーマルトランスファー又は放射線誘発トランスファーを用いて剥離層から基材へトランスファーしてもよい。好適なトランスファー方法が、公開済みの米国特許出願公開第２００６／０１４７６１４号に記載されている。

従来のフィルム塗布技法を用いて、低屈折率組成物と高屈折率組成物をフィルム又はディスプレイ表面基材に直接塗布することができる。有益なことに、単一の高屈折率相の上に備わっている単一の低屈折率層によって、低い反射率と優れた耐久性という組み合わせを得ることができる。

薄いフィルムは、様々な技法、例えばディップコーティング、フォワード及びリバースロールコーティング、巻線ロッドコーティング、並びに、ダイコーティングなどを用いて適用することができる。ダイコーティング機としては、ナイフコーティング機、スロットコーティング機、スライドコーティング機、フルイドベアリングコーティング機、スライドカーテンコーティング機、ドロップダイカーテンコーティング機、及び、押出コーティング機が挙げられる。Ｅｄｗａｒｄ Ｃｏｈｅｎ及びＥｄｇａｒ Ｇｕｔｏｆｆの「Ｍｏｄｅｒｎ Ｃｏａｔｉｎｇ ａｎｄ Ｄｒｙｉｎｇ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ」（ＶＣＨ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，ＮＹ １９９２，ＩＳＢＮ ３−５２７−２８２４６−７）、並びに、Ｇｕｔｏｆｆ及びＣｏｈｅｎの「Ｃｏａｔｉｎｇ ａｎｄ Ｄｒｙｉｎｇ Ｄｅｆｅｃｔｓ：Ｔｒｏｕｂｌｅｓｈｏｏｔｉｎｇ Ｏｐｅｒａｔｉｎｇ Ｐｒｏｂｌｅｍｓ」（Ｗｉｌｅｙ Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ，ＮＹ ＩＳＢＮ ０−４７１−５９８１０−０）などの文献に、多くのタイプのダイコーティング機が記載されている。

低屈折率コーティングは典型的には、溶媒からコーティングし、高屈折率コーティングは一般に、溶媒を実質的に含まない。この代わりに、ＳｉＯ_２のような低屈折率無機コーティングは、蒸着によって塗布してよい。

低屈折率コーティング組成物は典型的には、オーブン内で乾燥させて溶媒を除去してから、例えばＨバルブ又は所望の波長で他のランプを用いて、好ましくは不活性雰囲気（酸素５０ｐｐｍ未満）内で紫外線に曝露することによって硬化させる。この反応メカニズムを通じて、フリーラジカル重合性物質を架橋させる。

マイクロ構造化高屈折率層は、例えば所望の波長でＨバルブ又は他のランプを用いて、好ましくは不活性雰囲気（酸素５０ｐｐｍ未満）内で紫外線に曝露することによって硬化させてよい。この反応メカニズムを通じて、フリーラジカル重合性物質を架橋させる。硬化したマイクロ構造化層を炉内で乾燥して、光開始剤の副生成物、又は、存在する場合、微量の溶媒を除去し得る。代替的に、より大量の溶媒を含有する重合性組成物をウェブ上に揚送し、乾燥した後、マイクロ複製及び硬化させてもよい。

通常、基材は連続ウェブのロールの形状であるのが好都合だが、個々のシートにコーティングを塗布してよい。

この基材は、基材と隣接層との間の接着を改善するために、例えば、空気又は窒素コロナ、プラズマ、火炎、又は化学線のような化学処理、コロナ処理により処理できる。所望であれば、中間層接着を増大させるため、任意の結合層又はプライマーを基材及び／又はハードコート層に適用することができる。代替的に、又はそれに加えて、プライマーを適用して干渉縞を低減し、又は静電気防止特性を提供してもよい。

様々な恒久的な及び除去可能なグレード接着剤組成物が、フィルム基材の反対側に提供されてよい。感圧接着剤を使用する実施形態については、反射防止フィルム物品は典型的には除去可能な剥離ライナーを含む。ディスプレイ表面に適用する間に、反射防止フィルム物品がこのディスプレイ表面に接着することができるように剥離ライナーを取り外す。

いくつかの実施形態では、本明細書に記載されている反射防止フィルムは、耐久性を有する。ある１つの態様では、耐久性のある反射防止フィルムは、研削材、例えばスチールウールと繰り返し接触した後の引っかき傷を防ぐ。ひどい擦傷が存在していると、反射防止フィルムのヘイズ値が向上する可能性がある。１つの実施形態では、実施例の部分で更に説明されているように、スチールウール耐久性試験に従って、３．２ｃｍのマンドレル及び２００ｇの分銅を用いてスチールウールで５回、１０回、１５回、２０回、又は、２５回拭いた後の反射防止フィルムのヘイズ値の増加は１．０％未満である。

目に見える引っかき傷に抵抗性のある表面層は、必ずしもその低い表面エネルギーを保持する必要はない。反射防止フィルムは、スチールウールのような研削材と繰り返し接触した後も、その低い表面エネルギーを維持することができる。スチールウール耐久性試験に従って、直径３．２ｃｍのマンドレル及び１０００グラムの分銅を用いて、スチールウールで５回、１０回、１５回、２０回、又は２５回拭いた後の反射防止フィルムのヘキサデカンとの前進接触角は、少なくとも４５度、５０度、又は６０度であってよい。また、直径３．２ｃｍのマンドレルと２００ｇの分銅を用いてスチールウールで１０回、５０回、１００回、２００回、又は更に３００回拭いた後の反射防止フィルムの水との静止接触角度は典型的には、少なくとも９０度、９５度、又は１００度である。

マイクロ構造化表面の特徴付け
以下の方法を用いて、原子間力顕微鏡法（ＡＦＭ）、共焦点レーザー走査顕微鏡法（ＣＳＬＭ）又は位相シフト干渉法（ＰＳＩ）により得た、山領域と、高さプロファイルにおける関心対象とを、約２００マイクロメートル×２５０マイクロメートル〜約５００マイクロメートル×６００マイクロメートルの面積に亘る範囲の面積上で、１０倍の対物レンズを有するＷｙｋｏ Ｓｕｒｆａｃｅ Ｐｒｏｆｉｌｅｒを使用することにより同定及び特徴付けた。この方法は、曲率上の閾値化と反復アルゴリズムとを使用して、選択を最適化する。単純な高さ閾値の代わりに曲率を使用することにより、谷内に存在する、関連した山を見つけ出すことが補助される。単一の連続したネットワークの選択を回避することが補助される場合がある。

高さプロファイルの解析に先だって、メディアンフィルターを使用してノイズを低減する。次いで、高さプロファイルの各地点に関して、最急傾斜の方向に平行な曲率（傾斜ベクトルに沿って）を計算した。この方向に直交する曲率も計算した。曲率は３つの地点を用いて計算し、以下のセクションに記載する。これら２方向の少なくとも一方にて正の曲率を有する範囲を同定することにより、山領域を同定する。他方の方向における曲率は、過度に負であってはならない。これを達成するために、これら２つの曲率上に閾値化を用いることにより二値画像を形成した。二値画像にいくつかの標準的な画像処理関数を適用して、二値画像を浄化した。加えて、浅すぎる山領域を除去した。

メディアンフィルターのサイズと、曲率計算に使用した地点間の距離は重要である。それらが小さすぎる場合、主な山は、山上の不完全性を原因として、より小さい領域に分割され得る。それらが大きすぎる場合、関連した山を同定し得ない。これらのサイズは、山領域のサイズ又は山間の谷領域の幅のいずれか小さい方に対応するよう設定された。しかしながら、領域サイズは、メディアンフィルターのサイズと、曲率計算用の地点間の距離とに依存する。したがって、良好な山同定をもたらす、いくつかの設定条件を満足する間隔を同定するのに反復プロセスを使用した。

傾斜及び曲率の解析
表面プロファイルデータは、表面の高さをｘ及びｙ位置の関数として与える。本発明者らは、このデータを関数Ｈ（ｘ，ｙ）として表す。画像のｘ方向は、画像の水平方向である。画像のｙ方向は、画像の垂直方向である。

