JP2017033860A - 回帰反射形光電センサ - Google Patents

Abstract

【課題】簡単な構成で検出体を安定検出することができる回帰反射形光電センサを提供する。【解決手段】投光素子１１から出た光を投光レンズ１２により出射し、当該投光レンズ１１より出射した光が反射板に反射して回帰光となり、当該回帰光を、受光レンズ１４を通して受光素子１３で受光する回帰反射形の光学系に使用する、投光軸と受光軸とが同軸にない回帰反射形光電センサ１０であって、投光レンズ１２の、受光素子１３側とは反対側の面に形成される第１側の遮光マスク１２１と、受光レンズ１４の、投光素子１１側とは反対側の面に形成される第２側の遮光マスク１４１とを備えた。【選択図】図８

Description

この発明は、投光軸と受光軸が同軸でない２眼式の回帰反射形光電センサであって、特に、光を透過し屈曲させるＰＥＴボトル等を検出する回帰反射形光電センサに関するものである。

従来から、回帰反射形光電センサの光学系としては、例えば、２眼式の回帰反射形光電センサと反射板とを組み合わせたものがある。
このような回帰反射形光電センサにおいては、検出体がない状態においては、投光素子が発する光は、投光レンズにより所定の投光エリアを形成する投光ビームとして出射され、当該投光ビームが反射板に入射し反射され受光ビームとなって、１００％の状態で、受光レンズおよび受光素子に達する。
そこで、回帰反射形光電センサでは、投光素子および受光素子と、反射板との間に検出体が進入すると、この検出体により光路が遮られることにより受光素子に入射する光量が変化して光電変換する量の減少を検出信号として出力することによって、当該検出体を検出する。

しかし、上述したような回帰反射形光電センサでは、例えば、透過率の高い複雑な形状の検出体が進入すると、検出体の表面で検出体による拡散光や屈折光となり、本来検出に関係しない光までもが受光レンズおよび受光素子に入り、反射板から受光レンズおよび受光素子に返ってくる光が、検出体のない状態よりも検出体のある状態の方が増えることがあり、検出体の安定検出ができないという問題があった。

このような問題に対し、例えば、特許文献１には、回帰反射形光電センサ本体に、投光側スリットと受光側スリットとを形成し、投光側スリットによって、投光エリアのうちリフレクタのサイズに入っていない無効光を除去し、また、受光側スリットによって、無効光が回り込んでくるのを防ぐようにすることで、光を透過し屈折させる検出物体を安定検出できるようにする技術が開示されている。

特開２００２−２７９８７０号公報

しかしながら、特許文献１に開示されているような技術では、回帰反射形光電センサ本体に投光側スリットと受光側スリットを形成する必要があり、回帰反射形光電センサ内部の構造が複雑となり、また、投光側スリットと受光側スリットによって回帰反射形光電センサの製作工程も複雑となるという課題があった。

この発明は、上記のような課題を解決するためになされたもので、簡単な構成で検出体を安定検出することができる回帰反射形光電センサを提供することを目的とする。

この発明に係る回帰反射形光電センサは、投光素子から出た光を投光レンズにより出射し、当該投光レンズより出射した光が反射板に反射して回帰光となり、当該回帰光を、受光レンズを通して受光素子で受光する回帰反射形の光学系に使用する、投光軸と受光軸とが同軸にない回帰反射形光電センサであって、投光レンズの、受光素子側とは反対側の面に形成される第一の遮光部と、受光レンズの、投光素子側とは反対側の面に形成される第二の遮光部とを備えたものである。

