JP2017082225A - フレキシブルデバイス基板形成用ポリイミド前駆体樹脂組成物及びそれを用いたフレキシブルデバイスの製造方法、フレキシブルデバイス - Google Patents
フレキシブルデバイス基板形成用ポリイミド前駆体樹脂組成物及びそれを用いたフレキシブルデバイスの製造方法、フレキシブルデバイス Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017082225A JP2017082225A JP2016236034A JP2016236034A JP2017082225A JP 2017082225 A JP2017082225 A JP 2017082225A JP 2016236034 A JP2016236034 A JP 2016236034A JP 2016236034 A JP2016236034 A JP 2016236034A JP 2017082225 A JP2017082225 A JP 2017082225A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flexible device
- substrate
- polyimide precursor
- resin film
- resin composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 121
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 title claims abstract description 114
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 title claims abstract description 74
- 239000002243 precursor Substances 0.000 title claims abstract description 70
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 53
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 34
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 47
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 47
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 37
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 32
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 8
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 claims description 28
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 15
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 8
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 6
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 6
- VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,4-diamine Chemical compound NC1CCC(N)CC1 VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 82
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 17
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 15
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 12
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 12
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 11
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 11
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 11
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 10
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 8
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- -1 polyethylene naphthalate Polymers 0.000 description 6
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 5
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 5
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 125000006158 tetracarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 4
- NVKGJHAQGWCWDI-UHFFFAOYSA-N 4-[4-amino-2-(trifluoromethyl)phenyl]-3-(trifluoromethyl)aniline Chemical compound FC(F)(F)C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1C(F)(F)F NVKGJHAQGWCWDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 5-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carbonyl)-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C(C=2C=C3C(=O)OC(=O)C3=CC=2)=O)=C1 VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GPXCORHXFPYJEH-UHFFFAOYSA-N 3-[[3-aminopropyl(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilyl]propan-1-amine Chemical compound NCCC[Si](C)(C)O[Si](C)(C)CCCN GPXCORHXFPYJEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BKQWDTFZUNGWNV-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4-dicarboxycyclohexyl)cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound C1C(C(O)=O)C(C(=O)O)CCC1C1CC(C(O)=O)C(C(O)=O)CC1 BKQWDTFZUNGWNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KMKWGXGSGPYISJ-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C=1C=C(OC=2C=CC(N)=CC=2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 KMKWGXGSGPYISJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 2
