JP2017069569A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は、表面電極をはんだ接合する場合に、加熱または冷却の伴う条件下において高い耐量を有する半導体装置を提供する。
【解決手段】本発明は、第1導電型のドリフト層12と、ドリフト層12上のうちの第1領域に形成されたゲート構造と、第1領域およびドリフト層12上のうちの第2領域を覆って配置された表面電極2と、表面電極2上に部分的に形成された接合層40と、接合層40上に形成されたはんだ層3と、はんだ層3上に配置されたリードフレーム1とを備える。接合層40は、第1領域に対応する表面電極2上の領域を覆い、かつ、接合層40の端部は第2領域に対応する表面電極2上の領域に位置する。第2領域においてダイオードが形成されている。
【選択図】図1
【解決手段】本発明は、第1導電型のドリフト層12と、ドリフト層12上のうちの第1領域に形成されたゲート構造と、第1領域およびドリフト層12上のうちの第2領域を覆って配置された表面電極2と、表面電極2上に部分的に形成された接合層40と、接合層40上に形成されたはんだ層3と、はんだ層3上に配置されたリードフレーム1とを備える。接合層40は、第1領域に対応する表面電極2上の領域を覆い、かつ、接合層40の端部は第2領域に対応する表面電極2上の領域に位置する。第2領域においてダイオードが形成されている。
【選択図】図1
Description
本発明は、表面電極とリードフレーム等の配線金属との接合に、はんだ接合を用いる半導体装置に関するものであり、特に、大電流を通電するパワーデバイスに関するものである。
従来から、パワーチップの表面電極における接合には、主にワイヤーボンドが用いられてきた。しかし、後工程のタクトタイムの短縮、および、半導体素子の冷却効率向上を目的に、表面電極における接合にはんだ接合を用いる場合も増えてきている(特許文献1参照)。当該はんだ接合を用いて、表面電極にリードフレーム等を接合させることができる。表面電極における接合にはんだ接合を用いる場合、半導体素子の表面電極(例えばアルミ電極)上に、はんだとの接合をなすための金属層(Ni等)を成膜する必要がある。
上記のように表面電極をはんだ接合する場合、パワーサイクルまたは熱サイクル等の加熱または冷却の伴う条件下では、熱膨張率の違いから、表面電極に接合されたリードフレーム等の構造物から表面電極(アルミ電極)に対して機械的なストレス(応力)が発生する。当該ストレスは、特に金属層とはんだとの合金層である接合層端部に集中する。
そのため、接合層端部の近傍に位置する表面電極が破断され、さらに、その下に形成されたゲート構造が破壊されるおそれがある。当該破断および破壊は、半導体素子が動作不能等となる要因となる。
この解決方法として、接合層をポリイミドで覆う方法が提案されている。しかし当該方法を用いる場合には、ポリイミド塗布前に接合層を形成しておかなければならない。ポリイミド塗布前に接合層が形成されると、接合層表面がポリイミド塗布時に汚染され、はんだを用いたダイボンドでのボイドの要因となる可能性がある。
本発明は、上記のような問題を解決するためになされたものであり、表面電極をはんだ接合する場合に、加熱または冷却の伴う条件下において高い耐量を有する半導体装置を提供することを目的とする。
本発明の一態様に関する半導体装置は、第1導電型のドリフト層と、前記ドリフト層上に形成された、第2導電型のベース層と、前記ベース層表層から前記ドリフト層内に達して形成された溝と、前記溝の側面および底面に沿って形成されたゲート絶縁膜と、前記溝内の前記ゲート絶縁膜の内側に形成されたゲート電極と、前記ベース層表層において前記溝を挟んで形成された、第1導電型のソース層と、前記溝と、前記ソース層の一部とを覆って形成された、層間絶縁膜と、前記ベース層および前記層間絶縁膜を覆って配置された、表面電極と、前記表面電極上に部分的に形成された、表面電極とは異なる金属からなる異種金属層と、前記異種金属層上に形成され、当該異種金属層が介在することにより前記表面電極との密着性が弱められた接合層と、前記接合層上に形成されたはんだ層と、前記はんだ層上に配置されたリードフレームとを備えることを特徴とする。
本発明の上記態様によれば、表面電極をはんだ接合する場合に、加熱または冷却の伴う条件下において高い耐量を実現することができる。
本発明の目的、特徴、局面、および利点は、以下の詳細な説明と添付図面とによって、より明白となる。
以下、添付の図面を参照しながら実施形態について説明する。
なお、本実施形態において、上面、側面または底面等の用語が用いられるが、これらの用語は、各面を便宜上区別するために用いられているものであり、実際の上下左右の方向とは関係しない。
図6は、前提技術に関する、表面電極をはんだ接合した(モールド封止前の)半導体装置の斜め俯瞰図である。また図7は、表面電極をはんだ接合した(モールド封止前の)当該半導体装置の断面図である。