この発明によれば、簡単な構成で検出体を安定検出することができる回帰反射形光電センサを提供できる。

一般的な回帰反射形光電センサの光学系の一例について説明する図である。 一般的な２眼式の回帰反射形光電センサの構成の一例について説明する図である。 一般的な回帰反射形光電センサの光学系で、検出体を検出する仕組みについて説明する図である。 一般的な回帰反射形光電センサと反射板との間に、透過率が高く複雑な形状の検出体がある場合の一例を示す図である。 一般的な回帰反射形光電センサの光学系で、回帰反射形光電センサと反射板との間に検出体が何もない状態において、反射板を正面から見た場合の投光領域、受光領域、交錯領域の一例を説明する図である。 一般的な回帰反射形光電センサの光学系で、投光ビームの屈折等がおこり、交錯領域以上の領域で受光する一例を説明する図である。 一般的な、１眼式の回帰反射形光電センサの光学系の一例を説明する図である。 この発明の実施の形態１に係る回帰反射形光電センサの構成図である。 実施の形態１において、遮光部をレンズ体と一体成型することによって形成する一例を説明する図である。 実施の形態１において、回帰反射形光電センサの外部の投光レンズおよび受光レンズに遮光部を設けた構成の一例を説明する構成図である。 実施の形態１において、遮光部をシールで形成する一例を説明する図である。 この発明の実施の形態２に係る回帰反射形光電センサの構成図である。

まず、図を用いて、本発明の前提となる、一般的な回帰反射形光電センサ６０の構成、および、当該一般的な回帰反射形光電センサ６０における問題について説明する。
図１は、一般的な回帰反射形光電センサ６０の光学系の一例について説明する図である。
図２は、一般的な２眼式の回帰反射形光電センサ６０の構成の一例について説明する図である。
一般的な回帰反射形光電センサ６０の光学系としては、図１に示すように、２眼式、すなわち、投光軸と受光軸が同軸でない回帰反射形光電センサ６０と反射板６１とを組み合わせたものがある。
２眼式の回帰反射形光電センサ６０は、図２に示すように、ホルダ５０の背面側に設けた投光素子装着部５１に投光素子５２を、ホルダ５０の背面側に設けた受光素子装着部５３に受光素子５４を、それぞれ装着し、ホルダ５０の前面部に設けたレンズ装着部６３に投光レンズ６４と受光レンズ６５とを一体に成形したレンズ体５５を装着する。
なお、投光素子５２の中心は投光レンズ６４の中心に一致させられ、受光素子５４の中心は受光レンズ６５の中心に一致させられている。

図１に示すように、投光素子５２が発する光は、投光レンズ６４により所定の投光領域Ｅ１を形成する投光ビームとして出射される。
この投光ビームは、反射板６１の表面の三角錐に入射し反射されるが、この反射光である受光ビームは、所定の受光領域Ｅ２を形成し、投光領域Ｅ１，受光領域Ｅ２の重なる部分Ｅ３の回帰光が受光レンズ６５を通して受光素子５４に達する。なお、この重なる部分Ｅ３を、ここでは、交錯領域Ｅ３とする。

以上のような従来の一般的な回帰反射形光電センサ６０の光学系で、検出体を検出する仕組みについて図３を用いて説明する。図３（ａ）は、回帰反射形光電センサ６０と反射板６１との間に検出体がない状態、図３（ｂ）は、回帰反射形光電センサ６０と反射板６１との間に透過率の低い検出体ｘがある状態、図３（ｃ）は、回帰反射形光電センサ６０と反射板６１の間に透過率の高い検出体ｙがある状態の一例を説明する図である。
なお、図３において、回帰反射形光電センサ６０は説明の便宜上、簡略化して記載しているが、回帰反射形光電センサ６０の構成は、図２を用いて説明したとおりである。