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 239000013039 cover film Substances 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JBFHTYHTHYHCDJ-UHFFFAOYSA-N gamma-caprolactone Chemical compound CCC1CCC(=O)O1 JBFHTYHTHYHCDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GAEKPEKOJKCEMS-UHFFFAOYSA-N gamma-valerolactone Chemical compound CC1CCC(=O)O1 GAEKPEKOJKCEMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 2
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 2
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 2
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N trimethylenediamine Chemical compound NCCCN XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGMUOPTYPWAHII-UHFFFAOYSA-N (3-aminophenyl) benzenesulfonate Chemical compound NC1=CC=CC(OS(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1 DGMUOPTYPWAHII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSSSSGRNRZNMKP-UHFFFAOYSA-N (4-aminophenyl) benzenesulfonate Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 JSSSSGRNRZNMKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYADHXFMURLYQI-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-triazine Chemical compound C1=CN=NC=N1 FYADHXFMURLYQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXVLLEIKCNQUQH-UHFFFAOYSA-N 1,3,4-thiadiazole-2,5-diamine Chemical compound NC1=NN=C(N)S1 DXVLLEIKCNQUQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZXTWGWHSMCWGA-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC=NC(N)=N1 VZXTWGWHSMCWGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCQSROWXQJHAJC-UHFFFAOYSA-N 1-benzofuran-2,7-diamine Chemical compound C1=CC(N)=C2OC(N)=CC2=C1 GCQSROWXQJHAJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZILOGCFZJDPTG-UHFFFAOYSA-N 10h-phenothiazine-3,7-diamine Chemical compound C1=C(N)C=C2SC3=CC(N)=CC=C3NC2=C1 LZILOGCFZJDPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IFFLKGMDBKQMAH-UHFFFAOYSA-N 2,4-diaminopyridine Chemical compound NC1=CC=NC(N)=C1 IFFLKGMDBKQMAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 2-(diethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCN(CC)CCOC(=O)C(C)=C SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-4-heptanone Chemical compound CC(C)CC(=O)CC(C)C PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRUWUSOUUMPANJ-UHFFFAOYSA-N 2-amino-5-[(4-amino-3-carboxyphenyl)methyl]benzoic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C(C(O)=O)=C1 QRUWUSOUUMPANJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRBJSXQPQWSCCF-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethoxybenzidine Chemical compound C1=C(N)C(OC)=CC(C=2C=C(OC)C(N)=CC=2)=C1 JRBJSXQPQWSCCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUIURNJTPRWVAP-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethylbenzidine Chemical group C1=C(N)C(C)=CC(C=2C=C(C)C(N)=CC=2)=C1 NUIURNJTPRWVAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UENRXLSRMCSUSN-UHFFFAOYSA-N 3,5-diaminobenzoic acid Chemical compound NC1=CC(N)=CC(C(O)=O)=C1 UENRXLSRMCSUSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJGHYPLBDBRCRZ-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminophenyl)sulfonylaniline Chemical compound NC1=CC=CC(S(=O)(=O)C=2C=C(N)C=CC=2)=C1 LJGHYPLBDBRCRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCUPXNDEQDWEMM-UHFFFAOYSA-N 3-(diethylamino)propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCN(CC)CCCOC(=O)C(C)=C PCUPXNDEQDWEMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUYDVDHTTIQNMB-UHFFFAOYSA-N 3-(diethylamino)propyl prop-2-enoate Chemical compound CCN(CC)CCCOC(=O)C=C XUYDVDHTTIQNMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WWJCRUKUIQRCGP-UHFFFAOYSA-N 3-(dimethylamino)propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCCOC(=O)C(C)=C WWJCRUKUIQRCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCXGOVYROJJXHA-UHFFFAOYSA-N 3-[4-[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfonylphenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=CC(=CC=2)S(=O)(=O)C=2C=CC(OC=3C=C(N)C=CC=3)=CC=2)=C1 WCXGOVYROJJXHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAHAMNBFDHWCPU-UHFFFAOYSA-N 