ＭＡＴＬＡＢを使用して、以下を計算した。
１．傾斜ベクトル

２．傾斜（度による）分布−Ｎ_Ｇ（θ）

３．Ｆ_ＣＣ（θ）−傾斜分布の補集合的累積分布

Ｆ_ＣＣ（θ）は累積傾斜分布の補集合であり、θ以上の傾斜の割合を与える。
４．ｇ−曲率、傾斜ベクトルの方向における曲率（逆マイクロメートル）
５．ｔ−曲率、傾斜ベクトルを横断する方向における曲率（増加マイクロメートル）

曲率
図１２に示すように、傾斜計算に使用した２地点と中心地点とを使用して、１地点の曲率を計算した。この解析において、曲率は、これら３地点で形成された三角形が内接する円の半径で１を除算したものとして定義される。
曲率＝±１／Ｒ＝±２^＊ｓｉｎ（θ）／ｄ
式中、θは、三角形の、斜辺の反対側の角度であり、ｄは斜辺の長さである。曲率は、湾曲が上方に凹の場合、負であり、下方に凹の場合、正であると定義される。

曲率は、傾斜ベクトル方向に沿って（即ち、ｇ−曲率）及び傾斜ベクトルに横断する方向に沿って（即ち、ｔ−曲率）測定される。補間を用いて２つの終点を得る。

山の区分
曲率プロファイルを使用して、サンプル表面上の山に関するサイズ統計を得る。曲率プロファイルの閾値化を二値画像の生成に用いて、この二値画像は山の同定に使用される。ＭＡＴＬＡＢを使用して、各画素に以下の閾値化を適用して、山の同定のための二値画像を生成した。
ｍａｘ（ｇ−曲率、ｔ−曲率）＞ｃ０ｍａｘ
ｍｉｎ（ｇ−曲率、ｔ−曲率）＞ｃ０ｍｉｎ
式中、ｃ０ｍａｘ及びｃ０ｍｉｎは、曲率のカットオフ値である。典型的には、ｃ０ｍａｘ及びｃ０ｍｉｎは、以下のように指定される。
ｃ０ｍａｘ＝２ｓｉｎ（ｑ_０）Ｎ_０／ｆｏｖ （ｑ_０及びＮ_０は、固定パラメータである）
ｃ０ｍｉｎ＝−ｃ０ｍａｘ
ｑ_０は、有意である最小の傾斜（度による）の推定値でなければならない。Ｎ_０は、視野の最長寸法にわたって存在するのが望ましい山領域の最小数の推定値でなければならない。ｆｏｖは、視野の最長寸法の長さである。

画像処理ツールボックスを有するＭＡＴＬＡＢを使用して、高さプロファイルを解析し、山統計を生成した。以下の連続は、山領域の特徴付けに使用したＭＡＴＬＡＢコードの工程の概略を提供する。

１．画素数が＞＝１００１^＊１００１の場合、画素数を減少させる
−ｎｓｋｉｐ＝ｆｉｘ（ｎａ^＊ｎｂ／１００１／１００１）＋１を計算する
・元の画像のサイズはｎａ×ｎｂピクセルである。
−ｎｓｋｉｐ＞１の場合、（２^＊ｆｉｘ（ｎｓｋｉｐ／２）＋１）×（２^＊ｆｉｘ（ｎｓｋｉｐ／２）＋１）メディアン平均を実行する
・ｆｉｘは、端数を切り捨てて一番近似の整数とする関数である。
−全部のｎｓｋｉｐ画素を各方向に保つ新しい画像を形成する（例えば、ｎｓｋｉｐ＝３の場合、行及び列１、４、８、１１．．．を保つ）

２．ｒ＝ｒｏｕｎｄ（Δｘ／ｐｉｘ）
−Δｘは、傾斜の計算で使用する刻み幅である。
−ｐｉｘは画素サイズである。
−ｒは、画素の最近整数に四捨五入されたΔｘである。
−Δｘの初期値は、ｆｆｏｖ^＊ｆｏｖに等しいように選択される。
・ｆｆｏｖは、プログラムを実行する前にユーザが選択するパラメータである。

３．ｒｏｕｎｄ（ｆ_ＭＸ ^＊ｒ）Ｘ ｒｏｕｎｄ（ｆ_ＭＹ ^＊ｒ）画素のウィンドウサイズを用いて、メディアン平均を実行する。
−領域が配向されている場合、メディアン平均は、以下に定義する一般的な領域のアスペクト比（Ｗ／Ｌ）に近いアスペクト比を有するウィンドウにより行われる。ウィンドウのアスペクト比は、既定値ｒｍ＿ａｓｐｅｃｔ＿ｍｉｎを下回ってはならない。
・領域が配向されている場合、高さプロファイリングは、この配向がｘ軸又はｙ軸に沿うよう整合されたサンプルを用いて行う必要があることに留意する。
−この解析において、領域は、
・領域の平均配向角度（領域面積で加重されたもの）が１５度未満、又は７５度超である場合、配向されているとみなされる。
１．配向角度は、領域に関連した楕円の長軸がｙ軸と形成する角度として定義する。
・この配向角度の標準偏差は、２５度未満である。
・カバレージは１０％超である。
−これが第１のｒｏｕｎｄであるか又は領域が配向されていない場合、
・ｆ_ＭＸ及びｆ_ＭＹをｆ_Ｍに等しく設定し、
−配向がｙ軸に沿っている場合、
・ｆ_ＭＸ＝ｒｏｕｎｄ（ｆ_Ｍ ^＊ｒ^＊ｓｑｒｔ（ａｓｐｅｃｔ））
・ｆ_ＭＹ＝ｒｏｕｎｄ（ｆ_Ｍ ^＊ｒ／ｓｑｒｔ（ａｓｐｅｃｔ））
−配向がｘ軸に沿っている場合、
・ｆ_ＭＸ＝ｒｏｕｎｄ（ｆ_Ｍ ^＊ｒ／ｓｑｒｔ（ａｓｐｅｃｔ））
・ｆ_ＭＹ＝ｒｏｕｎｄ（ｆ_Ｍ ^＊ｒ^＊ｓｑｒｔ（ａｓｐｅｃｔ））
−ａｓｐｅｃｔ＝領域面積により重み付けされた平均アスペクト比
・これがｒｍ＿ａｓｐｅｃｔ＿ｍｉｎ未満の場合、ｒｍ＿ａｓｐｅｃｔ＿ｍｉｎに等しく設定される。
−ｆ_Ｍは、プログラムを実行する前に選択される固定パラメータである。

４．傾きを除去する。
−プロファイル全域にて、全方向における平均傾斜を効果的にゼロに等しくする。

５．前述したように傾斜プロファイルを計算する。

６．傾斜ベクトルに平行な方向（ｇ−曲率）及び傾斜ベクトルを横断する方向（ｔ−曲率）における曲率プロファイルを計算する。

７．上述した曲率閾値化を用いて、二値画像を形成する。

８．二値画像を収縮処理する。
−画像が収縮処理された回数をｒｏｕｎｄ（ｒ^＊ｆ_Ｅ）に等しくセットする。
−ｆ_Ｅは、プログラムの開始前に選択される固定パラメータ（典型的には≦１）である。
−これは細線によって接続されている個別領域を分離し、小さすぎる領域を排除することを補助する。

９．画像を膨張処理する。
−画像が膨張処理される回数は、典型的には、画像が収縮処理される回数と同一であるよう選択される。

１０．画像を更に膨張処理する。
−このｒｏｕｎｄでは、画像は収縮処理される前に膨張処理される。
−行き止まり（cul-de-sacs）の除去、エッジの丸め、及び互いに非常に近接した領域の組み合わせを補助する。