図３（ａ）に示すように、回帰反射形光電センサ６０と反射板６１の間に検出体がない状態では、回帰反射形光電センサ６０の投光素子５２が発する光は、出射された光のうち受光領域Ｅ２との交錯領域Ｅ３から回帰する光を１００％とすると、１００％の光のまま受光ビームとなって受光素子５４に達する。
一方、回帰反射形光電センサ６０と反射板６１の間に検出体がある場合、当該検出体により光路が遮られることにより、受光素子５４に入射する光量が減少する。
図３（ｂ）に示すように、透過率の低い検出体ｘがある場合には、例えば、交錯領域Ｅ３からの１００％の光は、１０％の光の受光ビームとなって受光素子５４に達する。また、図３（ｃ）に示すように、透過率の高い検出体ｙがある場合には、例えば、交錯領域Ｅ３からの１００％の光は、８０％の光の受光ビームとなって受光素子５４に達する。
このように、一般的な回帰反射形光電センサ６０では、投光領域Ｅ１，受光領域Ｅ２の重なり部分である交錯領域Ｅ３に検出体が進入すると、この検出体により光路が遮られることにより、受光素子５４に入射する光量が変化して光電変換する量の減少を検出信号として出力するようにしている。

しかしながら、上述したような一般的な回帰反射形光電センサ６０では、図４に示すように、回帰反射形光電センサ６０と反射板６１との間に、空のペットボトルやビン等、透過率が高く複雑な形状の検出体ｚがある場合、例えば、１００％の光が、１１０％の光の受光ビームとなって受光素子５４に達するなど、検出体を安定検出できないという問題があった。
この要因は、空のペットボトルやビン等の検出体ｚによる拡散光や屈折光にあると推定できる。以下、図５，６を用いて具体的に説明する。
図５は、回帰反射形光電センサ６０と反射板６１との間に検出体が何もない状態において、反射板６１を正面から、すなわち、回帰反射形光電センサ６０側から見た場合の投光領域、受光領域、交錯領域の一例を説明する図である。
検出体が何もない場合は、図５に示すように、例えば、任意の距離Ｌ［ｍｍ］としたときの反射板６１の交錯領域の面積からの回帰光を１００％としている。

しかし、図６に示すように、空のペットボトルやビンなどの検出体１９が進入すると、投光ビームの屈折等がおこり、交錯領域以上の領域で受光することになる。すなわち、検出体１９により投光ビームが屈折し、本来光が当たらない反射板６１上の投光領域（図６のａ）に光が当たり、本来受光側が見ていない、反射板６１上の受光領域（図６のｂ）の光を入射するため、交錯領域以上の光が出射され、あるいは、当該交錯領域以上の光が入射されることより、検出体１９を誤検出してしまう等、安定して検出体１９を検出できない要因となる。

このような問題を解決するため、従来技術では、上述したように、回帰反射形光電センサ本体に形成された投光側スリットと受光側スリットとによって、光を透過し屈折させる検出物体を安定検出できるようにしているが、このような構成では、投光側スリットや受光側スリットといった部品を備える工程が複雑となり、また、回帰反射形光電センサ内部の構造も複雑となってしまう。
そこで、この発明は、簡単な構成で検出体１９を安定検出することができる回帰反射形光電センサを提供できるようにするものである。

なお、上述したような問題は、２眼式の回帰反射形光電センサにおいて起こり得るものである。
一般的な回帰反射形光電センサの光学系としては、投、受光同軸の、すなわち、１眼式の回帰反射形光電センサの光学系もあるが、このような、投、受光同軸の回帰反射形光電センサにおいては、上述したような問題は発生しない。
１眼式の回帰反射形光電センサの光学系は、図７に示すように、ホルダ７１の背面側に設けた受光素子装着部７２に受光素子７３を装着し、ホルダ７１の前面部に設けたレンズ装着部７４にレンズ７５を位置させ、この光路上にハーフミラー７６を配置し、ホルダ７１の、光路とは直角をなす光路上に投光素子７８を装着した構成となっている。
このような構成においては、図６に示すような現象は発生しないため、上述したような問題は発生しない。
したがって、以下に説明するこの発明の回帰反射形光電センサは、投光軸と受光軸が同軸でない２眼式の回帰反射形光電センサであることを前提としている。