3-tributoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CCCCO[Si](CCCN)(OCCCC)OCCCC UAHAMNBFDHWCPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUZVALKTSQQLCH-UHFFFAOYSA-N 3-tripropoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CCCO[Si](CCCN)(OCCC)OCCC XUZVALKTSQQLCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPQSJXRIHLUAKX-UHFFFAOYSA-N 4-(4-amino-2-ethylphenyl)-3-ethylaniline Chemical group CCC1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1CC GPQSJXRIHLUAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYIMZXITLDTULQ-UHFFFAOYSA-N 4-(4-amino-2-methylphenyl)-3-methylaniline Chemical group CC1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1C QYIMZXITLDTULQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLZIZQRHZJOXDM-UHFFFAOYSA-N 4-(4-amino-3-ethylphenyl)-2-ethylaniline Chemical group C1=C(N)C(CC)=CC(C=2C=C(CC)C(N)=CC=2)=C1 VLZIZQRHZJOXDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMHOXRVODFQGCA-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-amino-3,5-dimethylphenyl)methyl]-2,6-dimethylaniline Chemical compound CC1=C(N)C(C)=CC(CC=2C=C(C)C(N)=C(C)C=2)=C1 OMHOXRVODFQGCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEYAGBVEAJGCFB-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(3,4-dicarboxyphenyl)propan-2-yl]phthalic acid Chemical compound C=1C=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 GEYAGBVEAJGCFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEKFRNOZJSYWKZ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-aminophenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=C(N)C=C1 BEKFRNOZJSYWKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYEDGEXYGKWJPB-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-aminophenyl)propan-2-yl]aniline Chemical compound C=1C=C(N)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(N)C=C1 ZYEDGEXYGKWJPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUPRYUDHUFLKFL-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(4-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=CC(OC=2C=CC(N)=CC=2)=C1 WUPRYUDHUFLKFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYDATEKARGDBKU-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]phenoxy]aniline Chemical group C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)C=C1 HYDATEKARGDBKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHTZPJXABISXPB-UHFFFAOYSA-N 4-triethoxysilylbutan-2-amine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC(C)N BHTZPJXABISXPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAPHWZATUFXMGN-UHFFFAOYSA-N 4-trimethoxysilylbutan-2-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(C)N QAPHWZATUFXMGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ONPDPADPZNBIDE-UHFFFAOYSA-N 4-tripropoxysilylbutan-2-amine Chemical compound CCCO[Si](CCC(C)N)(OCCC)OCCC ONPDPADPZNBIDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQGYZOYWNCKGEK-UHFFFAOYSA-N 5-[(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-yl)oxy]-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(OC=2C=C3C(=O)OC(C3=CC=2)=O)=C1 QQGYZOYWNCKGEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZHBXLZQQVCDGPA-UHFFFAOYSA-N 5-[(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-yl)sulfonyl]-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(S(=O)(=O)C=2C=C3C(=O)OC(C3=CC=2)=O)=C1 ZHBXLZQQVCDGPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHICKPBIPXXFIP-UHFFFAOYSA-N 5-amino-2-(4-amino-5-methyl-2-sulfophenyl)-4-methylbenzenesulfonic acid Chemical compound C1=C(N)C(C)=CC(C=2C(=CC(N)=C(C)C=2)S(O)(=O)=O)=C1S(O)(=O)=O PHICKPBIPXXFIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GODIISWDNKKITG-UHFFFAOYSA-N 9h-carbazole-2,7-diamine Chemical compound NC1=CC=C2C3=CC=C(N)C=C3NC2=C1 GODIISWDNKKITG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLAYHHMXIQTEIF-UHFFFAOYSA-N CCCCO[Ti](CCC(C)N)(OCCCC)OCCCC Chemical compound CCCCO[Ti](CCC(C)N)(OCCCC)OCCCC CLAYHHMXIQTEIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NYNVTCIXFGXQOR-UHFFFAOYSA-N