１１．画像を収縮処理する。
−画像が収縮処理される回数は、典型的には、直前の工程で画像が膨張処理された回数と同一であるよう選択される。

１２．画像のエッジに近すぎる領域を排除する。
−一般的には、領域の任意の部分がエッジの（ｎｅｒｏｄｅ＋２）以内である場合、近すぎると判断され、ｎｅｒｏｄｅは、工程９にて画像が収縮処理された回数である。
−これは、視野内に部分的にのみ存在する領域を排除する。

１３．各領域内の任意の穴を満たす。

１４．ＥＣＤ（等価円直径）＜２ｓｉｎ（ｑ_０）Ｎ_０／ｆｏｖを有する領域を排除する。
−ｑ_０及びＮ_０は、曲率カットオフ計算に使用されるパラメータである。
−これは、半径Ｒの半球と比較して小さい領域を排除する。
−これらの領域は、領域内にｑ_０未満の傾斜のバリエーションを有する可能性がある。
−これに代わって考慮される他のフィルターは、カットオフ値未満の標準偏差を傾斜内に有する領域を排除することである。

１５．次いで、ｒに関する新しい値を計算する。
−同定された山の数がゼロと等しい場合、ｒを２減らし、端数を切り上げる。
・工程４に進む
−新しいｒ＝ｒｏｕｎｄ（ｆ_Ｗ ^＊Ｌ_０）
・ｆ_Ｗは、プログラムの開始前に選択される固定パラメータ（典型的には≦１）である。
・Ｌ_０は、表Ａ１に定義されている長さである。
−新しいｒがｒ_ＭＩＮ未満の場合、ｒ_ＭＩＮと等しくセットする
−新しいｒがｒ_ＭＡＸを越える場合、ｒ_ＭＡＸと等しくセットする
−ｒが不変又は繰り返される場合、これが選択されるＲの値である。工程１７に進む。
−カバレージが因数Ｋｃ若しくはそれ以上低下した場合、又は領域の数が因数Ｋｎ若しくはそれ以上増加した場合、ｒの以前の値が選択される。工程１７に進む。
−ｒの値が選択されない場合、工程４に進む。

１６．選択されたｒに関して、同定された各領域に関して以下の寸法を計算する。
−ＥＣＤ、Ｌ、Ｗ及びアスペクト比。

１７．各寸法に関して平均及び標準偏差を計算する。

１８．カバレージ及びＮＮ（表Ａ２）を計算する。

寸法は、２つの高さプロファイルを平均した。

典型的なパラメータ設定は、以下の通りであった。

これらのパラメータ設定は、主構造（副構造ではなく）が同定されることを確実にするよう調整され得る。

高さ度数分布
高さデータから最小の高さ値を減算したため、最小高さはゼロである。高さ度数分布は、ヒストグラムを形成することにより生成される。この分布の平均は、平均高さと称される。

粗さの評価基準
Ｒａ−測定されたアレイ全体に亘って計算された平均粗さ。

式中、Ｚ_ｊｋ＝ゼロ平均の除去後の各画素の高さ。

Ｒｚは、評価範囲内の１０個の最大の山〜谷分離の平均最大表面高さである。

式中、Ｈは山高さであり、Ｌは谷高さであり、Ｈ及びＬは、共通の基準面を有する。

補集合的累積傾斜分布に関して報告されたそれぞれの値、山寸法、及び粗さは、２つの範囲の平均に基づいていた。典型的な１７”（４３．２ｃｍ）コンピュータディスプレイのような大きいフィルムの場合、典型的には、無作為に選択された５〜１０個の範囲の平均を使用した。

高屈折率ハードコート組成物
ビフェニルジアクリレート−２，２’−ジエトキシビフェニルジアクリレート（ＤＥＢＰＤＡ）の合成−温度プローブ、窒素パージ管、オーバーヘッドスターラー、及び加熱マントルを装備した１２０００ｍｌの４つ口樹脂ヘッド丸底フラスコに、２，２’−ビフェノール（１４１５ｇ、７．６モル、１．０当量）、フッ化カリウム（１１．８ｇ、０．２モル、０．０２７当量）、炭酸エチレン（１４１５ｇ、１６．１モル、２．１１当量）を加え、１５５℃に加熱した。４．５時間後、ＧＣ分析は、０％の出発物質、０％のモノエトキシル化及び９４％の生成物を示した。８０℃に冷却し、トルエン５．４リットルを加え、脱イオン水２．５リットルを加え、１５分間混合し、相分離させた。水を除去し、再び脱イオン水２．５リットルで洗浄し、相分離させ、水を除去し、溶液を蒸留して、残留水及びトルエンほぼ１．８リットルを除去した。溶液を５０℃に冷却し、シクロヘキサン１．８リットルを加え、ＣＩＢＡ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ ＣｈｅｍｉｃａｌｓからＰｒｏｓｔａｂ ５１９８という商品名で得た４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシ（通常４−ヒドロキシＴＥＭＰＯと称される）（０．５２ｇ、０．００３モル、０．０００４４当量）、フェノチアジン（０．５２ｇ、０．００２６モル、０．０００３８当量）、アクリル酸（１０８９．４ｇ、１５．１２モル、２．２当量）、メタンスルホン酸（３６．３ｇ、０．３８モル、０．０５５当量）を加え、加熱還流した（ポット温度は、９２〜９５Ｃであった）。フラスコにディーン・スターク・トラップを装備して、水を収集した。１８時間後、ＧＣ分析は８％のモノアクリレート中間体を示した。追加のアクリル酸８ｇを加え、更に６時間、合計で２４時間還流を継続した。２４時間後、ＧＣ分析は３％のモノアクリレート中間体を示した。この反応物を５０℃に冷却し、７％の炭酸ナトリウム２３５６ｍＬで処理し、３０分間撹拌し、相分離させ、水性物を除去し、ＤＩ水２３５６ｍＬで再び洗浄し、相分離させ、水性物を除去した。トルエン／シクロヘキサン溶液（桃色〜赤色）に４−ヒドロキシＴＥＭＰＯ（０．５２ｇ、０．００３モル、０．０００４４当量）、フェノチアジン（０．５２ｇ、０．００２６モル、０．０００３８当量）、アルミニウムｎ−ニトロソフェニルヒドロキシアミン（０．５２ｇ、０．００１２モル、０．０００１７当量）を加え、真空濃縮して、約５０００ｍＬの溶液にした。セライトパッドで濾過し、濾液をエアパージにより５０℃にて１２トール（１．５９ｋＰａ）の真空で３時間真空濃縮した。得られた黄色〜茶色油をロールフィルム蒸発器上で蒸留することにより更に精製する。蒸留の条件は、１５５℃でバレルを加熱、５０℃のコンデンサ、及び１〜５ミリトール（０．１３〜０．３７ｋＰａ）であった。回収した収量は２４６７ｇ（理論値の８５％）であり、純度はほぼ９０％ ＤＥＢＰＤＡであった。

トリフェニルトリアクリレート１，１，１−トリス（４−アクリロイルオキシエトキシフェニル）エタン（ＴＡＥＰＥ）の合成
温度プローブ、オーバーヘッドスターラー、及び加熱マントルを装備した１０００ｍｌの３つ口丸底フラスコに、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン（２００ｇ、０．６５モル、１．０当量）、フッ化カリウム（０．５ｇ、０．００８６モル、０．０１３当量）、炭酸エチレン（１７５ｇ、２．０モル、３．０５当量）を加え、１６５℃に加熱した。５時間後、ＧＣ分析は、０％の出発物質、０％のモノエトキシル化、２％のジエトキシル化、及び９５％の生成物を示した。１００℃に冷却し、トルエン７５０ｍＬを加え、３０００ｍＬの３つ口丸底フラスコに移し、更にトルエン７５０ｍＬを加えた。溶液を５０℃に冷却し、４−ヒドロキシＴＥＭＰＯ（０．２ｇ、０．００１１６モル、０．００１７８当量）、アクリル酸（１５５ｇ、２．１５モル、３．３当量）、メタンスルホン酸（１０．２ｇ、０．１モル、０．１６２当量）を加え、加熱還流した。フラスコにディーン・スターク・トラップを装備して、水を収集した。６時間後、ＧＣ分析は、７％のジアクリレート中間体と、８５％の生成物とを示した。反応物を５０℃に冷却し、７％の炭酸ナトリウム４００ｍＬで処理し、３０分間撹拌し、相分離させ、水性物を除去し、２０％の塩化ナトリウム水４００ｍＬで再び洗浄し、相分離させ、水性物を除去した。有機物をメタノール４０００ｍＬで希釈し、直径３インチ×５インチ（７．６２ｃｍ×１２．７ｃｍ）のシリカゲルパッド（２５０〜４００メッシュ）で濾過し、濾液をエアパージにより５０℃にて１２トール（１．５９ｋＰａ）の真空で３時間真空濃縮した。茶色油３３２ｇ（理論値の８５％）を回収し、純度はほぼ８５％ ＴＡＥＰＥであった。