以下、この発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。
実施の形態１．
図８は、この発明の実施の形態１に係る回帰反射形光電センサ１０の構成図である。
図８（ａ）は、回帰反射形光電センサ１０の断面図であり、図８（ｂ）は、回帰反射形光電センサ１０に装着されたレンズ体１５を正面、すなわち、図８（ａ）のＸ方向から見た図である。
なお、この発明の実施の形態１の回帰反射形光電センサ１０の光学系については、図１で説明したものと同様であるため、重複した説明を省略する。

回帰反射形光電センサ１０は、図８（ａ）に示すように、回帰反射形光電センサ１０のホルダ２０の背面側に設けた素子装着部１６０に備えられたプリント基板１６に投光素子１１および受光素子１３を装着する。
また、回帰反射形光電センサ１０は、回帰反射形光電センサ１０のホルダ２０の前面部に設けたレンズ装着部１５０に、投光レンズ１２と受光レンズ１４とを一体に成形したレンズ体１５を装着する。
なお、回帰反射形光電センサ１０は、投光素子１１の中心が投光レンズ１２の中心に一致し、受光素子１３の中心が受光レンズ１４の中心に一致するよう、投光素子１１および受光素子１３と、レンズ体１５とを装着する。

投光レンズ１２の、投光素子１１の発光面に対向する面であって、かつ、受光素子１３側とは反対側の面の裏側には、蒸着による遮光マスク１２１が形成される。
また、受光レンズ１４の、受光素子１３の発光面に対向する面であって、かつ、投光素子１１側とは反対側の面の裏側には、蒸着による遮光マスク１４１が形成される。

遮光マスク１２１，１４１は、交錯領域（図６参照）以外の光を遮断する遮光部である。
すなわち、遮光マスク１２１により、交錯領域以外の領域へ発する光である投光ビームを遮光し、遮光マスク１４１により、交錯領域以外から受光する光である受光ビームを遮光する。

このように、投光レンズ１２および受光レンズ１４に、それぞれ、遮光マスク１２１，１４１を形成したことで、交錯領域以上の光が出射され、当該交錯領域以上の光が入射されることより検出体１９を誤検出してしまうことがなく、検出体１９の安定した検出を行うことができる。
また、遮光部は、投光レンズ１２および受光レンズ１４を蒸着することで形成できるため、回帰反射形光電センサ１０の内部に部品を設置する等、複雑な製作工程を有することなく、簡単な構成で、検出体１９の安定した検出を行うことができる。
また、遮光部は、回帰反射形光電センサ１０の内部に別途設けるようにするのではなく、投光レンズ１２および受光レンズ１４に直接遮光部を形成するようにしたため、レンズを交換すれば、全く別の用途として回帰反射形光電センサ１０を使用することができ、汎用性が高い回帰反射形光電センサ１０とすることができる。また、部品点数を増やす必要がなく、コスト削減にも繋がる。

なお、ここでは、図８（ｂ）に示すように、受光レンズ１４の光軸に直交する方向への遮光マスク１４１の幅（図８（ｂ）のＢ）が受光レンズ１４の半径と等しくなるように、すなわち、受光レンズ１４の投光素子１１側とは反対側の半分の表面が覆われるように、遮光マスク１４１を設けるようにした。しかしながら、遮光マスク１４１で覆われる面積はこれに限らず、遮光マスク１４１は、交錯領域以外から受光する受光ビームを除去できる範囲を覆うものであればよく、その面積は、検出体１９を検出する距離等に応じて適宜設定可能である。

また、ここでは、図８（ｂ）に示すように、投光レンズ１２の光軸に直交する方向への遮光マスク１２１の幅（図８（ｂ）のＣ）が投光レンズ１２の半径と等しくなるように、すなわち、投光レンズ１２の受光素子１３側とは反対側の半分の表面が覆われるように、遮光マスク１２１を設けるようにした。しかしながら、遮光マスク１２１で覆われる面積はこれに限らず、遮光マスク１２１は、交錯領域以外の領域へ発する投光ビームを除去できる範囲を覆うものであればよく、その面積は、反射板６１までの距離等に応じて適宜設定可能である。