CCCO[Ti](CCC(C)N)(OCCC)OCCC Chemical compound CCCO[Ti](CCC(C)N)(OCCC)OCCC NYNVTCIXFGXQOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBMWEIWWERBNEL-UHFFFAOYSA-N CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-].NCCC[Ti+3] Chemical compound CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-].NCCC[Ti+3] WBMWEIWWERBNEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEIUMEMNSCMPOG-UHFFFAOYSA-N CCO[Ti](OCC)(OCC)CCC(C)N Chemical compound CCO[Ti](OCC)(OCC)CCC(C)N VEIUMEMNSCMPOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TTZKLLUIFZHJCG-UHFFFAOYSA-N CCO[Ti](OCC)(OCC)CCCN Chemical compound CCO[Ti](OCC)(OCC)CCCN TTZKLLUIFZHJCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCKJDVIQGQNAPR-UHFFFAOYSA-N CO[Ti](OC)(OC)CCCN Chemical compound CO[Ti](OC)(OC)CCCN CCKJDVIQGQNAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N Dapsone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=C1 MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=CC(CN)=C1 FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=C(CN)C=C1 ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004380 ashing Methods 0.000 description 1
- HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N benzidine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1 HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMIVXZPTRXBADB-UHFFFAOYSA-N benzocyclobutene Chemical compound C1=CC=C2CCC2=C1 UMIVXZPTRXBADB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- RQTQBQMVIJMUPB-UHFFFAOYSA-N butan-1-ol titanium Chemical compound [Ti].CCCCO.CCCCO.CCCCO RQTQBQMVIJMUPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 125000004427 diamine group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanediamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(N)(N)C1=CC=CC=C1 ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- CNEKKZXYBHKSDC-UHFFFAOYSA-N ethyl acetate;propane-1,2-diol Chemical compound CC(O)CO.CCOC(C)=O CNEKKZXYBHKSDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229940018564 m-phenylenediamine Drugs 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- ACXIAEKDVUJRSK-UHFFFAOYSA-N methyl(silyloxy)silane Chemical compound C[SiH2]O[SiH3] ACXIAEKDVUJRSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBKARQMATMRWQZ-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2,5,6-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C21 OBKARQMATMRWQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQSABULTKYLFEV-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,5-diamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1N KQSABULTKYLFEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTVNOVQHSGMMOV-UHFFFAOYSA-N naphthalenetetracarboxylic dianhydride Chemical compound C1=CC(C(=O)OC2=O)=C3C2=CC=C2C(=O)OC(=O)C1=C32 YTVNOVQHSGMMOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000052 poly(p-xylylene) Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- RLUCXJBHKHIDSP-UHFFFAOYSA-N propane-1,2-diol;propanoic acid Chemical compound CCC(O)=O.CC(O)CO RLUCXJBHKHIDSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical group CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHNQIURBCCNWDN-UHFFFAOYSA-N pyridine-2,6-diamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=N1 VHNQIURBCCNWDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 238000006798 ring closing metathesis reaction Methods 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 150000000000 tetracarboxylic acids Chemical group 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Abstract
【解決手段】液状の樹脂組成物をキャリア基板上に塗布成膜して樹脂膜を形成する工程と、樹脂膜上に回路を形成する工程と、回路が表面に形成された樹脂膜をキャリア基板から剥離する工程と、を含む、表示デバイスとしてのフレキシブルデバイス基板の製造法に用いられ、フレキシブルデバイス基板となる、一般式(1)で表される構造を有するポリイミド前駆体と有機溶媒とを含有してなる樹脂組成物。
【選択図】なし
Description
この方法は、軽量かつ高靭性であるプラスチック基板となるが、耐熱性において、ガラス基板に劣るという問題がある。たとえば、プラスチック基板上にTFTを形成することを考えたとき、製造工程上、プラスチック基板は200℃以上の高温に耐える必要がある。しかし、プラスチックのガラス転移点は高くても約150℃であるため、耐熱性に劣る。前記特許文献1中には、耐熱性の高いものとして、体積プロセスにより形成されるパリレンが具体的に記載されているが、成膜プロセスが煩雑であるという欠点がある。特許文献1中には、スピンコート等の塗布により、ポリイミド、PEN(ポリエチレンナフタレート樹脂)、PES(ポリエーテルサルフォン樹脂)、BCB(ベンゾシクロブテン樹脂)等いくつかのポリマを用いてプラスチック基板層を形成することも示唆されてはいるが、十分な特性を有する具体的なポリマの開示はされていない。
