JP2017057119A - 多結晶シリコンの収容治具、多結晶シリコン収容用治具の検査方法、および、多結晶シリコンの製造方法 - Google Patents
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- 多結晶シリコン塊を収容するプラスチック製の治具であって、
前記収容治具は、
250℃以上の温度で加熱した際に揮発する成分の濃度をガスクロマトグラフィー質量分析(GC−MS)法で定量した際の揮発成分の総濃度が200ppmw以下であるプラスチックから成る、多結晶シリコンの収容治具。 - 前記揮発成分の総濃度は、直鎖状テトラデカン(n−C14H30)を標準物質として定量された値である、請求項1に記載の多結晶シリコンの収容治具。
- 請求項1または2に記載の収容治具に多結晶シリコン塊を収容し、該多結晶シリコン塊を清浄化する工程を備えている、多結晶シリコンの製造方法。
- 多結晶シリコン塊を収容するプラスチック製治具の検査方法であって、
前記プラスチック製治具を250℃以上の温度で加熱した際に揮発する成分の濃度をガスクロマトグラフィー質量分析(GC−MS)法で定量し、揮発成分の総濃度が200ppmw以下のものを多結晶シリコン塊の清浄化工程で用いる治具として合格とする、多結晶シリコン収容治具の検査方法。 - 前記揮発成分の総濃度は、直鎖状テトラデカン(n−C14H30)を標準物質として定量された値である、請求項4に記載の多結晶シリコン収容治具の検査方法。
- 多結晶シリコンの製造の際の多結晶シリコン塊の清浄化工程で用いる多結晶シリコンのプラスチック製収容治具を清浄化工程で複数回繰返して使用し、該使用毎に、前記収容治具を250℃以上の温度で加熱した際の揮発成分の濃度をガスクロマトグラフィー質量分析(GC−MS)法で定量し、揮発成分の総濃度が200ppmw以下である繰返し使用回数の上限nを求めておき、前記n以下の回数で前記収容治具を多結晶シリコン塊の清浄化工程で繰返し用いる、多結晶シリコンの製造方法。
- 前記揮発成分の総濃度は、直鎖状テトラデカン(n−C14H30)を標準物質として定量された値である、請求項6に記載の多結晶シリコンの製造方法。
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