ジルコニアゾルの調製
実施例で使用したＺｒＯ_２ゾルは、以下の特性を有していた（米国特許第７，２４１，４３７号に記載の方法に従って測定）。

ＨＥＡＳ／ＤＣＬＡ表面改質剤の調製
三首丸底フラスコに、温度プローブ、機械的攪拌器、及びコンデンサを取り付ける。このフラスコに、以下の試薬を投入する：無水コハク酸８３．５ｇ、Ｐｒｏｓｔａｂ ５１９８阻害剤０．０４ｇ、トリエチルアミン０．５ｇ、２−ヒドロキシエチルアクリレート８７．２ｇ、及びＳａｒｔｏｍｅｒによる、商標名「ＳＲ４９５」のヒドロキシ−ポリカプロラクトンアクリレート（ｎの平均は約２）２８．７ｇ。このフラスコを中程度の攪拌で混合し、８０℃まで加熱して、約６時間保持する。４０℃に冷却した後、１−メトキシ−２−プロパノール２００ｇを加え、このフラスコを１時間混合した。この反応混合物は、赤外線ガスクロマトグラフィー分析によって、無水コハク酸と２−ヒドロキシエチルアクリレート（すなわちＨＥＡＳ）との反応生成物と、無水コハク酸とヒドロキシ−ポリカプロラクトンアクリレート（すなわちＤＣＬＡ）との反応生成物との重量比８１．５／１８．５の混合物であることが分かった。

ＨＥＡＳ表面改質剤−は、無水コハク酸と２−ヒドロキシエチルアクリレートとの反応により生成された。

ＨＩＨＣ １の調製
ジルコニアゾル（１０００ｇ ＠ ４５．３％固体）及び１−メトキシ−２−プロパノール４７６．４ｇを、５Ｌの丸底フラスコに投入した。フラスコを真空蒸留用に構成し、撹拌機、温度プローブ、ｔｈｅｒｍ−ｏ−ｗａｔｃｈコントローラに取り付けた加熱マントルを装備した。ジルコニアゾル及びメトキシプロパノールを５０℃に加熱した。ＨＥＡＳ／ＤＣＬＡ表面改質剤（１−メトキシ−２−プロパノール中、２３３．５ｇ ＠固形分５０％、ＨＥＡＳ／ＤＣＬＡの重量比８１．５／１８．５）、ＤＥＢＰＤＡ（１２０．５ｇ）、日本のＴｏａｇｏｓｅｉ Ｃｏ．Ｌｔｄ．から市販されている２−フェニル−フェニルアクリレート（ＨＢＰＡ）（エチルアセテート中、５０．２ｇ＠固形分４６％）、Ｓａｒｔｏｍｅｒから「ＳＲ ３５１ ＬＶ」という商品名で入手可能な低粘性トリメチロールプロパントリアクリレート（８５．３ｇ）、及び「ＰｒｏＳｔａｂ ５１９８」（０．１７ｇ）を別々に、混合しながらフラスコに入れた。Ｔｈｅｒｍ−ｏ−ｗａｔｃｈを８０℃及び８０％出力に設定した。バッチ温度が８０℃に達するまで、水及び溶媒を真空蒸留により除去した。このプロセスを６回繰り返した後、真空蒸留用に構成し、かつ加熱マントル、温度プローブ／熱電対、温度コントローラ、撹拌機、及び水蒸気を液体組成物中に組み込むための鋼管を装備した１２Ｌの丸底フラスコ内で６個のバッチ全部を組み合わせた。この液体組成物を８０℃に加熱し、その時点で８００ｍＬ／時間の速度で水蒸気流を真空下で液体組成物中に導入した。蒸気流を用いた真空蒸留を６時間継続し、その後、蒸気流を停止した。このバッチを８０℃で更に６０分間真空蒸留した。次いで、エアパージを用いて真空を中断した。光開始剤（１７．７ｇ、「Ｄａｒｏｃｕｒｅ ４２６５」、ジフェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−ホスフィンオキシドと２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−１−プロパノンとの５０：５０混合物）を入れ、３０分間混合した。得られた生成物は、１．６２８８の屈折率を有する、アクリレートモノマー中のほぼ６８％の表面改質ジルコニア酸化物であった。

ＨＩＨＣ ２の調製
ジルコニアゾル（５０００ｇ ＠ ４５．３％固体）及び１−メトキシ−２−プロパノール２４３３ｇを１２Ｌの丸底フラスコに投入した。フラスコを真空蒸留用に構成し、加熱マントル、温度プローブ／熱電対、温度コントローラ、撹拌機、及び水蒸気を液体組成物中に組み込むための鋼管を装備した。ジルコニアゾル及びメトキシプロパノールを５０℃に加熱した。ＨＥＡＳ表面改質剤（１０５６ｇ＠１−メトキシ−２−プロパノール中５０％固体、ＤＥＢＰＤＡ（４５４．５ｇ）、ＨＢＰＡ（１９７ｇ ＠酢酸エチル中４６％固体）、ＳＲ ３５１ ＬＶ（３１７．１ｇ）及びＰｒｏＳｔａｂ ５１９８（０．６９ｇ）を混合しながら個別にフラスコに投入した。温度コントローラを８０℃で設定した。バッチ温度が８０℃に達するまで、水及び溶媒を真空蒸留により除去し、この時点で８００ｍＬ／時間の速度で水蒸気流を真空下で液体組成物中に導入した。蒸気流を用いた真空蒸留を６時間継続し、その後、蒸気流を停止し、バッチを８０℃で更に６０分間真空蒸留した。次いで、エアパージを用いて真空を中断した。光開始剤（Ｄａｒｏｃｕｒｅ ４２６５ ８７．３ｇ）を投入し、３０分間混合した。得られた生成物は、以下の性質を有する、アクリレートモノマー中のほぼ７３％の表面改質ジルコニア酸化物であった。

高屈折率ハードコートコーティング組成物３〜９は、ＨＩＨＣ １及びＨＩＨＣ ２と同一の方法で調製した。高屈折率ハードコートのそれぞれの成分の（重量％固体）は、以下の通りであった。

ＳＲ６０１−ビスフェノール−Ａエトキシル化ジアクリレートモノマーの商標名は、Ｓａｒｔｏｍｅｒから市販されている通りである（２０℃で１０８０ｃｐｓの粘度、及び６０℃のＴｇを有すると報告されている）。

Ｄａｒｏｃｕｒｅ １１７３−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン光開始剤、Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓから市販されている。