なお、以上の説明では、遮光マスク１４１，１２１は、投光レンズ１２あるいは受光レンズ１４の、投光素子１１あるいは受光素子１３の発光面に対向する面の裏側に蒸着によって形成されるものとしたが、遮光マスク１４１，１２１は、投光レンズ１２あるいは受光レンズ１４の、投光素子１１あるいは受光素子１３の発光面に対向する面の裏側に塗装によって形成されるものであってもよい。
また、遮光マスク１４１，１２１は、投光素子１１あるいは受光素子１３の発光面に対向する面の裏側に印刷によって形成されるものであってもよい。

また、遮光マスク１４１，１２１は、図９に示すように、例えば、遮光を行うフィルム等の遮光部材を埋め込んでレンズ体１５と一体成型することによって形成されるものであってもよい。
このように、遮光部の形成方法は、蒸着に限らない。

また、上述した例では、遮光部を、回帰反射形光電センサ１０の内部の投光レンズ１２あるいは受光レンズ１４に形成するようにしているが、遮光部を、回帰反射形光電センサ１０の外部の投光レンズ１２あるいは受光レンズ１４に形成するようにしてもよい。

図１０は、実施の形態１において、回帰反射形光電センサ１０の外部の投光レンズ１２および受光レンズ１４に遮光部を設けた構成の一例を説明する構成図である。
図１０（ａ）は、回帰反射形光電センサ１０の断面図であり、図１０（ｂ）は、回帰反射形光電センサ１０に装着されるレンズ体１５を、回帰反射形光電センサ１０の前面、すなわち、図１０（ａ）のＸ方向から見た図である。
図１０（ａ）（ｂ）に示すように、遮光部である遮光マスク１４１，１２１は、回帰反射形光電センサ１０のホルダ２０の前面部のレンズ装着部１５０に装着された投光レンズ１２および受光レンズ１４の表面を、ホルダ２０の外側から蒸着することによって形成されるようにしてもよい。
すなわち、遮光マスク１２１は、投光レンズ１２の、投光素子１１の発光面と対向する面とは反対側の面に形成され、遮光マスク１４１は、受光レンズ１４の、受光素子１３の発光面と対向する面とは反対側の面に形成されるようにしてもよい。

なお、ここでは、図１０（ｂ）に示すように、受光レンズ１４の光軸に対して、投光素子１１側とは反対側となるレンズ体１５が覆われるように、遮光マスク１４１を設けるようにした。しかしながら、遮光マスク１４１で覆われる面積はこれに限らず、遮光マスク１４１は、交錯領域以外から受光する光である受光ビームを除去できる範囲を覆うものであればよく、その面積は、検出体１９を検出する距離等に応じて適宜設定可能である。

また、ここでは、図１０（ｂ）に示すように、投光レンズ１２の光軸に対して、受光素子１３側とは反対側となるレンズ体１５が覆われるように、遮光マスク１２１を設けるようにした。しかしながら、遮光マスク１２１で覆われる面積はこれに限らず、遮光マスク１２１は、交錯領域以外の領域へ発する光である投光ビームを除去できる範囲を覆うものであればよく、その面積は、検出体１９を検出する距離等に応じて適宜設定可能である。

このように、遮光部を、回帰反射形光電センサ１０の外部の投光レンズ１２あるいは受光レンズ１４に形成するようにすることもできる。
また、このように、外部の投光レンズ１２あるいは受光レンズ１４に遮光部を設けるようにした場合も、上述のように、遮光マスク１４１，１２１は、直接、投光レンズ１２および受光レンズ１４に形成するようにしているため、レンズを交換すれば、全く別の用途として回帰反射形光電センサ１０を使用することができ、汎用性が高い回帰反射形光電センサ１０とすることができる。また、例えば、回帰反射形光電センサ１０を洗浄する場合でも、遮光マスク１４１，１２１と投光レンズ１２，受光レンズ１４との間に水が入り込んでしまうことがなく、使い勝手を向上させることができる。