図6に示される半導体装置においては、半導体素子上面に表面電極2(例えばアルミ電極)が配置され、表面電極2が配置された以外の半導体素子上の領域には、絶縁層5(例えばポリイミド層)が形成されている。表面電極2とリードフレーム1とがはんだ層3を介して接合されている。
また、当該半導体装置の断面図(図7)によれば、はんだ層3と表面電極2との間に、Ni等とはんだとの合金である接合層4が形成されている。表面電極2の下方には半導体素子が形成されている。本実施形態において示される半導体素子はIGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)であるが、半導体素子として適用されうるものはこれに限られない。
当該半導体素子(IGBT)は、コレクタ電極15と、コレクタ電極15上に形成されたp型のコレクタ層14と、コレクタ層14上に形成されたn−型のドリフト層12と、n+層11と、p型のベース層10と、ゲート電極9と、ゲート絶縁膜8と、n+型のソース層7と、層間絶縁膜6とを備える。なお、n+層11は備えられなくともよい。
n+層11は、ドリフト層12上に形成されている。そしてベース層10は、n+層11上に形成されている。
ベース層10表層からドリフト層12内に達する溝13が形成され、当該溝13の側面および底面に沿って、ゲート絶縁膜8が形成されている。そして、溝13内のゲート絶縁膜8の内側に、ゲート電極9が形成されている。
また、ベース層表層において、ソース層7が溝13を挟んで形成されている。そして、層間絶縁膜6が、溝13とソース層7の一部とを覆って形成されている。
上述のように、接合層4の下方領域には、表面電極2および半導体素子のゲート構造(ベース層10、ゲート電極9、ゲート絶縁膜8、n+型のソース層7および層間絶縁膜6を含む)が配置されている。
加熱または冷却を伴う条件下では、リードフレーム1と表面電極2との間の熱膨張率の違いによって表面電極2に対して機械的なストレスが発生し、表面電極2の破断、さらには、表面電極2の下方領域に配置されたゲート構造の破壊が生じるおそれがある。
この解決方法として、図8に示されるような、接合層4Aを絶縁層5A(例えばポリイミド層)で覆う方法が提案されている。しかし当該方法を用いる場合には、絶縁層5Aを塗布する前に接合層4Aを形成しておかなければならないという問題があった。
以下に説明する実施形態は、上記のような問題を解決する半導体装置に関するものである。
<第1実施形態>
<構成>
図1は、本実施形態に関する表面電極をはんだ接合した半導体装置の断面図である。なお、図7と同一の構成要素には同一の符号を付し、適宜説明を省略する。
<構成>
図1は、本実施形態に関する表面電極をはんだ接合した半導体装置の断面図である。なお、図7と同一の構成要素には同一の符号を付し、適宜説明を省略する。
図1に示された(表面電極2に覆われている)ドリフト層12上の領域のうち、半導体素子のゲート構造(ベース層10、ゲート電極9、ゲート絶縁膜8、n+型のソース層7および層間絶縁膜6を含む)が形成された領域をIGBT領域、ゲート構造が形成されていない領域をダイオード領域とする。
ダイオード領域においては、ドリフト層12およびベース層10が形成され、コレクタ層14は形成されない。ダイオード領域においては、ドリフト層12とベース層10との間のPN接合によってPiNダイオードが形成されている。
図1に示された半導体装置は、IGBT領域およびダイオード領域を備える逆導通型IGBT(RC−IGBT:Reverse Conducting−IGBT)である。
図1に示されるように、IGBT領域上方には接合層40が配置され、ダイオード領域上方には、接合層40の端部が位置している。このように構成されることにより、接合層40端部を起点に表面電極2に破断した場合でも、ゲート構造の破壊によるIGBT素子の動作不能が発生しない。よって、パワーサイクルまたは熱サイクル等に対し高い耐量を実現することができる。
また、IGBT領域以外の領域はダイオード領域として活用することができる。よって、素子面積を有効に活用できるため、経済的な逆導通型IGBTを実現することができる。
なお図1においては、IGBT領域とダイオード領域とは連続しておらず、所定の間隔を空けて形成されているが、当該間隔が存在せず、IGBT領域とダイオード領域とが連続して形成されていてもよい。また図1においては、当該間隔におけるベース層10の厚さが、IGBT領域におけるベース層10の厚さおよびダイオード領域におけるベース層10の厚さよりも厚く形成されている。しかし、当該間隔におけるベース層10の厚さは、IGBT領域におけるベース層10の厚さおよびダイオード領域におけるベース層10の厚さと同様の厚さで形成されていてもよい。
<変形例1>
図2は、本実施形態の他の態様に関する半導体装置の断面図である。なお、図7と同一の構成要素には同一の符号を付し、適宜説明を省略する。
図2は、本実施形態の他の態様に関する半導体装置の断面図である。なお、図7と同一の構成要素には同一の符号を付し、適宜説明を省略する。
図2に示されたドリフト層上の領域のうち、半導体素子のゲート構造(ベース層10、ゲート電極9、ゲート絶縁膜8、n+型のソース層7および層間絶縁膜6を含む)が形成された領域をIGBT領域、ゲート構造が形成されていない領域をダイオード領域とする。