ＳＲ３９９−Ｓａｒｔｏｍｅｒから市販されているジペンタエリトリトールペンタアクリレートの商標名

マイクロ構造化高屈折率ハードコートの調製。
実施例Ｈ１、Ｈ２、Ｈ３、Ｈ２Ｂ、Ｈ２Ｃ−１６０°Ｆ（７１℃）でホットプレート上に配置することによって予熱した矩形のマイクロ複製工具（幅４インチ（１０．２ｃｍ）、長さ２４インチ（６１．０ｃｍ））を使用して、ハンドスプレッドコーティングを作製した。米国Ｎｏｒｔｈｂｒｏｏｋ、ＩＬのＧｅｎｅｒａｌ Ｂｉｎｄｉｎｇ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（ＧＢＣ）製の「Ｃａｔｅｎａ ３５」モデルラミネーターを１６０°Ｆ（７１℃）に予熱した（速度５、積層圧「ヘビーゲージ」に設定）。高屈折率ハードコートを６０℃のオーブン内で予熱し、Ｆｕｓｉｏｎ ＳｙｓｔｅｍｓのＵＶプロセッサのスイッチを入れ、ウォームアップした（６０ｆｐｍ（０．３０ｍ／ｓ）、１００％出力、６００ワット／インチ（２３６．２ワット／ｃｍ）Ｄバルブ、二色性反射体）。ポリエステルフィルムのサンプルを工具の長さ（約２フィート（０．６１ｍ））に切った。高屈折率ハードコートを、プラスチックの使い捨てピペットを用いて工具の末端部に適用し、４ｍｉｌ（０．１０ｍｍ）（Ｍｉｔｓｕｂｉｓｈｉ Ｏ３２１Ｅ１００Ｗ７６）の下塗りポリエステルをビーズ及び工具上に配置し、ポリエステルを有する工具をラミネータに通して、工具の陥没部が高屈折率ハードコート組成物で満たされるようにコーティングをざっと工具上に拡げた。サンプルをＵＶプロセッサベルト上に配置し、ＵＶ重合により硬化させた。得られた硬化コーティングは、ほぼ３〜６マイクロメートルの厚さを有した。

ウェブコーターを使用して、４ｍｉｌ（０．１０ｍｍ）ＰＥＴ基材上に他の高屈折率ハードコートコーティング（幅１８インチ（４５．７ｃｍ））を適用した。Ｈ１０Ａ及びＨ１０Ｂを除く他の高屈折率ハードコートコーティングを、Ｍｉｔｓｕｂｉｓｈｉから「４ｍｉｌ（０．１０ｍｍ）Ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ ｆｉｌｍ ０３２１ Ｅ１００Ｗ７６」という商品名で入手可能な下塗りＰＥＴに、工具温度１７０°Ｆ（７７℃）、ダイ温度１６０°Ｆ（７１℃）、及び高屈折率ハードコートコーティング温度１６０°Ｆ（７１℃）で塗布した。３Ｍから「ＳｃｏｔｃｈＰａｒ」という商品名で入手可能な４ｍｉｌ（０．１０ｍｍ）の非下塗りポリエステルフィルムであって、０．７５ＭＪ／ｃｍ^２にコロナ処理したポリエステルフィルムに、高屈折率ハードコートコーティングＨ１０Ａ及びＨ１０Ｂを、工具温度１８０°Ｆ（８２℃）、Ｈ１０Ａの場合ダイ温度１７０°Ｆ（７７℃℃）、Ｈ１０Ｂの場合ダイ温度１８０°Ｆ（８２℃）、及び高屈折率ハードコートコーティング温度１８０°Ｆ（８２℃）で塗布した。また、コーティングの前に、基材を約１５０〜１８０°Ｆ（６６〜８２℃）に設定したＩＲヒーターで加熱した。高屈折率ハードコートコーティングは、工具と、ニップされたフィルムとの間に樹脂の回転バンクを生成することにより流し塗布された。コーティングを、Ｄバルブ及び二色性反射体により５０〜１００％出力でＵＶ硬化させた。得られた硬化コーティングは、ほぼ３〜６マイクロメートルの厚さを有した。更なるプロセス条件は、以下の表に含まれる。

マイクロ構造化高屈折率ハードコートサンプルの透明度、曇り度、及び補集合的累積傾斜分布を、以前に表１に記載したように特徴付けた。マイクロ構造化表面の山の寸法も、以前に表２に記載したように特徴付けた。

低屈折率組成物
米国特許出願公開第２００７／０２８６９９４ Ａ１号、０１１７項に記載されているように、表面改質ＳｉＯ_２ナノ粒子（ＨＭＤＳ／Ａ１７４）シリカを調製した。

Ｌ１成分は、テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）とビニリレンフルオリド（ＶＤＦ）とヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）とのフリーラジカル重合性非晶質ターポリマー、並びに、フッ素含有率が７０重量％で、Ｏａｋｄａｌｅ、ＭＮのＤｙｎｅｏｎ ＬＬＣから「Ｄｙｎｅｏｎ ＦＰＯ３７４０」として入手可能なＢｒ及びＩ含有硬化部位モノマー（固形分３９．４１重量％）を攪拌しながら、ある量のＭＥＫに加えて、５重量％溶液を得ることによって作製した。続いて、攪拌しながら追加のＭＥＫを加え、ＦＰＯ３７４０の濃度を３％に更に希釈した。次に、ＨＭＤＳ／Ａ１７４シリカ（固形分３４．３８重量％）のＭＥＫ中１９．９％（重量％）ブレンドを攪拌しながらＦＰＯ３７４０／ＭＥＫブレンドに加えた。次に、Ｓａｒｔｏｍｅｒから「ＳＲ３９９」として入手可能なジペンタエリトリトールペンタアクリレート２０％（重量％）溶液をＭＥＫと混合したものをＦＰＯ／ＭＥＫ／ＨＭＤＳシリカ混合物に加えた。最後に、更なる少量のＭＥＫを加えて、総固形分を７％（重量％）まで希釈した。この溶液に、「Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＢ１」（Ｇａｌｌａｒａｔｅ、イタリア）（固形分１．４８重量％）という商品名で入手可能なある量のベンジルジメチルケタール光開始剤をＭＥＫに１０％（重量％）で事前に希釈したものを加えた。更なるＭＥＫを加えて、固形分率を更に４％まで低下させた。

国際公開第２００７／１４６５０９ Ａ１号に記載されているように、下記の構成成分を用いて超分岐フルオロアクリレート（ＦＰＡ）を調製した。

国際公開第２００７／１４６５０９ Ａ１号、４３ページ、１０行目に記載されているように、トリ８Ｆ ＨＤＤＡマイケル付加体２を調製した。

Ｌ２成分−エチルアセテートに１０％（重量％）で事前に溶解させたＳａｒｔｏｍｅｒ ＣＮ４０００を混合ベッセルに加えることによって作製した。続いて、エチルアセテートに５％（重量％）で事前に溶解させた超分岐フルオロアクリレート（ＦＰＡ）、ＭＥＫに１０％（重量％）で事前に溶解させたＳａｒｔｏｍｅｒ ＳＲ３９９、ブチルアセテートに５％（重量％）で事前に溶解させたトリ−８Ｆ ＨＤＤＡという成分を該混合ベッセルに加えた。次に、メチルイソブチルケトンに３３．５％（重量％）で事前に分散させたＨＭＤＳ／Ａ１７４シリカ（固形分３０．５重量％）を加えた。光開始剤（「Ｌａｍｂｅｒｔｉ Ｅｓａｃｕｒｅ Ｏｎｅ」として入手可能なオリゴ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパン）（ＭＥＫに１０％で事前に溶解させた固形分３重量％）を上記の混合ベッセルに加えた。最後に、更なる溶媒を上記調合物に加えて、固形分を４％にした。この組成物（すなわち硬化済み組成物）と、コーティング組成物中に用いる溶媒の固形分の重量％は、下記の表に示されている。

下記の表に示されているように、Ｌ１、Ｌ２、Ａ１１０６、及び「Ｃａｂ−Ｏ−Ｓｉｌ ＴＳ５３０」として入手可能なヒュームドシリカから各種ブレンドを作製した。

Ｌ８及びＬ９は、ＭＥＫに１０％（重量％）の濃度で事前に溶解させたＤｙｎｅｏｎ ＦＰＯ３７４０を混合ベッセルに加えることによって作製した。続いて、このＦＰＯ３７４０をＭＥＫ及びＭＩＢＫで更に希釈した。この混合物に、エチルアセテートに１０％（重量％）で事前に溶解させたＳａｒｔｏｍｅｒ ＣＮ４０００と、エチルアセテートに５％（重量％）で事前に溶解させたＦＰＡ３７を上記の混合ベッセルに加える。次に、メチルイソブチルケトンに３３．５％（重量％）で事前に分散させたＨＭＤＳ／Ａ１７４シリカと、そのままの形のＳａｔｒｏｍｅｒ ＳＲ４９４を該混合ベッセルに加える。最後に、ＭＥＫに１０％（重量％）で事前に溶解させたＬａｍｂｅｒｔｉ Ｅｓａｃｕｒｅ Ｏｎｅを該混合ベッセルに加える。Ｌ８及びＬ９のものとして列挙されている各成分は、下記の表に記載されている順番かつ濃度で加える。