また、遮光マスク１４１，１２１は、回帰反射形光電センサ１０の前面部のレンズ装着部１５０に装着された投光レンズ１２および受光レンズ１４の、投光素子１１および受光素子１３の発光面と対向する面とは反対側の面に、蒸着することによって形成されるものに限らず、遮光マスク１４１，１２１は、塗装によって形成されるものであってもよいし、印刷によって形成されるものであってもよい。

また、遮光マスク１４１，１２１は、図１１に示すように、例えば、開口部１７１を有するシール１７等の遮光部材を貼り付けることで形成されるようにしてもよい。
図１１（ａ）は、シール１７が添付されたレンズ体１５の断面図であり、図１１（ｂ）は、シール１７が添付された回帰反射形光電センサ１０を、回帰反射形光電センサ１０の前面側から、すなわち、図１１（ａ）のＸ方向から見た図である。
シール１７の貼り付け位置は、開口部１７１から、交錯領域の投光ビームを発射し、交錯領域の受光ビームを入射する位置に位置決めされる。
なお、シール１７の形状および大きさについては、開口部１７１が、交錯領域の投光ビームを発射する部分および交錯領域の受光ビームを入射する部分を遮らないように形成され、交錯領域以外の領域から発射する投光ビームを除去し、交錯領域以外から受光する受光ビームを除去する面積を覆うことができる形状および大きさのものであればよい。
また、図１１では、シール１７は１枚とし、１枚のシール１７によって遮光マスク１２１，１４１を形成するようにしたが、これに限らず、複数枚のシール１７によって遮光マスク１２１，１４１を形成するようにしてもよい。

遮光マスク１４１，１２１をシール１７で形成するようにした場合、部品点数は増えるが、当該シール１７は、回帰反射形光電センサ１０の内部に設けるようにするものではないため、回帰反射形光電センサ１０の内部の構造が複雑になることはない。また、シール１７は、簡単に取り外しや調整を行うことができるため、必要に応じて回帰反射形光電センサ１０を全く別の用途で使用することもでき、回帰反射形光電センサ１０の汎用性を高めることができる。

以上のように、実施の形態１によると、投光レンズ１２および受光レンズ１４に、それぞれ、遮光マスク１２１（第一の遮光部），遮光マスク１４１（第二の遮光部）を形成したので、回帰反射形光電センサ１０の内部に部品を設置する等、複雑な製作工程を有することなく、簡単な構成で、交錯領域以上の光が出射され、当該交錯領域以上の光が入射されることより検出体１９を誤検出してしまうことがなく、検出体１９の安定した検出を行うことができる。
また、遮光マスク１２１（第一の遮光部），遮光マスク１４１（第二の遮光部）は、回帰反射形光電センサ１０の内部に別途設けるようにするのではなく、投光レンズ１２および受光レンズ１４に直接設けるようにしたため、レンズを交換すれば、全く別の用途として回帰反射形光電センサ１０を使用することもでき、汎用性が高い回帰反射形光電センサ１０とすることができる。

実施の形態２．
実施の形態１では、遮光部を、回帰反射形光電センサ１０の内部、あるいは、外部の投光レンズ１２および受光レンズ１４に、直接形成するようにしていた。
この実施の形態２では、回帰反射形光電センサ１０に着脱可能な遮光部材を用いて、回帰反射形光電センサ１０の外部の投光レンズ１２および受光レンズ１４を回帰反射形光電センサ１０の外側から遮光する実施の形態について説明する。