このように、特許文献1に記載されるフレキシブルディスプレイの製造方法では、塗布によって簡単に薄膜が形成でき、その上に回路を形成した後に剥離する工程を経ることができる、靭性と耐熱性を同時に持つプラスチック基板は、未だ知られていない。
そこで、現在では、工程は煩雑となってしまうが、高耐熱性であるガラス基板にTFTを形成し、高温プロセスを終えてからTFTを一時基板に転写、さらに一時基板からプラスチック基板へ再転写する方法によって、プラスチック基板を用いたフレキシブルディスプレイの製造がなされている。
一方、電子機器の小型軽量化に伴い、リード・オン・チップ(LOC)やテープ・オートメーテッド・ボンディング(TAB)、チップ・オン・フィルム(COF)等の電子部品向けフレキシブル配線基板については、近年盛んに開発がなされている。たとえば、特許文献2、3および4には、ポリイミドフィルムを用いた電子部品向けフレキシブル回路基板の製造法が記載されている。この方法は、一般に、ポリイミドの長尺フィルムを形成し、次いでその表面に、接着剤層の形成やアッシングなどの表面処理を施したうえで、銅箔などの導電体層を形成するものである。そして、さらに導電体層をエッチング処理することでポリイミド上に回路を形成することができ、これを金属積層体やフレキシブル回路基板となす。これらには芳香族ジアミン類と芳香族テトラカルボン酸類から得られる芳香族ポリイミドフィルムが優れた耐熱性やフレキシブル性を有することが記載されている。
本発明は、液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ、電子ペーパー等の表示デバイス、太陽電池の受光デバイスであるフレキシブルデバイスにおいて、ガラス基板等のキャリア基板上に塗布することで簡単にかつ所望の膜厚の薄膜を形成し、その樹脂薄膜上に回路やディスプレイ層等を形成できるとともに、耐熱性に優れ、熱膨張係数の低いポリイミド膜となって、回路等の形成過程でキャリア基板層からのはがれやキャリア基板層のそりを生じさせず、回路等のはがれなどの欠陥も生じず、そしてその後、キャリア基板から欠陥を生じずに剥離ができる、液状のフレキシブルデバイス基板形成用ポリイミド前駆体樹脂組成物、これを用いたフレキシブルデバイス及びその製造方法を提供するものである。
(1) 液状の樹脂組成物をキャリア基板上に塗布成膜して樹脂膜を形成する工程と、前記樹脂膜上に回路を形成する工程と、前記回路が表面に形成された樹脂膜を前記キャリア基板から剥離する工程と、を含む、表示デバイスとしてのフレキシブルデバイス基板の製造法に用いられ、フレキシブルデバイス基板となる前記液状の樹脂組成物であって、一般式(1)
(2)フレキシブルデバイス基板が、液晶ディスプレイ用基板、有機ELディスプレイ用基板又は電子ペーパー用基板である、前記(1)に記載のポリイミド前駆体樹脂組成物。
(3) ポリイミド前駆体の重量平均分子量が、15,000から200,000である前記(1)又は(2)に記載のフレキシブルデバイス基板形成用ポリイミド前駆体樹脂組成物。
(4) 前記(1)〜(3)のいずれかに記載のフレキシブルデバイス基板形成用ポリイミド前駆体樹脂組成物をキャリア基板上に塗布成膜してポリイミド樹脂膜を形成する工程、前記樹脂膜上に回路を形成する工程、前記回路が表面に形成された固体状の樹脂膜を前記キャリア基板から剥離する工程の各工程を含む、表示デバイスであるフレキシブルデバイスの製造方法。
(5) ポリイミド樹脂膜の厚さが、1〜20μmである前記(4)に記載のフレキシブルデバイスの製造方法。
(6) ポリイミド樹脂膜のガラス転移温度が、300℃以上である前記(4)又は(5)に記載のフレキシブルデバイスの製造方法。
(7) ポリイミド樹脂膜の100℃〜200℃の範囲における熱膨張係数が、20ppm/K以下である前記(4)から(6)のいずれかに記載のフレキシブルデバイスの製造方法。
(8) 前記(4)から(7)のいずれかに記載されたフレキシブルデバイスの製造方法により製造された表示デバイスであるフレキシブルデバイス。
また、現在の主流である、ベースフィルムとしてすでにフィルムとして成型されている、厚さの決まったものを用いるのではなく、デバイスの製造に即して塗布成膜する液状の組成物を使用するため、スピンコートやスクリーン印刷などによりガラス基板などのキャリア基板上に塗布できる。この時、塗布膜厚を変化させることにより、樹脂膜(ベースフィルム)の厚さを所望の厚さ、特に薄膜に調整することも可能となり、したがってフレキシブルデバイスのさらなる薄型化も可能となる。これにより、最終製品の小型化、軽量化も可能となる。
また、ガラス基板等のキャリア基板上に薄く塗布することで簡単にかつ所望の膜厚の薄膜として成膜でき、その上に回路やディスプレイ層等を形成できるとともに、耐熱性に優れ、熱膨張係数の低いポリイミド膜となって、回路等の形成過程でキャリア基板層からのはがれやキャリア基板層のそりを生じさせず、回路等のはがれなどの欠陥も生じない上、その後キャリア基板から剥がす際には、ポリイミド膜自体にも、その上に形成された回路等にも欠陥を生じることがなく、きれいに剥がせるものである。従って、これを用いた表示デバイス又は受光デバイスとなるフレキシブルデバイスの製造方法は、キャリア基板上に形成されたベースフィルムに直接回路を形成し、その後剥離することが可能となるため、再転写の製造工程を省略することができる。そして得られるフレキシブルデバイスは、薄くても靱性が高く、耐熱性にも優れるものとなる。
本発明における液状のポリイミド前駆体樹脂組成物は、以下の一般式(1)で表される構造を有するポリイミド前駆体と有機溶媒を含む。
一般式(1)
一般式(1)において、Rは、各々独立に水素又は1価の有機基を示し、1価の有機基として、炭素原子数1〜20のものが好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基などが挙げられる。R1におけるR’としては、炭素原子数1〜3のアルキル基等の炭化水素基が挙げられ、そのアルキル基の水素原子の一部または全部がハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)で置換されていても良い。
ポリイミド前駆体は、一般に1つのテトラカルボン酸残基と1つのジアミン残基から形成される構造単位(括弧でくくられた構造単位)が繰り返し単位となって形成されるが、本発明においては一般式(1)で示される括弧でくくられた構造単位が、全構造単位中40%以上であることが好ましく、60%以上であることがより好ましく、80〜100%であることが特に好ましい。
ポリイミド前駆体は、一般にテトラカルボン酸二無水物とジアミンとを重合することにより得られる。この重合は両者を有機溶媒中で混合することにより行うことができる。
製造されるポリイミド前駆体の分子量としては、硬化膜の伸び及び溶媒への溶解性の観点から、重量平均分子量で、15,000〜200,000が好ましい。重量平均分子量は、ゲルパーミエ−ションクロマトグラフィー法により測定し、標準ポリスチレン検量線により換算して算出することができる。
その他、必要に応じて、各種添加剤を配合することも可能である。
本発明における液状ポリイミド前駆体樹脂組成物を塗布、乾燥、イミド閉環して得られるポリイミド樹脂膜の厚さは、1〜20μmであることが望ましい。これは、厚さが1μmに満たない場合にポリイミドフィルムが十分な耐性を保持できず、フレキシブルデバイスとして使用したとき応力に耐え切れず破壊されるためである。また、20μmを超えて厚くなると、フレキシブルデバイスの薄型化が困難となってしまう。したがって、フレキシブルデバイスとして十分な耐性を保持しながらより薄膜化するには、2〜10μmの厚みであることが最も望ましい。
塗布した本発明のポリイミド前駆体樹脂組成物は、一般に、加熱乾燥した後、脱水閉環してポリイミド樹脂膜を形成する。その加熱温度としては通常100〜500℃、好ましくは150〜450℃、さらに好ましくは200〜400℃の範囲を任意に選択することができる。また加熱時間は、通常1分〜6時間、好ましくは3分〜4時間、さらに好ましくは15分〜2時間とされる。
こうして形成されるポリイミド樹脂のフィルムの熱膨張率は、100〜200℃の範囲において20ppm/K以下であることが好ましく、15ppm/K以下であることがより好ましく、10ppm/K以下であることがさらに好ましく、被塗布体であるキャリア基板(例えばガラス基板)と同程度の熱膨張であることが最も好ましい。熱膨張率は、乾燥後のポリイミドフィルムを5mm×15mmに切り出したものを用い、サーマルメカニカルアナライザー(例えば、株式会社リガク製)によって25℃から450℃まで、毎分5℃ずつ昇温することで測定することができる。