低屈折率組成物が、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン（「Ａ１１０６」という商品名で、Ｗｉｌｔｏｎ、ＣＴのＭｏｍｅｎｔｉｖｅ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓから入手可能）のオリゴマー化生成物も含んでいたときには、メタノールに２５％（重量％）で事前に希釈したこの成分をコーティングの直前、又はコーティングの最長２４時間前に、上記の調合物に攪拌しながらゆっくり加えた。更なるＭＥＫを加えて、コーティングに備えて固形分（％）を４％に低下させた。各低屈折率コーティング組成物において、更なるＭＥＫを加えて、各コーティング組成物の固形分が４重量％になるようにした。

低屈折率組成物のマイクロ構造化高屈折率ハードコートへの塗布
各反射防止層「Ｆ」を称号数字の同じマイクロ構造化高屈折率層「Ｈ」から調製した。すなわち、Ｆ１は、低屈折率層を更に含むＨ１から調製した。同様に、Ｆ１１は、低屈折率層を更に含むＨ１１から調製した。

Ｆ１、Ｆ２Ａ１、Ｆ２Ａ２、Ｆ３、Ｆ１０Ａ、Ｆ２Ｂ、及びＦ２Ｃ−事前に調製し硬化させたそれぞれのマイクロ複製高屈折率ハードコートの６インチ×１２インチ（１５．２ｃｍ×３０．５ｃｍ）のサンプルの一端に、低屈折率コーティングのビードを使い捨てピペットで塗布することによって、ハンドスプレッドコーティング（幅４インチ（１０．２ｃｍ））を作製し、Ｗｅｂｓｔｅｒの４号の巻線ロッド（メイヤーバー）をビード、フィルムの長さ全体に張り渡して、マイクロ構造化高屈折率ハードコート上に均一な湿潤コーティングを作製した。全ての低屈折率調合物をオーブン内で乾燥させ（１分、６０℃）、Ｆｕｓｉｏｎ ＳｙｓｔｅｍｓのＵＶプロセッサー（窒素パージ、６００ワット／インチ（２３６．２Ｗ／ｃｍ）Ｈバルブ、１００％出力）にて３０ｆｐｍ（０．１５ｍ／秒）（２パス）で硬化させたところ、約１００ｎｍの乾燥低屈折率コーティングを得た。

ウェブコーターを用いて、シリンジポンプ又は圧力ポットのいずれかを使用して、毎分３０フィート（０．１５ｍ／秒）のウェブ速度で別の低屈折率調合物を塗布した。圧力ポットを使用するときには、溶液をダイの前にフィルター（０．５マイクロメートル）に通した。続いて、ポリエステル基材上の硬化済み高屈折率コーティング上に、このコーティングを塗布し、約１２０°Ｆ（４９℃）に設定したオーブンに約１分通すことによって乾燥させた。次いで、Ｈバルブ、アルミニウム反射体を備えたＵＶシステム１００％出力、窒素下（酸素＜５０ｐｐｍ）で、このコーティングを硬化させた。更なるプロセス条件は、下記の表に示されている。