図１２は、この発明の実施の形態２に係る回帰反射形光電センサ１０の構成図である。
図１２（ａ）は、この発明の実施の形態２の回帰反射形光電センサ１０の断面図であり、図１２（ｂ）は、この発明の実施の形態２の回帰反射形光電センサ１０を、遮光部材１８が装着された状態で、回帰反射形光電センサ１０の前面、すなわち、図１２（ａ）のＸ方向から見た図である。
なお、この実施の形態２の回帰反射形光電センサ１０の光学系については、実施の形態１で図１を用いて説明したものと同様であるため、重複した説明を省略する。

図１２（ａ）において、実施の形態１において図８（ａ）を用いて説明した構成と同様の構成については同じ符号を付し、重複した説明を省略する。
この実施の形態２に係る回帰反射形光電センサ１０は、実施の形態１で図８〜図１１を用いて説明した回帰反射形光電センサ１０とは、遮光マスク１４１，１２１をレンズ装着部１５０に装着された投光レンズ１２および受光レンズ１４に直接形成するのではなく、遮光部材１８を用いて投光レンズ１２および受光レンズ１４を回帰反射形光電センサ１０の外側から遮光する点が異なるのみである。

ここでは、図１２（ａ）（ｂ）に示すように、遮光部材１８は、回帰反射形光電センサ１０のホルダ２０の外側から、投光レンズ１２の、投光素子１１の発光面に対向する面とは反対側の面と、受光レンズ１４の、受光素子１３の発光面に対向する面とは反対側の面とを覆う。
この時、遮光部材１８の、投光レンズ１２の交錯領域以外の領域へ発射する投光ビームの投光領域を覆う部分が遮光マスク１２１となり、受光レンズ１４の交錯領域以外から受光ビームを入射する受光領域を覆う部分が遮光マスク１４１となる。
なお、遮光部材１８は、回帰反射形光電センサ１０に着脱可能に装着される。
また、遮光部材１８は、例えば、金属等の光を遮断する部材から成り、コの字型をしており、図１２（ｂ）に示すように開口部１８１，１８２を有する。
そして、遮光部材１８は、回帰反射形光電センサ１０に装着された際に、開口部１８１（第一の開口部）から、交錯領域の投光ビームを発射し、開口部１８２（第二の開口部）から、交錯領域の受光ビームを入射する。
すなわち、開口部１８１，１８２によって、必要な光、すなわち、交錯領域から発射される投光ビームおよび交錯領域に入射される受光ビームを遮ることなく通過させることができる。

なお、図１２（ａ），（ｂ）に示した遮光部材１８は一例に過ぎず、遮光部材１８の形状および大きさについては、遮光部材１８の開口部１８１，１８２が形成される面の開口部１８１，１８２以外の部分で、交錯領域以外の領域から発射する投光ビームを遮光し、交錯領域以外から受光する受光ビームを遮光することができる形状および大きさであればよく、また、開口部１８１から交錯領域の投光ビームを発射し、かつ、開口部１８２から、交錯領域の受光ビームを入射することができるようになっていればよい。また、ここでは、図１２（ｂ）に示すように、開口部１８１，１８２は２つ設けるようにしたが、これに限らず、例えば、開口部は１つであってもよく、開口部から、交錯領域の投光ビームを発射し、かつ、交錯領域の受光ビームを入射するようになっていればよい。

このように、遮光部材１８を用いて、投光レンズ１２の交錯領域以外の領域から発射する投光ビームの投光領域、および、受光レンズ１４の交錯領域以外から受光ビームを入射する受光領域を覆うようにしたので、交錯領域以上の光の入射により、検出体１９を誤検出してしまうことがなく、検出体１９の安定した検出を行うことができる。
また、遮光部材１８により部品点数は増えるが、回帰反射形光電センサ１０の内部に遮光部材１８を設置するものではないため、遮光部材１８設置のための複雑な製作工程を必要とせず、簡単に遮光部材１８を装着でき、回帰反射形光電センサ１０の内部の構造が複雑になることはない。

