JP2017005064A5 - 半導体装置 - Google Patents

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Claims (6)

  1. トランジスタを有する半導体装置であって、
    前記トランジスタは、
    第1のゲート電極と、
    前記第1のゲート電極上の第1のゲート絶縁膜と、
    前記第1のゲート絶縁膜上の第1の酸化物半導体膜と、
    前記第1の酸化物半導体膜上の第2のゲート絶縁膜と、
    前記第2のゲート絶縁膜上の第2の酸化物半導体膜と、を有し、
    前記第2の酸化物半導体膜は、第2のゲート電極として機能する領域を有し、
    前記第2の酸化物半導体膜と重なる領域において、前記第1の酸化物半導体膜は、第1の層と、前記第1の層の上面と接し、且つ前記第1の層のチャネル幅方向の側面を覆う第2の層と、を有することを特徴とする半導体装置。
  2. トランジスタを有する半導体装置であって、
    前記トランジスタは、
    第1のゲート電極と、
    前記第1のゲート電極上の第1のゲート絶縁膜と、
    前記第1のゲート絶縁膜上の第1の酸化物半導体膜と、
    前記第1の酸化物半導体膜上の第2のゲート絶縁膜と、
    前記第2のゲート絶縁膜上の第2の酸化物半導体膜と、を有し、
    前記第2の酸化物半導体膜は、第2のゲート電極として機能する領域を有し、
    前記第2の酸化物半導体膜と重なる領域において、前記第1の酸化物半導体膜は、第1の層と、前記第1の層の上面と接し、且つ前記第1の層のチャネル幅方向の側面を覆う第2の層と、前記第1の層の下面と接する第3の層と、を有することを特徴とする半導体装置。
  3. 請求項1または請求項2において、
    前記第1のゲート電極は、前記第2のゲート電極と電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。
  4. 請求項1乃至請求項3のいずれか一項において、
    前記第1の酸化物半導体膜のソース領域及びドレイン領域は、水素、ホウ素、炭素、窒素、フッ素、リン、硫黄、または希ガスの1以上を有することを特徴とする半導体装置。
  5. 請求項1乃至請求項のいずれか一項において、
    前記第1の酸化物半導体膜、及び前記第2の酸化物半導体膜の少なくとも方は、Inと、Znと、M(MはAl、Ga、Y、またはSn)と、を有することを特徴とする半導体装置。
  6. 請求項1乃至請求項5のいずれか一項において、
    前記第1の酸化物半導体膜、及び前記第2の酸化物半導体膜の少なくとも方は、c軸配向性を有する結晶を有することを特徴とする半導体装置。
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