得られた硬化済み低屈折率層の厚みは約９０〜１００ナノメートルであった。

得られた硬化済み低屈折率層の厚みは約９０〜１００ナノメートルであった。
本出願では、以下の態様が提供される。
１． 高屈折率層と、前記高屈折率層の上に配置された低屈折率表面層とを含む反射防止フィルムであって、その少なくとも３０％が少なくとも０．７度の傾斜規模であり、少なくとも２５％が１．３度未満の傾斜規模であるような補集合的累積傾斜規模分布を有する複数のマイクロ構造を前記低屈折率層が含み、前記反射防止フィルムが、埋め込まれたマット粒子を含まない、反射防止フィルム。
２． 高屈折率層と、前記高屈折率層の上に配置された低屈折率表面層とを含む反射防止フィルムであって、その少なくとも２５％が少なくとも０．７度の傾斜規模であり、少なくとも４０％が１．３度未満の傾斜規模であるような補集合的累積傾斜規模分布を有する複数のマイクロ構造を前記低屈折率層が含み、前記マイクロ構造の５０％以下が組み込まれたマット粒子を含む、反射防止フィルム。
３． 前記マイクロ構造の少なくとも３０％が、１．３度未満の傾斜規模を有する、態様１に記載のマットフィルム。
４． 前記マイクロ構造の少なくとも３５％が、１．３度未満の傾斜規模を有する、態様１に記載のマットフィルム。
５． 前記マイクロ構造の少なくとも４０％が、１．３度未満の傾斜規模を有する、態様１に記載のマットフィルム。
６． 前記マイクロ構造の１５％未満が４．１度以上の傾斜規模である、態様１〜５のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
７． 前記マイクロ構造の５％未満が４．１度以上の傾斜規模である、態様１〜５のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
８． 前記マイクロ構造の少なくとも７５％が少なくとも０．３度の傾斜規模である、態様１〜５のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
９． 前記表面層が、平均等価円直径が少なくとも５マイクロメートルである山を含む、態様１〜８のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
１０． 前記平均等価円直径が少なくとも１０マイクロメートルである、態様９に記載の反射防止フィルム。
１１． 前記平均等価円直径が３０マイクロメートル未満である、態様９又は１０に記載の反射防止フィルム。
１２． 前記平均等価円直径が２５マイクロメートル未満である、態様９又は１０に記載の反射防止フィルム。
１３． 前記マイクロ構造化表面が、平均の長さが少なくとも５マイクロメートルである山を含む、態様１〜８のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
１４． 前記山の平均の長さが少なくとも１０マイクロメートルである、態様１３に記載の反射防止フィルム。
１５． 前記マイクロ構造化表面が、平均幅が少なくとも５マイクロメートルである山を含む、態様１〜８のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
１６． 前記山の平均幅が１５マイクロメートル未満である、態様１５に記載の反射防止フィルム。
１７． 前記フィルムの平均粗さ（Ｒａ）が０．１４マイクロメートル未満である、態様１〜１６のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
１８． 前記フィルムの平均最大表面高さ（Ｒｚ）が１．２０マイクロメートル未満である、態様１〜１７のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
１９． 前記反射防止フィルムの透明度が少なくとも７０％である、態様１〜１８のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
２０． 前記反射防止フィルム、前記光学フィルムのヘイズ値が１０％以下である、態様１〜１９のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
２１． マイクロ構造化高屈折率層と、前記高屈折率層の上に配置された低屈折率層とを含む反射防止フィルムであって、前記反射防止フィルムの透明度が９０％以下であり、平均表面粗さが少なくとも０．０５マイクロメートルかつ０．１４マイクロメートル以下であり、前記反射防止フィルムが、埋め込まれたマット粒子を含まない、反射防止フィルム。
２２． マイクロ構造化高屈折率層と、前記高屈折率層の上に配置された低屈折率層とを含む反射防止フィルムであって、前記反射防止フィルムの透明度が９０％以下であり、平均最大表面高さが少なくとも０．５０マイクロメートルかつ１．２０マイクロメートル以下であり、前記反射防止フィルムが、埋め込まれたマット粒子を含まない、反射防止フィルム。
２３． マイクロ構造化高屈折率層と、前記高屈折率層の上に配置された低屈折率層とを含む反射防止フィルムであって、前記反射防止フィルムの透明度が９０％以下であり、平均等価直径が少なくとも５マイクロメートルかつ３０マイクロメートル以下である山を前記マイクロ構造化層が含み、前記マイクロ構造の５０％以下が、埋め込まれたマット粒子を含む反射防止フィルム。
２４． 前記反射防止フィルムの平均明所視反射率が、５５０ｎｍの波長において２％未満である、態様１〜２３のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
２５． 前記高屈折率層が、屈折率が少なくとも１．６０である重合性樹脂組成物の反応生成物を含む、態様１〜２４のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
２６． 前記重合性樹脂組成物が、屈折率が少なくとも１．６０であるナノ粒子を含む、態様２５に記載の反射防止フィルム。
２７． 前記ナノ粒子がジルコニアを含む、態様２６に記載の反射防止フィルム。
２８． 前記ナノ粒子が、カルボン酸末端基を含む化合物で表面改質されている、態様２６又は２７に記載のマットフィルム。
２９． 前記化合物が、Ｃ _３ 〜Ｃ _８ エステル繰り返し単位、又は少なくとも１つのＣ _６ 〜Ｃ _１６ エステル単位を含む、態様２６に記載の反射防止フィルム。
３０． 前記表面処理剤が、ｉ）少なくとも１種の脂肪族無水物と、ｉｉ）少なくとも１種のヒドロキシポリカプロラクトン（メタ）アクリレートと、の反応生成物を含む、態様２９に記載の反射防止フィルム。
３１． 前記ナノ粒子が、脂肪族無水物と、ヒドロキシルＣ _２ 〜Ｃ _８ アルキル（メタ）アクリレートとの反応によって調製された化合物によって、表面改質されている、態様２９又は３０に記載の反射防止フィルム。
３２． 前記重合性樹脂組成物が、１種以上の芳香族ジ（メタ）アクリレートモノマーを約１０〜約２０重量％の範囲の量で含む、態様２５〜３１のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
３３． 前記重合性樹脂組成物が、少なくとも３つの（メタ）アクリレート基を有する架橋剤を約５〜約１５重量％含む、態様２５〜３２のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
３４． 前記重合性樹脂組成物が、芳香族モノ（メタ）アクリレートモノマーを最大で約１０重量％含む、態様２５〜３３のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
３５． 前記低屈折率層が、フリーラジカル重合性フッ素化ポリマーを含む、態様１〜３４のいずれか一項のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
３６． 前記フリーラジカル重合性フッ素化ポリマーが、超分岐構造を有するポリマー種を含む、態様３５に記載の反射防止フィルム。
３７． 前記フリーラジカル重合性フッ素化ポリマーが、ｉ）フッ素含有率が少なくとも２５重量％である少なくとも１種のフリーラジカル重合性多官能性物質と、ｉｉ）任意で、フッ素含有率が０〜２５重量％未満の範囲である少なくとも１種のフリーラジカル重合性多官能性物質との反応生成物であって、多官能性物質の総量が、前記重合性有機組成物の固形分（重量％）に対して少なくとも約２５重量％である、反応生成物を含む、態様３６に記載の反射防止フィルム。
３８． 前記フリーラジカル重合性フッ素化ポリマーが、ＴＦＥ、ＶＤＦ、及びＨＦＰから選択される少なくとも２つの構成モノマーを含むとともに、硬化部位モノマーを含む少なくとも１つのハロゲン由来の反応性官能基を有する、態様３５に記載の反射防止フィルム。
３９． 前記低屈折率が、フッ素含有率が少なくとも約２５重量％である少なくとも１種のフリーラジカル重合性フッ素化モノマーを含む、態様３５〜３８のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
４０． 前記低屈折率層がアミノシランカップリング剤を更に含む、態様３５〜３９のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
４１． 前記低屈折率層がヒュームドシリカを更に含む、態様３５〜４０のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
４２． カルボン酸末端基、及びＣ _３ 〜Ｃ _８ エステル繰り返し単位又は少なくとも１つのＣ _６ 〜Ｃ _１６ エステル単位を含む化合物で表面改質した４０重量％〜７０重量％のジルコニアナノ粒子と、約１０〜約２０重量％の範囲の量の、１種以上の芳香族ジ（メタ）アクリレートモノマーと、少なくとも３つの（メタ）アクリレート基を有する１重量％〜１５重量％の架橋剤と、最大で５重量％の芳香族モノ（メタ）アクリレートモノマーと、を含む高屈折率の重合性樹脂組成物。
４３． 前記芳香族モノ（メタ）アクリレートモノマーがビフェニルモノマーである、態様４２に記載の高屈折率の重合性樹脂組成物。
４４． 超分岐構造を有するポリマー種を含む第１のフリーラジカル重合性フッ素化ポリマーと、ＴＦＥ、ＶＤＦ、及びＨＦＰから選択される少なくとも２つの構成モノマーを含むと共に、硬化部位モノマーを含む少なくとも１つのハロゲン由来の反応性官能基を有する第２のフリーラジカル重合性フッ素化ポリマーと、を含む低屈折率の重合性組成物。
４５． 前記第１のフリーラジカル重合性フッ素化ポリマーが、ｉ）フッ素含有率が少なくとも２５重量％である少なくとも１種のフリーラジカル重合性多官能性物質と、ｉｉ）任意で、フッ素含有率が０〜２５重量％未満の範囲である少なくとも１種のフリーラジカル重合性多官能性物質との反応生成物であって、多官能性物質の総量が、前記重合性有機組成物の固形分（重量％）に対して少なくとも約２５重量％である、反応生成物を含む、態様４４に記載の低屈折率の重合性組成物。
４６． 前記低屈折率が、フッ素含有率が少なくとも約２５重量％である少なくとも１種のフリーラジカル重合性フッ素化モノマーを更に含む、態様４４又は４５に記載の低屈折率の重合性組成物。
４７． 前記低屈折率層がアミノシランカップリング剤を更に含む、態様４４〜４６のいずれか一項に記載の低屈折率の重合性組成物。
４８． 前記低屈折率層が表面改質シリカを更に含む、態様４４〜４７のいずれか一項に記載の低屈折率の重合性組成物。

Claims (48)