ダイオード領域においては、ドリフト層12Aが形成され、ベース層10およびコレクタ層14は形成されない。ダイオード領域においては、ドリフト層12Aと表面電極2との間のショットキー接合によってショットキーバリアダイオード(SBD:Schottky Barrier Diode)が形成されている。
図2に示されるように、IGBT領域上方には接合層40が配置され、ダイオード領域上方には、接合層40の端部が位置している。このように構成されることにより、接合層40端部を起点に表面電極2に破断した場合でも、ゲート構造の破壊によるIGBT素子の動作不能が発生しない。よって、パワーサイクルまたは熱サイクル等に対し高い耐量を実現することができる。
また、IGBT領域以外の領域はダイオード領域として活用することができる。よって、素子面積を有効に活用できるため、経済的な逆導通型IGBTを実現することができる。
<変形例2>
図3は、本実施形態の他の態様に関する半導体装置の断面図である。なお、図7と同一の構成要素には同一の符号を付し、適宜説明を省略する。
図3は、本実施形態の他の態様に関する半導体装置の断面図である。なお、図7と同一の構成要素には同一の符号を付し、適宜説明を省略する。
図3に示されたドリフト層12上の領域のうち、半導体素子のゲート構造(ベース層10、ゲート電極9、ゲート絶縁膜8、n+型のソース層7および層間絶縁膜6を含む)が形成された領域をIGBT領域、ゲート構造が形成されていない領域を無効領域とする。
無効領域においては、ドリフト層12、ベース層10およびコレクタ層14が形成されているが、コレクタ層14は形成されていなくてもよい。また無効領域上には、ポリシリコン16と、ポリシリコン16を覆って形成された層間絶縁膜17とを備える配線構造が配置されている。無効領域にPiNダイオードが形成されていれば、それを温度センスダイオードとして活用することができ、また、配線構造は、当該温度センスダイオードとパッド間を結線するために用いることができる。
図3に示されるように、IGBT領域上方には接合層40が配置され、無効領域上方には、接合層40の端部が位置している。このように構成されることにより、接合層40端部を起点に表面電極2に破断した場合でも、ゲート構造の破壊によるIGBT素子の動作不能が発生しない。よって、パワーサイクルまたは熱サイクル等に対し高い耐量を実現することができる。
また、接合層40端部を起点に表面電極2に破断が発生した場合に、下方に配置されたポリシリコン16が破断し、温度センスダイオード特性の異常として検知することが可能となる。よって、パワーサイクルまたは熱サイクル等による半導体素子の劣化を検知することが可能となる。
図9は、前提技術に関する半導体装置の上面図である。前提技術に関する半導体装置では、温度センスダイオード18およびパッド19が図示されるように配置されている場合に、配線構造内のポリシリコン16aが図示されるように形成されている。
一方で図10は、本実施形態の他の態様に関する半導体装置の上面図である。本実施形態に関する半導体装置では、温度センスダイオード18およびパッド19が図示されるように配置されている場合に、配線構造内のポリシリコン16が、接合層40が形成された領域の端部を沿うように形成されている。より正確には、接合層40端部の下方に位置するように、ポリシリコン16が形成されている。なお、配線構造の配線態様は図10に示されるものに限られず、接合層40が形成された領域の端部に沿う部分の割合が少なくてもよい。
<効果>
本実施形態によれば、半導体装置が、第1導電型(n型)のドリフト層12と、ドリフト層12上のうちの部分領域である第1領域(IGBT領域)に形成された、ゲート構造と、IGBT領域およびドリフト層12上のうちの他の領域である第2領域(ダイオード領域)を覆って配置された、表面電極2と、表面電極2上に部分的に形成された接合層40と、接合層40上に形成されたはんだ層3と、はんだ層3上に配置されたリードフレーム1とを備える。
本実施形態によれば、半導体装置が、第1導電型(n型)のドリフト層12と、ドリフト層12上のうちの部分領域である第1領域(IGBT領域)に形成された、ゲート構造と、IGBT領域およびドリフト層12上のうちの他の領域である第2領域(ダイオード領域)を覆って配置された、表面電極2と、表面電極2上に部分的に形成された接合層40と、接合層40上に形成されたはんだ層3と、はんだ層3上に配置されたリードフレーム1とを備える。
接合層40は、IGBT領域に対応する表面電極2上の領域を覆い、かつ、接合層40の端部はダイオード領域に対応する表面電極2上の領域に位置する。そして、ダイオード領域において、ダイオードが形成されている。
このような構成によれば、接合層40端部を起点に表面電極2に破断が発生した場合でも、破断が到達する箇所(接合層40に対応する領域)はダイオード領域であるため、ゲート構造が破壊されることが抑制される。よって、加熱または冷却の伴う条件下(パワーサイクルまたは熱サイクル等)において高い耐量を実現することができる。また、破断が到達する箇所にもダイオード領域が形成されているため、素子面積を有効に活用できる。