さらに、形成されるポリイミド樹脂は、破断伸びが、5%以上が好ましく(25℃)、10%以上がより好ましく、15%以上であることがさらに好ましい。破断伸びは、乾燥後のポリイミドフィルムを10mm×60mmに切り出したサンプルを用い、オートグラフ(例えば株式会社島津製作所製)により測定することができる。
また、形成されるポリイミド樹脂の弾性率は、1GPa以上であることが好ましく(25℃)、1.5GPa以上であることがより好ましく、2GPa以上であることがさらに好ましい。破断伸びは乾燥後のポリイミドフィルムを10mm×60mmに切り出したサンプルを用い、オートグラフ(例えば株式会社島津製作所製)により測定することができる。
以上のようにして、回路等が表面に形成された固体状のポリイミド樹脂膜を前記キャリア基板から剥離する。剥離方法に特に制限はなく、例えばキャリア基板側からレーザー等を照射することで剥離を行っても良い。本発明により得られるポリイミド樹脂膜は、高い靭性を有するので、キャリア基板(支持体)と単に物理的に剥離することも可能である。
本発明における、フレキシブルデバイスとしては、液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ、電子ペーパーといった表示デバイス、太陽電池、CMOSなどの受光デバイスを挙げることが出来る。特に、薄型化かつフレキシブル性を付与したいデバイスへの適用に最適である。
窒素雰囲気下の200mlフラスコに、p−フェニレンジアミン5.41gとN−メチルピロリドン181.03gを仕込み、15分間、40℃で加熱攪拌しモノマーを溶解させた。その後s−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物14.71gを加え、さらに30分間攪拌し、粘度1100mPa・s(25℃)の液状ポリイミド前駆体樹脂組成物を得た。このポリイミド前駆体の重量平均分子量は70000であった。
得られた液状ポリイミド前駆体樹脂組成物を厚さ625μmの6インチシリコン基板上にスピンコートで塗布した後、130℃のホットプレートで2分間ベークし、厚さ5μmになるように製膜した。次いで、硬化炉を用い200℃で30分間、さらに350℃で60分間加熱硬化してイミド化し、ポリイミド樹脂フィルムからなる樹脂膜を得た。イミド化後の膜厚は3μmであった。この樹脂フィルムをシリコン基板より剥離し、熱特性、機械特性を測定し、その結果を纏めて表1に示した。
ガラス転移温度:サーマルメカニカルアナライザー(株式会社リガク製、測定温度範囲25〜450℃、試料サイズ5mm×15mm)
熱分解温度:サーマルメカニカルアナライザー(株式会社リガク製、測定温度範囲25〜620℃、試料サイズ5mm×15mm)
熱膨張率:サーマルメカニカルアナライザー(株式会社リガク製、測定温度範囲25〜450℃、試料サイズ5mm×15mm)
破断点応力:オートグラフ(株式会社島津製作所製、試料サイズ10mm×60mm)
弾性率:オートグラフ(株式会社島津製作所製、試料サイズ10mm×60mm)
伸び:オートグラフ(株式会社島津製作所製、試料サイズ10mm×60mm)
重量平均分子量:ゲルパーミエーションクロマトグラフ(株式会社島津製作所製)
窒素雰囲気下の200mlフラスコに、p−フェニレンジアミン3.86gと1,3−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン0.18g、N−メチルピロリドン85gを仕込み、15分間、40℃で加熱攪拌しモノマーを溶解させた。その後s−ビフェニルテトラカルボン酸無水物10.19gと1,3−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル酸無水物)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンを0.78g加え、さらに30分間攪拌し、粘度2000mPa・s(25℃)の液状ポリイミド前駆体樹脂組成物を得た。このポリイミド前駆体樹脂の重量平均分子量は80000であった。
得られた液状ポリイミド前駆体樹脂組成物を厚さ625μmの6インチシリコン基板上にスピンコートで塗布した後、130℃のホットプレートで45秒間、次いで160℃のホットプレートで45秒間ベークし、厚さ8μmになるように製膜した。次いで、実施例1に記載の条件で加熱硬化してイミド化し、ポリイミド樹脂フィルムからなる樹脂膜を得た。この膜厚は5μmであった。この樹脂フィルムをシリコン基板より剥離し、熱特性、機械特性を測定し、その結果を纏めて表1に示した。測定条件は実施例1に記載の条件に従った。
窒素雰囲気下の200mlフラスコに2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン11.99gとN−メチルピロリドン77gを仕込み、室温(25℃)で15分間攪拌しモノマーを溶解した。その後s−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物11.01gを加えさらに室温で30分間攪拌し、粘度7200mPa・s(25℃)の液状ポリイミド前駆体樹脂組成物を得た。このポリイミド前駆体樹脂の重量平均分子量は72400であった。
得られた液状ポリイミド前駆体樹脂組成物を厚さ625μmの6インチシリコン基板上にスピンコートで塗布した後、100℃のホットプレートで2分間、次いで130℃のホットプレートで2分間ベークし、厚さ13μmになるように製膜した。次いで、実施例1に記載の条件で加熱硬化してイミド化し、ポリイミド樹脂フィルムからなる樹脂膜を得た。この膜厚は9μmであった。この樹脂フィルムをシリコン基板より剥離し、熱特性、機械特性を測定し、その結果を纏めて表1に示した。測定条件は実施例1に記載の条件に従った。
窒素雰囲気下の200mlフラスコに、1,4−ジアミノシクロヘキサン5.59gをN−メチルピロリドン80gを仕込み、70℃で15分間加熱攪拌しモノマーを溶解した。その後s−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物14.41gを加え80℃で30分間攪拌後、自然冷却し粘度9200mPa・s(25℃)の液状ポリイミド前駆体樹脂組成物を得た。このポリイミド前駆体樹脂の重量平均分子量は53000であった。
得られた液状ポリイミド前駆体樹脂組成物を厚さ625μmの6インチシリコン基板上にスピンコートで塗布した後、100℃のホットプレートで2分間、次いで130℃のホットプレートで2分間ベークし、厚さ15μmになるように製膜した。次いで、実施例1に記載の条件で加熱硬化してイミド化し、ポリイミド樹脂フィルムからなる樹脂膜を得た。この膜厚は10μmであった。この樹脂フィルムをシリコン基板より剥離し、熱特性、機械特性を測定し、その結果を纏めて表1に示した。測定条件は実施例1に記載の条件に従った。
窒素雰囲気下の200mlフラスコに、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン1.49gと1,4−ジアミノシクロヘキサン4.78g、N−メチルピロリドン80gを仕込み、70℃で15分間加熱攪拌しモノマーを溶解した。その後s−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物13.01gと3,3’,4,4’−ビシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物0.71gを加え80℃で30分間加熱攪拌後、自然冷却し液状ポリイミド前駆体樹脂組成物を得た。このポリイミド前駆体樹脂の重量平均分子量は87900であった。
得られた液状ポリイミド前駆体樹脂組成物を厚さ625μmの6インチシリコン基板上にスピンコートで塗布した後、100℃のホットプレートで2分間、次いで130℃のホットプレートで2分間ベークし、厚さ15μmになるように製膜した。次いで、実施例1に記載の条件で加熱硬化してイミド化し、ポリイミド樹脂フィルムからなる樹脂膜を得た。この膜厚は10μmであった。この樹脂フィルムをシリコン基板より剥離し、熱特性、機械特性を測定し、その結果を纏めて表1に示した。測定条件は実施例1に記載の条件に従った。
窒素雰囲気下の200mlフラスコに、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル6.03gと1,3−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン0.39g、N−メチルピロリドン85gを仕込み、室温で15分間攪拌しモノマーを溶解させた。その後ピロメリット酸二無水物3.46gと3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物5.11gを加え、さらに24時間攪拌した。その後80℃の加熱攪拌で粘度調整を行い、粘度1100mPa・s(25℃)の液状ポリイミド前駆体樹脂組成物を得た。このポリイミド前駆体樹脂の重量平均分子量は76000であった。