1. 高屈折率層と、前記高屈折率層の上に配置された低屈折率表面層とを含む反射防止フィルムであって、その少なくとも３０％が少なくとも０．７度の傾斜規模であり、少なくとも２５％が１．３度未満の傾斜規模であるような補集合的累積傾斜規模分布を有する複数のマイクロ構造を前記低屈折率層が含み、前記反射防止フィルムが、埋め込まれたマット粒子を含まない、反射防止フィルム。
2. 高屈折率層と、前記高屈折率層の上に配置された低屈折率表面層とを含む反射防止フィルムであって、その少なくとも２５％が少なくとも０．７度の傾斜規模であり、少なくとも４０％が１．３度未満の傾斜規模であるような補集合的累積傾斜規模分布を有する複数のマイクロ構造を前記低屈折率層が含み、前記マイクロ構造の５０％以下が組み込まれたマット粒子を含む、反射防止フィルム。
3. 前記マイクロ構造の少なくとも３０％が、１．３度未満の傾斜規模を有する、請求項１に記載のマットフィルム。
4. 前記マイクロ構造の少なくとも３５％が、１．３度未満の傾斜規模を有する、請求項１に記載のマットフィルム。
5. 前記マイクロ構造の少なくとも４０％が、１．３度未満の傾斜規模を有する、請求項１に記載のマットフィルム。
6. 前記マイクロ構造の１５％未満が４．１度以上の傾斜規模である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
7. 前記マイクロ構造の５％未満が４．１度以上の傾斜規模である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
8. 前記マイクロ構造の少なくとも７５％が少なくとも０．３度の傾斜規模である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
9. 前記表面層が、平均等価円直径が少なくとも５マイクロメートルである山を含む、請求項１〜８のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
10. 前記平均等価円直径が少なくとも１０マイクロメートルである、請求項９に記載の反射防止フィルム。
11. 前記平均等価円直径が３０マイクロメートル未満である、請求項９又は１０に記載の反射防止フィルム。
12. 前記平均等価円直径が２５マイクロメートル未満である、請求項９又は１０に記載の反射防止フィルム。
13. 前記マイクロ構造化表面が、平均の長さが少なくとも５マイクロメートルである山を含む、請求項１〜８のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
14. 前記山の平均の長さが少なくとも１０マイクロメートルである、請求項１３に記載の反射防止フィルム。
15. 前記マイクロ構造化表面が、平均幅が少なくとも５マイクロメートルである山を含む、請求項１〜８のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
16. 前記山の平均幅が１５マイクロメートル未満である、請求項１５に記載の反射防止フィルム。
17. 前記フィルムの平均粗さ（Ｒａ）が０．１４マイクロメートル未満である、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
18. 前記フィルムの平均最大表面高さ（Ｒｚ）が１．２０マイクロメートル未満である、請求項１〜１７のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
19. 前記反射防止フィルムの透明度が少なくとも７０％である、請求項１〜１８のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
20. 前記反射防止フィルム、前記光学フィルムのヘイズ値が１０％以下である、請求項１〜１９のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
21. マイクロ構造化高屈折率層と、前記高屈折率層の上に配置された低屈折率層とを含む反射防止フィルムであって、前記反射防止フィルムの透明度が９０％以下であり、平均表面粗さが少なくとも０．０５マイクロメートルかつ０．１４マイクロメートル以下であり、前記反射防止フィルムが、埋め込まれたマット粒子を含まない、反射防止フィルム。
22. マイクロ構造化高屈折率層と、前記高屈折率層の上に配置された低屈折率層とを含む反射防止フィルムであって、前記反射防止フィルムの透明度が９０％以下であり、平均最大表面高さが少なくとも０．５０マイクロメートルかつ１．２０マイクロメートル以下であり、前記反射防止フィルムが、埋め込まれたマット粒子を含まない、反射防止フィルム。
23. マイクロ構造化高屈折率層と、前記高屈折率層の上に配置された低屈折率層とを含む反射防止フィルムであって、前記反射防止フィルムの透明度が９０％以下であり、平均等価直径が少なくとも５マイクロメートルかつ３０マイクロメートル以下である山を前記マイクロ構造化層が含み、前記マイクロ構造の５０％以下が、埋め込まれたマット粒子を含む反射防止フィルム。
24. 前記反射防止フィルムの平均明所視反射率が、５５０ｎｍの波長において２％未満である、請求項１〜２３のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
25. 前記高屈折率層が、屈折率が少なくとも１．６０である重合性樹脂組成物の反応生成物を含む、請求項１〜２４のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
26. 前記重合性樹脂組成物が、屈折率が少なくとも１．６０であるナノ粒子を含む、請求項２５に記載の反射防止フィルム。
27. 前記ナノ粒子がジルコニアを含む、請求項２６に記載の反射防止フィルム。
28. 前記ナノ粒子が、カルボン酸末端基を含む化合物で表面改質されている、請求項２６又は２７に記載のマットフィルム。
29. 前記化合物が、Ｃ_３〜Ｃ_８エステル繰り返し単位、又は少なくとも１つのＣ_６〜Ｃ_１６エステル単位を含む、請求項２６に記載の反射防止フィルム。
30. 前記表面処理剤が、
    ｉ）少なくとも１種の脂肪族無水物と、
    ｉｉ）少なくとも１種のヒドロキシポリカプロラクトン（メタ）アクリレートと、の反応生成物を含む、請求項２９に記載の反射防止フィルム。
31. 前記ナノ粒子が、脂肪族無水物と、ヒドロキシルＣ_２〜Ｃ_８アルキル（メタ）アクリレートとの反応によって調製された化合物によって、表面改質されている、請求項２９又は３０に記載の反射防止フィルム。
32. 前記重合性樹脂組成物が、１種以上の芳香族ジ（メタ）アクリレートモノマーを約１０〜約２０重量％の範囲の量で含む、請求項２５〜３１のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
33. 前記重合性樹脂組成物が、少なくとも３つの（メタ）アクリレート基を有する架橋剤を約５〜約１５重量％含む、請求項２５〜３２のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
34. 前記重合性樹脂組成物が、芳香族モノ（メタ）アクリレートモノマーを最大で約１０重量％含む、請求項２５〜３３のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
35. 前記低屈折率層が、フリーラジカル重合性フッ素化ポリマーを含む、請求項１〜３４のいずれか一項のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
36. 前記フリーラジカル重合性フッ素化ポリマーが、超分岐構造を有するポリマー種を含む、請求項３５に記載の反射防止フィルム。
37. 前記フリーラジカル重合性フッ素化ポリマーが、ｉ）フッ素含有率が少なくとも２５重量％である少なくとも１種のフリーラジカル重合性多官能性物質と、ｉｉ）任意で、フッ素含有率が０〜２５重量％未満の範囲である少なくとも１種のフリーラジカル重合性多官能性物質との反応生成物であって、多官能性物質の総量が、前記重合性有機組成物の固形分（重量％）に対して少なくとも約２５重量％である、反応生成物を含む、請求項３６に記載の反射防止フィルム。
38. 前記フリーラジカル重合性フッ素化ポリマーが、ＴＦＥ、ＶＤＦ、及びＨＦＰから選択される少なくとも２つの構成モノマーを含むとともに、硬化部位モノマーを含む少なくとも１つのハロゲン由来の反応性官能基を有する、請求項３５に記載の反射防止フィルム。
39. 前記低屈折率が、フッ素含有率が少なくとも約２５重量％である少なくとも１種のフリーラジカル重合性フッ素化モノマーを含む、請求項３５〜３８のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
40. 前記低屈折率層がアミノシランカップリング剤を更に含む、請求項３５〜３９のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
41. 前記低屈折率層がヒュームドシリカを更に含む、請求項３５〜４０のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
42. カルボン酸末端基、及びＣ_３〜Ｃ_８エステル繰り返し単位又は少なくとも１つのＣ_６〜Ｃ_１６エステル単位を含む化合物で表面改質した４０重量％〜７０重量％のジルコニアナノ粒子と、 約１０〜約２０重量％の範囲の量の、１種以上の芳香族ジ（メタ）アクリレートモノマーと、
    少なくとも３つの（メタ）アクリレート基を有する１重量％〜１５重量％の架橋剤と、
    最大で５重量％の芳香族モノ（メタ）アクリレートモノマーと、を含む高屈折率の重合性樹脂組成物。
43. 前記芳香族モノ（メタ）アクリレートモノマーがビフェニルモノマーである、請求項４２に記載の高屈折率の重合性樹脂組成物。
44. 超分岐構造を有するポリマー種を含む第１のフリーラジカル重合性フッ素化ポリマーと、
    ＴＦＥ、ＶＤＦ、及びＨＦＰから選択される少なくとも２つの構成モノマーを含むと共に、硬化部位モノマーを含む少なくとも１つのハロゲン由来の反応性官能基を有する第２のフリーラジカル重合性フッ素化ポリマーと、
    を含む低屈折率の重合性組成物。
45. 前記第１のフリーラジカル重合性フッ素化ポリマーが、ｉ）フッ素含有率が少なくとも２５重量％である少なくとも１種のフリーラジカル重合性多官能性物質と、ｉｉ）任意で、フッ素含有率が０〜２５重量％未満の範囲である少なくとも１種のフリーラジカル重合性多官能性物質との反応生成物であって、多官能性物質の総量が、前記重合性有機組成物の固形分（重量％）に対して少なくとも約２５重量％である、反応生成物を含む、請求項４４に記載の低屈折率の重合性組成物。
46. 前記低屈折率が、フッ素含有率が少なくとも約２５重量％である少なくとも１種のフリーラジカル重合性フッ素化モノマーを更に含む、請求項４４又は４５に記載の低屈折率の重合性組成物。
47. 前記低屈折率層がアミノシランカップリング剤を更に含む、請求項４４〜４６のいずれか一項に記載の低屈折率の重合性組成物。
48. 前記低屈折率層が表面改質シリカを更に含む、請求項４４〜４７のいずれか一項に記載の低屈折率の重合性組成物。

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