また、本実施形態によれば、ゲート構造が、ドリフト層12上のIGBT領域に形成された、第2導電型(p型)のベース層10と、ベース層10表層からドリフト層12内に達して形成された溝13と、溝13の側面および底面に沿って形成されたゲート絶縁膜8と、溝13内のゲート絶縁膜8の内側に形成されたゲート電極9と、ベース層10表層において溝13を挟んで形成された、n型のソース層7と、溝13と、ソース層7の一部とを覆って形成された、層間絶縁膜6(第1層間絶縁膜)とを備える。
また、本実施形態によれば、ベース層10は、ドリフト層12上のダイオード領域においても形成され、ダイオード領域において、ドリフト層12とベース層10との間のPN接合を有するPiNダイオードが形成されている。
このような構成によれば、接合層40端部を起点とする破断によってゲート構造が破壊されることを抑制しつつ、破断が到達する箇所にPiNダイオードを形成することで、素子面積を有効に活用することができる。
また、本実施形態によれば、半導体装置が、第2領域(無効領域)上に配置された配線構造を備える。
表面電極2は、配線構造を覆って配置され、配線構造は、ポリシリコン16と、ポリシリコン16を覆って形成された層間絶縁膜17(第2層間絶縁膜)とを備える。
このような構成によれば、接合層40端部を起点に表面電極2に破断が発生した場合に下地のポリシリコン16が破断し、温度センスダイオード特性の異常として検知することが可能となる。よって、加熱または冷却の伴う条件変化(パワーサイクルまたは熱サイクル等)による素子の劣化を検知することが可能となる。
また、本実施形態によれば、ダイオード領域において、ドリフト層12Aと表面電極2との間のショットキー接合を有するショットキーバリアダイオードが形成されている。
このような構成によれば、接合層40端部を起点とする破断によってゲート構造が破壊されることを抑制しつつ、破断が到達する箇所にショットキーバリアダイオードを形成することで、素子面積を有効に活用することができる。
<第2実施形態>
<構成>
図4は、本実施形態に関する表面電極をはんだ接合した半導体装置の断面図である。なお、図7と同一の構成要素には同一の符号を付し、適宜説明を省略する。
<構成>
図4は、本実施形態に関する表面電極をはんだ接合した半導体装置の断面図である。なお、図7と同一の構成要素には同一の符号を付し、適宜説明を省略する。
図4に示された半導体装置においては、ゲート構造(ベース層10、ゲート電極9、ゲート絶縁膜8、n+型のソース層7および層間絶縁膜6を含む)が形成された領域上方に、接合層4Bおよびその端部が配置されている。
ただし、接合層4Bの端部は、表面電極2上に形成された絶縁層5(ポリイミド)を覆って形成されている。接合層4Bは、絶縁層5を形成した後に形成される。
このように構成されることにより、接合層4B端部への応力集中が、当該端部下方に配置された表面電極2に直接伝わることを防ぎ、パワーサイクルまたは熱サイクル等に対し高い耐量を実現することができる。
<変形例>
図5は、本実施形態の他の態様に関する半導体装置の断面図である。なお、図7と同一の構成要素には同一の符号を付し、適宜説明を省略する。
図5は、本実施形態の他の態様に関する半導体装置の断面図である。なお、図7と同一の構成要素には同一の符号を付し、適宜説明を省略する。
図5に示された半導体装置においては、ゲート構造(ベース層10、ゲート電極9、ゲート絶縁膜8、n+型のソース層7および層間絶縁膜6を含む)が形成された領域上方に、接合層4およびその端部が配置されている。
ただし、接合層4と表面電極2との間には、表面電極2とは異なる金属からなる異種金属層41が形成されている。異種金属層41としては、チタンまたはタングステン等の、アルミニウムまたはNi等に比べて線膨張率が小さい金属からなる層が想定される。異種金属層41が形成されることにより、表面電極2と異種金属層41との間の密着性が弱まる。
このように構成されることにより、接合層4端部を起点に表面電極2に破断した場合でも、表面電極2と異種金属層41との間で剥離が生じ、ゲート構造の破壊が生じることを抑制できる。よって、パワーサイクルまたは熱サイクル等に対し高い耐量を実現することができる。
<効果>
本実施形態によれば、半導体装置が、n型のドリフト層12と、ドリフト層12上に形成された、p型のベース層10と、ベース層10表層からドリフト層12内に達して形成された溝13と、溝13の側面および底面に沿って形成されたゲート絶縁膜8と、溝13内のゲート絶縁膜8の内側に形成されたゲート電極9と、ベース層10表層において溝13を挟んで形成された、n型のソース層7と、溝13と、ソース層7の一部とを覆って形成された、層間絶縁膜6と、ベース層10および層間絶縁膜6を覆って配置された、表面電極2と、表面電極2上に部分的に形成された絶縁層5と、絶縁層5の端部を覆い、かつ、表面電極2上の絶縁層5が形成されていない領域を覆って形成された接合層4Bと、接合層4B上に形成されたはんだ層3と、はんだ層3上に配置されたリードフレーム1とを備える。
本実施形態によれば、半導体装置が、n型のドリフト層12と、ドリフト層12上に形成された、p型のベース層10と、ベース層10表層からドリフト層12内に達して形成された溝13と、溝13の側面および底面に沿って形成されたゲート絶縁膜8と、溝13内のゲート絶縁膜8の内側に形成されたゲート電極9と、ベース層10表層において溝13を挟んで形成された、n型のソース層7と、溝13と、ソース層7の一部とを覆って形成された、層間絶縁膜6と、ベース層10および層間絶縁膜6を覆って配置された、表面電極2と、表面電極2上に部分的に形成された絶縁層5と、絶縁層5の端部を覆い、かつ、表面電極2上の絶縁層5が形成されていない領域を覆って形成された接合層4Bと、接合層4B上に形成されたはんだ層3と、はんだ層3上に配置されたリードフレーム1とを備える。
このような構成によれば、絶縁層5成膜後に接合層4Bを成膜するようなプロセスフローであっても、接合層4B端部の応力集中が下地の表面電極2に直接伝わることを防ぐことができる。よって、パワーサイクルまたは熱サイクル等に対し高い耐量を実現することができる。
また、本実施形態によれば、半導体装置が、n型のドリフト層12と、ドリフト層12上に形成された、p型のベース層10と、ベース層10表層からドリフト層12内に達して形成された溝13と、溝13の側面および底面に沿って形成されたゲート絶縁膜8と、溝13内のゲート絶縁膜8の内側に形成されたゲート電極9と、ベース層10表層において溝13を挟んで形成された、n型のソース層7と、溝13と、ソース層7の一部とを覆って形成された、層間絶縁膜6と、ベース層10および層間絶縁膜6を覆って配置された、表面電極2と、表面電極2上に部分的に形成された、表面電極2とは異なる金属からなる異種金属層41と、異種金属層41上に形成され、当該異種金属層41が介在することにより表面電極2との密着性が弱められた接合層4と、接合層4上に形成されたはんだ層3と、はんだ層3上に配置されたリードフレーム1とを備える。
このような構成によれば、接合層4端部を起点に表面電極2に破断が発生した場合でも、1層目の表面電極2と2層目の異種金属層41との間で剥離が生じ、異種金属層41の下にあるゲート構造の破壊までに至らない。よって、パワーサイクルまたは熱サイクル等に対し高い耐量を実現することができる。
上記実施形態では、各構成要素の材質、材料、実施の条件等についても記載しているが、これらは例示であって記載したものに限られるものではない。
なお本発明は、その発明の範囲内において、各実施形態の自由な組み合わせ、あるいは各実施形態の任意の構成要素の変形、もしくは各実施形態において任意の構成要素の省略が可能である。
本発明は詳細に説明されたが、上記した説明は、すべての局面において例示であって、本発明がそれに限定されるものではない。例示されていない無数の変形例が、本発明の範囲から外れずに想定され得るものと解される。
1 リードフレーム、2 表面電極、3 はんだ層、4,4A,4B,40 接合層、5,5A 絶縁層、6,17 層間絶縁膜、7 ソース層、8 ゲート絶縁膜、9 ゲート電極、10 ベース層、11 n+層、12,12A ドリフト層、13 溝、14 コレクタ層、15 コレクタ電極、16,16a ポリシリコン、18 温度センスダイオード、19 パッド、41 異種金属層。
Claims (1)
- 第1導電型のドリフト層と、
前記ドリフト層上に形成された、第2導電型のベース層と、
前記ベース層表層から前記ドリフト層内に達して形成された溝と、
前記溝の側面および底面に沿って形成されたゲート絶縁膜と、
前記溝内の前記ゲート絶縁膜の内側に形成されたゲート電極と、
前記ベース層表層において前記溝を挟んで形成された、第1導電型のソース層と、
前記溝と、前記ソース層の一部とを覆って形成された、層間絶縁膜と、
前記ベース層および前記層間絶縁膜を覆って配置された、表面電極と、
前記表面電極上に部分的に形成された、表面電極とは異なる金属からなる異種金属層と、
前記異種金属層上に形成され、当該異種金属層が介在することにより前記表面電極との密着性が弱められた接合層と、
前記接合層上に形成されたはんだ層と、
前記はんだ層上に配置されたリードフレームとを備えることを特徴とする、
半導体装置。
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JP2015537502A Division JP6046262B2 (ja) | 2013-09-19 | 2013-09-19 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017069569A true JP2017069569A (ja) | 2017-04-06 |
Family
ID=58495280