得られた液状ポリイミド前駆体樹脂組成物をガラス基板上にスピンコートで塗布した後、140℃のホットプレートで1分間ベークし、厚さ8μmになるように製膜した。次いで、実施例1に記載の条件で加熱硬化してイミド化し、ポリイミド樹脂フィルムからなる樹脂膜を得た。この膜厚は4μmであった。この樹脂フィルムをシリコン基板より剥離し、熱特性、機械特性を測定し、その結果を纏めて表1に示した。測定条件は実施例1に記載の条件に従った。
窒素雰囲気下の200mlフラスコに、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン8.07gと1,3−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン0.26g、N−メチルピロリドン68g、ジイソブチルケトン17gを仕込み、15分間攪拌した。その後3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物6.67gを加えさらに30分間攪拌し、粘度1100mPa・s(25℃)の液状ポリイミド前駆体樹脂組成物を得た。このポリイミド前駆体樹脂の重量平均分子量は81000であった。
得られた液状ポリイミド前駆体樹脂組成物を厚さ625μmの6インチシリコン基板上にスピンコートで塗布した後、120℃のホットプレートで3分間ベークし、厚さ14μmになるように製膜した。次いで、実施例1に記載の条件で加熱硬化してイミド化し、ポリイミド樹脂フィルムからなる樹脂膜を得た。この膜厚は8μmであった。この樹脂フィルムをシリコン基板より剥離し、熱特性、機械特性を測定し、その結果を纏めて表1に示した。測定条件は実施例1に記載の条件に従った。
窒素雰囲気下の200mlフラスコに、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン8.93gとN−メチルピロリドン85gを仕込み、室温で15分間攪拌しモノマーを溶解した。その後s−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物6.07gを加えさらに30分間攪拌し、粘度500mPa・s(25℃)の液状ポリイミド前駆体樹脂組成物を得た。このポリイミド前駆体樹脂の重量平均分子量は78100であった。
得られた液状ポリイミド前駆体樹脂組成物を厚さ625μmの6インチシリコン基板上にスピンコートで塗布した後、80℃のホットプレートで2分間、次いで120℃のホットプレートで2分間ベークし、厚さ7μmになるように製膜した。次いで、実施例1に記載の条件で加熱硬化してイミド化し、ポリイミド樹脂フィルムからなる樹脂膜を得た。この膜厚は3μmであった。この樹脂フィルムをシリコン基板より剥離し、熱特性、機械特性を測定し、その結果を纏めて表1に示した。測定条件は実施例1に記載の条件に従った。
上記実施例1〜5及び比較例1〜3で得られた液状ポリイミド前駆体樹脂組成物を用いたフレキシブル液晶ディスプレイの製造例を示す。
図1に示すようにキャリア基板としてガラス基板を用い、ガラス基板上に各液状ポリイミド前駆体樹脂組成物を、スピンコートで塗布した後、130℃のホットプレートで2分間ベークし、厚さ約5μmになるように製膜した。次いで、硬化炉を用い200℃で30分間、さらに350℃で60分間加熱硬化してイミド化し、固体状の樹脂膜であるポリイミド樹脂フィルムを形成した。この膜厚は3μmであった。このポリイミド膜上に、既知の方法に従って図2に示すようにTFT電極を形成することができた。さらにその上に既知の方法に従って、図3に示すように液晶表示素子、カバーフィルムの層を形成することができた。その後、図4に示すようにガラス基板から、フレキシブルデバイスを剥離することができた。
このようにして得られる、実施例のフレキシブル液晶ディスプレイは良好な性能を示したが、比較例のものはポリイミド膜物性が劣るため、信頼性に優れるフレキシブル液晶ディスプレイは得られなかった。
Claims (8)
- 液状の樹脂組成物をキャリア基板上に塗布成膜して樹脂膜を形成する工程と、前記樹脂膜上に回路を形成する工程と、前記回路が表面に形成された樹脂膜を前記キャリア基板から剥離する工程と、を含む、表示デバイスとしてのフレキシブルデバイス基板の製造法に用いられ、フレキシブルデバイス基板となる前記液状の樹脂組成物であって、一般式(1)
- フレキシブルデバイス基板が、液晶ディスプレイ用基板、有機ELディスプレイ用基板又は電子ペーパー用基板である、請求項1に記載のポリイミド前駆体樹脂組成物。
- ポリイミド前駆体の重量平均分子量が、15,000から200,000である請求項1又は2に記載のフレキシブルデバイス基板形成用ポリイミド前駆体樹脂組成物。
- 請求項1〜3のいずれかに記載のフレキシブルデバイス基板形成用ポリイミド前駆体樹脂組成物をキャリア基板上に塗布成膜してポリイミド樹脂膜を形成する工程、前記樹脂膜上に回路を形成する工程、前記回路が表面に形成された樹脂膜を前記キャリア基板から剥離する工程の各工程を含む、表示デバイスであるフレキシブルデバイスの製造方法。
- ポリイミド樹脂膜の厚さが、1〜20μmである請求項4に記載のフレキシブルデバイスの製造方法。
- ポリイミド樹脂膜のガラス転移温度が、300℃以上である請求項4又は5に記載のフレキシブルデバイスの製造方法。
- ポリイミド樹脂膜の100℃〜200℃の範囲における熱膨張係数が、20ppm/K以下である請求項4〜6のいずれかに記載のフレキシブルデバイスの製造方法。
- 請求項4〜7のいずれかに記載されたフレキシブルデバイスの製造方法により製造された表示デバイスであるフレキシブルデバイス。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016236034A JP6288227B2 (ja) | 2016-12-05 | 2016-12-05 | フレキシブルデバイス基板形成用ポリイミド前駆体樹脂組成物及びそれを用いたフレキシブルデバイスの製造方法、フレキシブルデバイス |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016236034A JP6288227B2 (ja) | 2016-12-05 | 2016-12-05 | フレキシブルデバイス基板形成用ポリイミド前駆体樹脂組成物及びそれを用いたフレキシブルデバイスの製造方法、フレキシブルデバイス |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015106345A Division JP6206446B2 (ja) | 2015-05-26 | 2015-05-26 | フレキシブルデバイス基板形成用ポリイミド前駆体樹脂組成物及びそれを用いたフレキシブルデバイスの製造方法、フレキシブルデバイス |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017082225A true JP2017082225A (ja) | 2017-05-18 |
JP6288227B2 JP6288227B2 (ja) | 2018-03-07 |
Family
ID=58710865
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016236034A Active JP6288227B2 (ja) | 2016-12-05 | 2016-12-05 | フレキシブルデバイス基板形成用ポリイミド前駆体樹脂組成物及びそれを用いたフレキシブルデバイスの製造方法、フレキシブルデバイス |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6288227B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109713124A (zh) * | 2018-03-06 | 2019-05-03 | 广东聚华印刷显示技术有限公司 | 复合柔性衬底、柔性显示器及其制作方法 |
KR20190061090A (ko) | 2017-05-31 | 2019-06-04 | 우베 고산 가부시키가이샤 | 폴리이미드 필름 |
WO2019246233A1 (en) * | 2018-06-20 | 2019-12-26 | Dupont Electronics, Inc. | Polymers for use in electronic devices |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11277699A (ja) * | 1998-03-31 | 1999-10-12 | Ube Ind Ltd | 金属層積層フィルム |
WO2002014406A1 (fr) * | 2000-08-11 | 2002-02-21 | Mitsui Chemicals, Inc. | Nouveau polyimide et substrat de circuit le comprenant |