以上のように、実施の形態２によると、投光レンズ１２の、投光素子１１の発光面に対向する面とは反対側の面を覆う遮光マスク１２１（第一の遮光部）と、受光レンズ１４の、受光素子１３の発光面に対向する面とは反対側の面を覆う遮光マスク１４１（第二の遮光部）とを有する遮光部材１８を備えるようにしたので、回帰反射形光電センサ１０の内部に部品を設置する等複雑な製作工程を有することなく、簡単な構成で、交錯領域以上の光が出射され、当該交錯領域以上の光が入射されることより検出体１９を誤検出してしまうことがなく、検出体１９の安定した検出を行うことができる。

なお、本願発明はその発明の範囲内において、各実施の形態の自由な組み合わせ、あるいは各実施の形態の任意の構成要素の変形、もしくは各実施の形態において任意の構成要素の省略が可能である。

１０，６０ 回帰反射形光電センサ
１１，５２，７８ 投光素子
１２，６４ 投光レンズ
１３，５４，７３ 受光素子
１４，６５ 受光レンズ
１５，５５ レンズ体
１６ プリント基板
１７ シール
１８ 遮光部材
１９ 検出体
２０，５０，７１ ホルダ
６１ 反射板
６３，７４ レンズ装着部
５３，７２ 受光素子装着部
７５ レンズ
７６ ハーフミラー
１２１，１４１ 遮光マスク
１６０ 素子装着部
１７１，１８１，１８２ 開口部

Claims (8)

1. 投光素子から出た光を投光レンズにより出射し、当該投光レンズより出射した光が反射板に反射して回帰光となり、当該回帰光を、受光レンズを通して受光素子で受光する回帰反射形の光学系に使用する、投光軸と受光軸とが同軸にない回帰反射形光電センサであって、
   前記投光レンズの、前記受光素子側とは反対側の面に形成される第一の遮光部と、
   前記受光レンズの、前記投光素子側とは反対側の面に形成される第二の遮光部
   とを備えた回帰反射形光電センサ。
2. 前記第一の遮光部は、前記投光レンズの、前記投光素子の発光面に対向する面であって、かつ、前記受光素子側とは反対側の面に形成され、
   前記第二の遮光部は、前記受光レンズの、前記受光素子の発光面に対向する面であって、かつ、前記投光素子側とは反対側の面に形成される
   ことを特徴とする請求項１記載の回帰反射形光電センサ。
3. 前記第一の遮光部は、前記投光レンズの、前記投光素子の発光面と対向する面とは反対側の面であって、かつ、前記受光素子側とは反対側の面に形成され、
   前記第二の遮光部は、前記受光レンズの、前記受光素子の発光面と対向する面とは反対側の面であって、かつ、前記投光素子側とは反対側の面に形成される
   ことを特徴とする請求項１記載の回帰反射形光電センサ。
4. 前記第一の遮光部および前記第二の遮光部は、蒸着によって形成される
   ことを特徴とする請求項１から請求項３のうちのいずれか１項記載の回帰反射形光電センサ。
5. 前記第一の遮光部および前記第二の遮光部は、塗装によって形成される
   ことを特徴とする請求項１から請求項３のうちのいずれか１項記載の回帰反射形光電センサ。
6. 前記第一の遮光部および前記第二の遮光部は、印刷によって形成される
   ことを特徴とする請求項１から請求項３のうちのいずれか１項記載の回帰反射形光電センサ。
7. 前記第一の遮光部および前記第二の遮光部は、前記投光レンズおよび前記受光レンズと一体成型される
   ことを特徴とする請求項１記載の回帰反射形光電センサ。
8. 前記第一の遮光部および前記第二の遮光部は、シールによって形成される
   ことを特徴とする請求項１または請求項３記載の回帰反射形光電センサ。

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