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016222927A Pending JP2017069569A (ja) | 2016-11-16 | 2016-11-16 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2017069569A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10418301B2 (en) | 2017-07-21 | 2019-09-17 | Mitsubishi Electric Corporation | Power device |
JP2019186309A (ja) * | 2018-04-04 | 2019-10-24 | 富士電機株式会社 | 半導体装置 |
WO2021070252A1 (ja) * | 2019-10-08 | 2021-04-15 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002359332A (ja) * | 2001-03-29 | 2002-12-13 | Toshiba Corp | 半導体パッケージ及びその製造方法 |
JP2003101024A (ja) * | 2001-09-25 | 2003-04-04 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体装置の製造方法 |
JP2007142138A (ja) * | 2005-11-18 | 2007-06-07 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
JP2010278164A (ja) * | 2009-05-27 | 2010-12-09 | Toyota Motor Corp | 半導体装置とその製造方法 |
JP2012054294A (ja) * | 2010-08-31 | 2012-03-15 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
-
2016
- 2016-11-16 JP JP2016222927A patent/JP2017069569A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002359332A (ja) * | 2001-03-29 | 2002-12-13 | Toshiba Corp | 半導体パッケージ及びその製造方法 |
JP2003101024A (ja) * | 2001-09-25 | 2003-04-04 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体装置の製造方法 |
JP2007142138A (ja) * | 2005-11-18 | 2007-06-07 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
JP2010278164A (ja) * | 2009-05-27 | 2010-12-09 | Toyota Motor Corp | 半導体装置とその製造方法 |
JP2012054294A (ja) * | 2010-08-31 | 2012-03-15 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10418301B2 (en) | 2017-07-21 | 2019-09-17 | Mitsubishi Electric Corporation | Power device |
JP2019186309A (ja) * | 2018-04-04 | 2019-10-24 | 富士電機株式会社 | 半導体装置 |
JP7099017B2 (ja) | 2018-04-04 | 2022-07-12 | 富士電機株式会社 | 半導体装置 |
WO2021070252A1 (ja) * | 2019-10-08 | 2021-04-15 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
JPWO2021070252A1 (ja) * | 2019-10-08 | 2021-04-15 | ||
JP7170894B2 (ja) | 2019-10-08 | 2022-11-14 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
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Date | Code | Title | Description |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A977 | Report on retrieval |
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|
A02 | Decision of refusal |
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