JP2007016200A (ja) * | 2005-07-05 | 2007-01-25 | Chang Chun Plastics Co Ltd | ポリアミック酸樹脂組成物およびポリイミドフィルム |
JP2007046054A (ja) * | 2005-08-03 | 2007-02-22 | E I Du Pont De Nemours & Co | 光学的応用分野において有用な低着色ポリイミド樹脂組成物ならびにそれに関連する方法および組成物 |
JP2007162005A (ja) * | 2005-11-16 | 2007-06-28 | Du Pont Toray Co Ltd | ポリイミドフィルムおよびその製造方法 |
JP2007324612A (ja) * | 2007-07-17 | 2007-12-13 | Sony Chemical & Information Device Corp | フレキシブル配線回路基板の製造方法 |
WO2008082152A1 (en) * | 2007-01-03 | 2008-07-10 | Skc Co., Ltd. | Polyimide film with improved adhesiveness |
-
2016
- 2016-12-05 JP JP2016236034A patent/JP6288227B2/ja active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11277699A (ja) * | 1998-03-31 | 1999-10-12 | Ube Ind Ltd | 金属層積層フィルム |
WO2002014406A1 (fr) * | 2000-08-11 | 2002-02-21 | Mitsui Chemicals, Inc. | Nouveau polyimide et substrat de circuit le comprenant |
JP2007016200A (ja) * | 2005-07-05 | 2007-01-25 | Chang Chun Plastics Co Ltd | ポリアミック酸樹脂組成物およびポリイミドフィルム |
JP2007046054A (ja) * | 2005-08-03 | 2007-02-22 | E I Du Pont De Nemours & Co | 光学的応用分野において有用な低着色ポリイミド樹脂組成物ならびにそれに関連する方法および組成物 |
JP2007162005A (ja) * | 2005-11-16 | 2007-06-28 | Du Pont Toray Co Ltd | ポリイミドフィルムおよびその製造方法 |
WO2008082152A1 (en) * | 2007-01-03 | 2008-07-10 | Skc Co., Ltd. | Polyimide film with improved adhesiveness |
JP2007324612A (ja) * | 2007-07-17 | 2007-12-13 | Sony Chemical & Information Device Corp | フレキシブル配線回路基板の製造方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20190061090A (ko) | 2017-05-31 | 2019-06-04 | 우베 고산 가부시키가이샤 | 폴리이미드 필름 |
CN109713124A (zh) * | 2018-03-06 | 2019-05-03 | 广东聚华印刷显示技术有限公司 | 复合柔性衬底、柔性显示器及其制作方法 |
WO2019246233A1 (en) * | 2018-06-20 | 2019-12-26 | Dupont Electronics, Inc. | Polymers for use in electronic devices |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6288227B2 (ja) | 2018-03-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2010202729A (ja) | フレキシブルデバイス基板用ポリイミド前駆体樹脂組成物及びそれを用いたフレキシブルデバイスの製造方法、フレキシブルデバイス | |
JP6024738B2 (ja) | ディスプレイ基板の製造方法 | |
TWI717574B (zh) | 烷氧基矽烷改質聚醯胺酸溶液、使用其之積層體及可撓性裝置、與積層體之製造方法 | |
TWI667313B (zh) | 暫時貼合用接著劑、接著劑層、晶圓加工物及使用其之半導體裝置之製造方法、聚醯亞胺共聚物、聚醯亞胺混合樹脂、及樹脂組成物 | |
US20040010062A1 (en) | Polyimide copolymer and methods for preparing the same | |
JP2017524040A (ja) | 光電素子のフレキシブル基板用ポリイミドフィルム用組成物 | |
KR20130003358A (ko) | 폴리아믹산,폴리아믹산 용액,폴리이미드 보호층 및 폴리이미드 필름 | |
JP6288227B2 (ja) | フレキシブルデバイス基板形成用ポリイミド前駆体樹脂組成物及びそれを用いたフレキシブルデバイスの製造方法、フレキシブルデバイス | |
TW201900392A (zh) | 層壓膜的卷狀物、製造其的方法及可撓性裝置的製造方法 | |
TWI683839B (zh) | 可撓性顯示器元件基板用聚醯亞胺膜及其製備方法以及包括其的可撓性顯示器元件 | |
TW202030225A (zh) | 聚醯亞胺膜、使用其之積層體以及包括此聚醯亞胺膜及此積層體之可撓性顯示器 | |
TW201946949A (zh) | 散熱特性優異的可撓顯示裝置基板用聚醯亞胺膜、其製備方法以及包含其的可撓性顯示器元件 | |
WO2018163884A1 (ja) | 透明電極用基材フィルムおよびその製造方法 | |
JP6221252B2 (ja) | ポリイミド樹脂、これを含有する樹脂組成物、これを用いた積層フィルムおよび積層体 | |
TWI809172B (zh) | 聚醯亞胺前驅物組成物、聚醯亞胺膜以及可撓性裝置及其製備製程 | |
JP6754607B2 (ja) | アルコキシシラン変性ポリイミド前駆体溶液、積層体およびフレキシブルデバイスの製造方法 | |
JP6206446B2 (ja) | フレキシブルデバイス基板形成用ポリイミド前駆体樹脂組成物及びそれを用いたフレキシブルデバイスの製造方法、フレキシブルデバイス | |
JP2021505430A (ja) | フレキシブルディスプレイ製造用積層体及びそれを用いたフレキシブルディスプレイの製造方法 | |
JP2019131704A (ja) | 仮保護膜用樹脂組成物、およびこれを用いた半導体電子部品の製造方法 | |
JP6733220B2 (ja) | 樹脂組成物及びポリイミド樹脂膜 | |
JP2023054680A (ja) | ポリイミド前駆体樹脂組成物及び、これを用いたフレキシブル表示装置及びその製造方法 | |
JP2019214642A (ja) | カバーレイフィルム用ポリイミドフィルムおよびその製造方法 | |
JP7261512B2 (ja) | フレキシブル基板用ポリイミドバーニッシュ組成物及びこれを用いたポリイミドフィルム | |
TWI750497B (zh) | 聚醯亞胺膜、使用其的可撓性裝置以及其製備製程 | |
TWI809173B (zh) | 聚醯亞胺前驅物組成物及其製備方法、聚醯亞胺膜以及可撓性裝置及其製備過程 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170912 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171106 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180109 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180122 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6288227 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R157 | Certificate of patent or utility model (correction) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R157 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |